一种示例性研磨机/抛光机系统包括：样本固持器，该样本固持器被配置成固定样本；台板；致动器，该致动器被配置成移动该样本固持器和该台板中的至少一者；传感器，该传感器被配置成检测该传感器的视野内的物体；以及控制器，该控制器被配置成控制该致动器的移动，并且在该致动器移动时响应于该传感器检测到物体而停止该致动器。停止该致动器。停止该致动器。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有接近传感器的研磨/抛光系统和方法
[0001]相关申请
[0002]本申请要求于2020年10月26日提交的名称为“GRINDING/POLISHING SYSTEMS AND METHODS HAVING PROXIMITY SENSORS[具有接近传感器的研磨/抛光系统和方法]”的美国临时专利申请序列号63/105,725的权益。美国专利申请序列号63/105,725的全部内容通过援引明确并入本文。
技术介绍
[0003]本公开内容总体上涉及研磨/抛光系统，更特别地涉及具有接近传感器的研磨/抛光系统和方法。
[0004]出于许多目的并跨越多种多样的部门和行业对样本执行研磨和抛光操作。在一些应用中，通过研磨/抛光操作对样本进行的表面制备是例如在制造部门中测试材料和部件时所依赖的样本测试(比如显微镜检查)的先决条件。研磨/抛光装置既能够执行研磨操作又能够执行抛光操作，以将样本加工到特定应用所需的光洁度。
技术实现思路
[0005]公开了具有接近传感器的研磨/抛光系统和方法，这些研磨/抛光系统和方法基本上通过附图中的至少一张附图展示并且结合该至少一张附图进行描述，如同在权利要求中更完整地阐述的那样。
附图说明
[0006]图1展示了根据本公开内容的各方面的具有一个或多个感测装置的示例性研磨/抛光装置，该一个或多个感测装置被配置成检测外来物进入到接近(proximate)研磨/抛光装置的体积。
[0007]图2是表示图1的示例性研磨/抛光装置的框图。
[0008]图3A和图3B是图1的示例性研磨/抛光装置的平面图，包括用于检测外来物的示例性感测装置和对应的视野。
[0009]图4是表示示例性机器可读指令的流程图，这些机器可读指令可以由图2的控制器执行，以响应于检测到外来物进入体积而关闭研磨/抛光装置的一个或多个致动器。
[0010]附图不一定按比例绘制。在适当情况下，相似或相同的附图标记用于表示相似或相同的部件。
具体实施方式
[0011]研磨/抛光系统涉及使用一个或多个电动机或其他致动器来研磨和/或抛光样本。然后，经抛光的样本可以用于测试产生样本的制造工艺或其他工艺，比如通过执行视觉检查、硬度测试及/或任何其他期望的测试。然而，对研磨/抛光操作的物理干扰(比如通过外来物与研磨/抛光设备和/或样本之间的接触)是不期望的。
[0012]所公开的示例性研磨/抛光系统和方法监测研磨/抛光操作和/或设备周围的体积，并且响应于检测到外来物接近研磨/抛光操作而自动关闭或禁用设备(例如，电动机、致动器等)。可以用于监测体积的示例性技术包括超声波感测、回射接近感测、光学和/或图像感测、和/或光幕的使用。示例性研磨/抛光系统防止进一步使用或操作研磨/抛光系统，直到检测到外来物的移除为止。
[0013]为了利于对所要求保护的技术的原理的理解并呈现其当前理解的最佳操作模式，现将参考附图中展示的实施例，并且将使用特定语言来描述这些实施例。然而，应当理解，这样不旨在限制所要求保护的技术的范围，因为本文所展示的所要求保护的技术的原理的所展示的装置以及这些进一步的应用的任何更改和进一步的修改是所要求保护的技术所属的领域的技术人员通常所能想到的。
[0014]如本文中所使用的，词语“示例性”是指“用作示例、实例或图示”。本文中所描述的实施例不是限制性的，而仅是示例性的。应当理解，所描述的实施例不一定被解释为较其他实施例是优选的或有利的。而且，术语“实施例”不要求所有所公开的实施例都包括所讨论的特征、优点或操作模式。
[0015]如本文所使用的，术语“电路”和“电路系统”是指物理电子部件(即，硬件)以及可以配置硬件、由硬件执行和/或以其他方式与硬件相关联的任何软件和/或固件(“代码”)。如本文所使用的，例如，当执行第一组一行或多行代码时，特定处理器和存储器可以包括第一“电路”，并且当执行第二组一行或多行第二代码时，可以包括第二“电路”。如本文所使用的，“和/或”是指列表中由“和/或”连接的多个项中的任何一项或多项。例如，“x和/或y”是指三元素集合{(x),(y),(x,y)}中的任何元素。换言之，“x和/或y”是指“x和y中的一个或两个”。作为另一示例，“x、y和/或z”是指七元素集合{(x),(y),(z),(x,y),(x,z),(y,z),(x,y,z)}中的任何元素。换言之，“x、y和/或z”是指“x、y和z中的一个或多个”。如本文所使用的，术语“示例性”是指用作非限制性示例、实例或图示。如本文所使用的，术语“比如(e.g.)”和“例如(for example)”给出一个或多个示例、实例、或图示的清单。如本文所使用的，当电路系统包括执行某一功能所必要的硬件和代码(如果有必要的)时，该电路系统就“可操作”以执行该功能，而无论该功能的执行是否被禁用或未被启用(例如，通过操作员可配置的设定、出厂调节等)。
