窗模块及包括其的显示装置制造方法及图纸

技术编号:38394719 阅读:14 留言:0更新日期:2023-08-07 11:09
本发明专利技术公开了一种窗模块,窗模块包括:窗;第一抗反射层,设置在窗上;以及第二抗反射层,设置在第一抗反射层上,包括氟化镁并且具有比第一抗反射层的折射率小的折射率。第一抗反射层的折射率小的折射率。第一抗反射层的折射率小的折射率。

【技术实现步骤摘要】
窗模块及包括其的显示装置


[0001]本专利技术的实施方式大体上涉及窗模块及包括该窗模块的显示装置。

技术介绍

[0002]显示装置包括显示面板和设置在显示面板上的窗。为了提高显示装置的显示质量,已经开发了能够降低显示装置的反射率的结构。

技术实现思路

[0003]实施方式提供了窗模块。
[0004]实施方式提供了包括该窗模块的显示装置。
[0005]根据实施方式的窗模块包括:窗;第一抗反射层,设置在窗上;以及第二抗反射层,设置在第一抗反射层上,包括氟化镁(MgF2),并且具有比第一抗反射层的折射率小的折射率。
[0006]在实施方式中,第一抗反射层可以包括:第一无机层,具有第一折射率;第二无机层,设置在第一无机层上并且具有比第一折射率大的第二折射率;以及第三无机层,设置在第二无机层上并且具有比第一折射率和第二折射率中的每个小的第三折射率。
[0007]在实施方式中,第一折射率可以是约1.6至约1.8。
[0008]在实施方式中,第一无机层可以包括氮氧化硅(SiON)。
[0009]在实施方式中,第二折射率可以是约1.7至约2.0。
[0010]在实施方式中,第二无机层可以包括氮化硅(SiN
x
)。
[0011]在实施方式中,第二无机层可以包括氮氧化硅(SiON)。
[0012]在实施方式中,第三折射率可以是约1.5至约1.6。
[0013]在实施方式中,第三无机层可以包括氧化硅(SiO
x/>)。
[0014]在实施方式中,第一无机层的第一厚度可以是约60纳米(nm)至约100nm,第二无机层的第二厚度可以是约100nm至约130nm,以及第三无机层的第三厚度可以是约15nm至约25nm。
[0015]在实施方式中,第二抗反射层的折射率可以是约1.3至约1.5。
[0016]在实施方式中,第二抗反射层的厚度可以是约20nm至约70nm。
[0017]在实施方式中,窗模块还可以包括设置在第二抗反射层上的中间层以及涂覆在中间层上的抗指纹层。
[0018]在实施方式中,中间层可以包括氧化硅(SiO
x
)。
[0019]在实施方式中,中间层可以包括Si9Al2O
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[0020]根据实施方式的显示装置包括:显示面板,显示图像;以及窗模块,设置在显示面板上。窗模块包括:窗;第一抗反射层,设置在窗上;以及第二抗反射层,设置在第一抗反射层上,包括氟化镁(MgF2),并且具有比第一抗反射层的折射率小的折射率。
[0021]在实施方式中,第一抗反射层可以包括:第一无机层,具有第一折射率;第二无机
层,设置在第一无机层上并且具有比第一折射率大的第二折射率;以及第三无机层,设置在第二无机层上并且具有比第一折射率和第二折射率中的每个小的第三折射率。
[0022]在实施方式中,显示面板可以包括:衬底;晶体管,设置在衬底上;以及发射层,设置在晶体管上。
[0023]因此,根据本专利技术的实施方式的窗模块可以包括第一抗反射层和第二抗反射层。第一抗反射层可以具有其中第一无机层、第二无机层和第三无机层依次堆叠的结构。第二抗反射层可以设置在第三无机层上。第一无机层的第一折射率可以小于第二无机层的第二折射率并且大于第三无机层的第三折射率。第二抗反射层的折射率可以小于第一抗反射层的折射率。因此,第一抗反射层和第二抗反射层引起入射光和反射光彼此相消干涉,从而有效地抑制外部光的反射。
附图说明
[0024]被包括以提供对本专利技术的进一步理解并且被并入本说明书中并构成本说明书的一部分的附图与说明书一起示出了本专利技术的实施方式。
[0025]图1是示出根据本专利技术的实施方式的显示装置的剖视图。
[0026]图2是示出包括在图1的显示装置中的显示面板的剖视图。
[0027]图3是示出根据比较实施方式的显示装置的剖视图。
[0028]图4是示出通过测量图3的显示装置的反射率而获得的实验值的表。
[0029]图5是示出通过测量图1的显示装置的反射率而获得的实验值的表。
[0030]图6是示出制造图1的显示装置的方法的流程图。
[0031]图7至图11是示出制造图1的显示装置的方法的剖视图。
