一种采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台，包括陶瓷雕刻台和陶瓷雕刻激光架，所述陶瓷雕刻台的内部设置有内置台架，且内置台架的内侧下方安装有液体喷洒降温机构，所述陶瓷雕刻激光架设置于内置台架内侧上方，所述陶瓷雕刻台的前端设置有陶瓷雕刻内置台，且陶瓷雕刻内置台的下方安装有陶瓷雕刻下料机构，所述陶瓷雕刻下料机构的四周设置有支撑架。该采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台，改变陶瓷雕刻支撑工作台采用焊接一体结构，采用内置滑动结构，内置台通过嵌入轨滑动展开清理，接通水源设备于液体喷洒降温机构组件，进行液体雾气喷洒降温，利于激光设备散热，避免陶瓷雕刻灰尘过于集中。避免陶瓷雕刻灰尘过于集中。避免陶瓷雕刻灰尘过于集中。

【技术实现步骤摘要】
一种采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台


[0001]本技术涉及陶瓷雕刻支撑工作台
，具体为一种采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台。

技术介绍

[0002]雕刻机多种数据输入模式根据需要游刃有余，电脑雕刻机有激光雕刻和机械雕刻两类，这两类都有大功率和小功率之分，因为雕刻机的应用范围非常广泛，因此有必要了解各种雕刻机的最合适的应用范围，小功率的只适合做双色板、建筑模型、小型标牌、三维工艺品等，雕刻玉石、金属等则需要功率在1500W以上，大功率雕刻机可以做小功率雕刻机的东西。最适合做大型切割、浮雕、雕刻，但是陶瓷雕刻支撑工作台受到，雕刻机激光高温影响，内部陶瓷雕刻灰尘集中，设备老化等。
[0003]市场上的陶瓷雕刻支撑工作台采用焊接一体结构，内置温度过高，影响激光设备散热，陶瓷雕刻灰尘集中，陶瓷雕刻废料灰尘堆积，工作台内部可吸附颗粒物过多，清理不易，陶瓷雕刻机械工作时，支撑工作台内部灰尘扬起，吸风机排量有限。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台，以解决上述
技术介绍
中提出的市场上的陶瓷雕刻支撑工作台采用焊接一体结构，内置温度过高，影响激光设备散热，陶瓷雕刻灰尘集中，陶瓷雕刻废料灰尘堆积，工作台内部可吸附颗粒物过多，清理不易，陶瓷雕刻机械工作时，支撑工作台内部灰尘扬起，吸风机排量有限的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台，包括陶瓷雕刻台和陶瓷雕刻激光架，所述陶瓷雕刻台的内部设置有内置台架，且内置台架的内侧下方安装有液体喷洒降温机构，所述陶瓷雕刻激光架设置于内置台架内侧上方，所述陶瓷雕刻台的前端设置有陶瓷雕刻内置台，且陶瓷雕刻内置台的下方安装有陶瓷雕刻下料机构，所述陶瓷雕刻下料机构的四周设置有支撑架。
[0006]进一步的，所述陶瓷雕刻台与内置台架之间为固定连接，且内置台架与液体喷洒降温机构之间为活动连接。
[0007]进一步的，所述陶瓷雕刻台的内部贯穿有陶瓷雕刻内置台，且陶瓷雕刻内置台嵌入安装于液体喷洒降温机构内侧。
[0008]进一步的，所述嵌入轨与内置台之间为活动连接，且嵌入轨通过内置台与液体喷洒降温机构构成滑动结构。
[0009]进一步的，所述陶瓷雕刻下料机构包括软接罩和安装架，所述陶瓷雕刻下料机构的内部安装有安装架，且安装架的下方设置有软接罩。
[0010]进一步的，所述软接罩与安装架之间为螺纹连接，且软接罩和安装架与陶瓷雕刻下料机构构成卡扣结构。
[0011]进一步的，所述液体喷洒降温机构包括内置轨和液体喷洒降温头，所述液体喷洒
降温机构的内部安装有液体喷洒降温头，且液体喷洒降温头的内部设置有内置轨。
[0012]进一步的，所述内置轨与液体喷洒降温头之间为活动连接，且内置轨通过液体喷洒降温头与液体喷洒降温机构构成卡合结构。
[0013]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0014]该采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台，改变陶瓷雕刻支撑工作台采用焊接一体结构，采用内置滑动结构，内置台通过嵌入轨滑动展开清理，接通水源设备于液体喷洒降温机构组件，进行液体雾气喷洒降温，利于激光设备散热，避免陶瓷雕刻灰尘过于集中。
[0015]1.本技术喷洒降温的灰尘进入软接罩与安装架内部，接通水源设备于液体喷洒降温机构组件，进行液体雾气喷洒降温，降低工作台内部可吸附颗粒物含量，陶瓷雕刻废料灰尘堆积，采用软接罩与安装架螺纹拆卸清理。
[0016]2.本技术陶瓷雕刻机械工作完成后，滑动更换液体喷洒降温机构组件，降低支撑工作台内部灰尘扬起量，减轻吸风机排量负担，同时降低陶瓷雕刻支撑工作台内部温度，预防陶瓷雕刻支撑工作台设备受热老化等。