[0016]公开的示例性研磨机/抛光机系统包括：样本固持器，该样本固持器被配置成固定样本；台板；致动器，该致动器被配置成移动样本固持器和台板中的至少一者；传感器，该传感器被配置成检测传感器的视野内的物体；以及控制器，该控制器被配置成控制致动器的移动，并且在致动器移动时响应于传感器检测到物体而停止致动器。
[0017]在一些示例性研磨机/抛光机系统中，控制器被配置成：响应于操作的启动，识别来自传感器的背景信号，该操作的启动涉及通过致动器引起的移动；以及基于将来自传感器的监测信号与背景信号进行比较来检测物体。在一些示例中，控制器被配置成当监测信号与背景信号之间的差异满足阈值时检测到物体。
[0018]在一些示例性研磨机/抛光机系统中，致动器包括电动机和驱动致动器，并且控制器被进一步配置成(i)控制电动机根据所选择的研磨/抛光参数来使样本固持器和台板中的至少一者旋转，并且(ii)控制驱动致动器根据所选择的施加的负载来将样本或台板压入样本和台板中的另一者中。一些示例性研磨机/抛光机系统进一步包括用户界面，其中，控
制器被配置成响应于检测到物体而经由用户界面输出通知。
[0019]在一些示例中，传感器包括超声波传感器、回射接近传感器、光学传感器或光幕传感器中的至少一者。一些示例性研磨机/抛光机系统进一步包括多个传感器，该多个传感器包括上述传感器，其中多个传感器被配置成监测接近台板的对应的多个子体积。在一些示例中，控制器被配置成禁用致动器，直到经由传感器检测到物体的移除。
[0020]公开的控制研磨机/抛光机的示例性方法涉及：经由控制器控制致动器以移动研磨机/抛光机系统的样本固持器或研磨机/抛光机系统的台板中的至少一者；以及在致动器移动时响应于经由传感器检测到传感器的视野内的物体，控制致动器停止。
[0021]一些示例性方法进一步涉及：响应于操作的启动，识别来自传感器的背景信号，该操作的启动涉及通过致动器引起的移动；以及基于将来自传感器的监测信号与背景信号进行比较来检测物体。在一些示例性方法中，其中，当监测信号与背景信号之间本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种研磨机/抛光机系统，包括：样本固持器，所述样本固持器被配置成固定样本；台板；致动器，所述致动器被配置成移动所述样本固持器和所述台板中的至少一者；传感器，所述传感器被配置成检测所述传感器的视野内的物体；以及控制器，所述控制器被配置成控制所述致动器的移动，并且在所述致动器移动时响应于所述传感器检测到物体而停止所述致动器。2.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述控制器被配置成：响应于操作的启动，识别来自所述传感器的背景信号，所述操作的启动涉及通过所述致动器造成的移动；以及基于将来自所述传感器的监测信号与所述背景信号进行比较来检测物体。3.如权利要求2所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述控制器被配置成当所述监测信号与所述背景信号之间的差异满足阈值时检测到所述物体。4.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述致动器包括电动机和驱动致动器，所述控制器被进一步配置成(i)根据所选择的研磨/抛光参数控制所述电动机来使所述样本固持器和所述台板中的至少一者旋转，并且(ii)根据所选择的施加的负载来控制所述驱动致动器将所述样本或所述台板压入所述样本和所述台板中的另一者中。5.如权利要求4所述的研磨机/抛光机系统，进一步包括用户界面，所述控制器被配置成响应于检测到所述物体而经由所述用户界面输出通知。6.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，其中，所述传感器包括超声波传感器、回射接近传感器、光学传感器或光幕传感器中的至少一者。7.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，进一步包括含所述传感器的多个传感器，所述多个传感器被配置成监测接近所述台板的对应的多个子体积。8.如权利要求1所述的研磨机/抛光机系统，其中...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗兰，
申请(专利权)人：伊利诺斯工具制品有限公司，
类型：发明
国别省市：
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