[0032]图12是示出根据本专利技术的另一实施方式的显示装置的剖视图。
具体实施方式
[0033]将理解,当元件被称为“在”另一元件“上”时,它可以直接在另一元件上,或者其间可以存在居间的元件。相反,当元件被称为“直接在”另一元件“上”时,不存在居间的元件。
[0034]将理解,尽管本文中可以使用术语“第一”、“第二”、“第三”等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分,但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受到这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件、组件、区域、层或部分与另一元件、组件、区域、层或部分区分开。因此,在不背离本文中的教导的情况下,下面讨论的“第一元件”、“第一组件”、“第一区域”、“第一层”或“第一部分”可以被称作第二元件、第二组件、第二区域、第二层或第二部分。
[0035]本文中所使用的术语仅用于描述特定实施方式的目的,而不旨在进行限制。如本文中所使用的,“一(个)”、“一种”、“该”和“至少一个(种)”不表示数量的限制,并且除非上下文另外清楚地指示,否则旨在包括单数和复数两者。例如,除非上下文另外清楚地指示,否则“一元件”具有与“至少一个元件”相同的含义。“至少一个(种)”不应被解释为限制“一个”或“一种”。“或”意指“和/或”。如本文中所使用的,术语“和/或”包括一个或多个相关联的所列项目的任何和所有组合。还将理解,术语“包括(comprises)”和/或“包括(comprising)”或者“包括(includes)”和/或“包括(including)”在本说明书中使用时,指
定所陈述的特征、区域、整体、步骤、操作、元件和/或组件的存在,但不排除一个或多个其它特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组件和/或其组的存在或添加。
[0036]如本文中所使用的“约”或“近似”包括所述值和在由本领域普通技术人员考虑所讨论的测量和与特定量的测量相关的误差(即,测量系统的限制)所确定的特定值的可接受偏差范围内的平均值。例如,“约”可以意指在一个或多个标准偏差内,或在所述值的
±
30%、
±
20%、
±
10%或
±
5%内。通过以下结合附图的详细描述,将会更清楚地理解说明性的、非限制性的实施方式。
[0037]图1是示出根据本专利技术的实施方式的显示装置的剖视图。
[0038]参考图1,根据实施方式的显示装置1000可以包括显示面板PNL、粘合层ADL和窗模块WM。窗模块WM可以包括窗WIN、第一抗反射层100、第二抗反射层200、中间层IML和抗指纹层AFL本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种窗模块,包括:窗;第一抗反射层,设置在所述窗上;以及第二抗反射层,设置在所述第一抗反射层上,包括氟化镁,并且具有比所述第一抗反射层的折射率小的折射率。2.根据权利要求1所述的窗模块,其中,所述第一抗反射层包括:第一无机层,具有第一折射率;第二无机层,设置在所述第一无机层上并且具有比所述第一折射率大的第二折射率;以及第三无机层,设置在所述第二无机层上并且具有比所述第一折射率和所述第二折射率中的每个小的第三折射率。3.根据权利要求2所述的窗模块,其中,所述第一折射率为1.6至1.8。4.根据权利要求2所述的窗模块,其中,所述第一无机层包括氮氧化硅。5.根据权利要求2所述的窗模块,其中,所述第二折射率为1.7至2.0。6.根据权利要求2所述的窗模块,其中,所述第二无机层包括氮化硅。7.根据权利要求2所述的窗模块,其中,所述第二无机层包括氮氧化硅。8.根据权利要求2所述的窗模块,其中,所述第三折射率为1.5至1.6。9.根据权利要求2所述的窗模块,其中,所述第三无机层包括氧化硅。10.根据权利要求2所述的窗模块,其中,所述第一无机层的第一厚度为60nm至100nm,其中,所述第二无机层的第二厚度为100nm至130nm,以及其中,所述第三无机层的第三厚度为15nm至25nm。11.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:梁基勳金兑敃徐奉成申东根李瑟琪林虎
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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