附图说明
[0017]图1为本技术立体结构示意图；
[0018]图2为本技术陶瓷雕刻下料机构的内部结构示意图；
[0019]图3为本技术液体喷洒降温机构的内部结构示意图。
[0020]图中：1、陶瓷雕刻台；2、内置台架；3、液体喷洒降温机构；301、内置轨；302、液体喷洒降温头；4、陶瓷雕刻激光架；5、支撑架；6、陶瓷雕刻内置台；601、嵌入轨；602、内置台；7、陶瓷雕刻下料机构；701、软接罩；702、安装架。
具体实施方式
[0021]实施例1
[0022]如图1所示，本技术提供一种技术方案：一种采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台，包括陶瓷雕刻台1和陶瓷雕刻激光架4，陶瓷雕刻台1的内部设置有内置台架2，且内置台架2的内侧下方安装有液体喷洒降温机构3，陶瓷雕刻激光架4设置于内置台架2内侧上方，陶瓷雕刻台1的前端设置有陶瓷雕刻内置台6，且陶瓷雕刻内置台6的下方安装有陶瓷雕刻下料机构7，陶瓷雕刻下料机构7的四周设置有支撑架5，陶瓷雕刻台1与内置台架2之间为固定连接，且内置台架2与液体喷洒降温机构3之间为活动连接，将内置台架2固定连接在陶瓷雕刻台1内侧，使得液体喷洒降温机构3组件分布安装于，陶瓷雕刻台1与内置台架2内部，陶瓷雕刻支撑工作台停止工作之后，接通水源设备于液体喷洒降温机构3组件，进行液体雾气喷洒，陶瓷雕刻台1的内部贯穿有陶瓷雕刻内置台6，且陶瓷雕刻内置台6嵌入安装于液体喷洒降温机构3内侧，将陶瓷雕刻内置台6整体贯穿滑动安装于，陶瓷雕刻台1与内置台架2内部，使得液体喷洒降温机构3组件分布于陶瓷雕刻内置台6两侧，进行液体雾气喷洒降温，嵌入轨601与内置台602之间为活动连接，且嵌入轨601通过内置台602与液体喷洒降温机构3构成滑动结构，将内置台602活动安装于陶瓷雕刻内置台6内部，使得嵌入轨601活动安装于内置台602两侧，内置台602通过嵌入轨601滑动安装于，陶瓷雕刻台1、内置台架2和液体喷洒降温机构3组件内侧，改变陶瓷雕刻支撑工作台采用焊接一体结构，采用内置滑动结
构，内置台602通过嵌入轨601滑动展开清理，接通水源设备于液体喷洒降温机构3组件，进行液体雾气喷洒降温，利于激光设备散热，避免陶瓷雕刻灰尘过于集中。
[0023]如图2所示，本技术提供一种技术方案：一种采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台，陶瓷雕刻下料机构7包括软接罩701和安装架702，陶瓷雕刻下料机构7的内部安装有安装架702，且安装架702的下方设置有软接罩701，软接罩701与安装架702之间为螺纹连接，且软接罩701和安装架702与陶瓷雕刻下料机构7构成卡扣结构，将陶瓷雕刻下料机构7组件安装于，陶瓷雕刻内置台6下方，同时将软接罩701螺纹连接封装在安装架702四周，有效的将软接罩701与安装架702防护安装于，陶瓷雕刻台1、内置台架2和液体喷洒降温机构3下方，喷洒降温的灰尘进入软接罩701与安装架702内部，接通水源设备于液体喷洒降温机构3组件，进行液体雾气喷洒降温，降低工作台内部可吸附颗粒物含量，陶瓷雕刻废料灰尘堆积，采用软接罩701与安装架702螺纹拆卸清理。
[0024]实施例2
[本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台，包括陶瓷雕刻台(1)、陶瓷雕刻激光架(4)、嵌入轨(601)与内置台(602)，其特征在于；所述陶瓷雕刻台(1)的内部设置有内置台架(2)，且内置台架(2)的内侧下方安装有液体喷洒降温机构(3)，所述陶瓷雕刻激光架(4)设置于内置台架(2)内侧上方，所述陶瓷雕刻台(1)的前端设置有陶瓷雕刻内置台(6)，且陶瓷雕刻内置台(6)的下方安装有陶瓷雕刻下料机构(7)，所述陶瓷雕刻下料机构(7)的四周设置有支撑架(5)。2.根据权利要求1所述的一种采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台，其特征在于：所述陶瓷雕刻台(1)与内置台架(2)之间为固定连接，且内置台架(2)与液体喷洒降温机构(3)之间为活动连接。3.根据权利要求1所述的一种采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台，其特征在于：所述陶瓷雕刻台(1)的内部贯穿有陶瓷雕刻内置台(6)，且陶瓷雕刻内置台(6)嵌入安装于液体喷洒降温机构(3)内侧。4.根据权利要求1所述的一种采用液体降温的陶瓷雕刻支撑工作台，其特征在于：所述嵌入轨(601)与内置台(602)之间为活动连接，且嵌入轨(601)通过内置台(60...

【专利技术属性】
技术研发人员：李芝青，
申请(专利权)人：河源市聚成精密科技有限公司，
类型：新型
国别省市：