一种显影液及无透明残膜残留的显影工艺制造技术

本发明专利技术涉及一种显影液及无透明残膜残留的显影工艺，所述显影液包括以下重量份的原料：8—10份碳酸钠，8—10份碳酸钾，3—5份三聚磷酸钠，5—8份十二烷基硫酸钠，2—4份脂肪酸聚乙二醇酯，4—6份二丙二醇，3—5苯甲酸钠，6—8份氨基苯甲酸，1—2份聚苯乙烯，65—70份水和2—4份二胺或多胺脂族碱性化合物。本发明专利技术通过加入新型的显影液不仅能够确保透明残膜被清洗干净，而且通过无透明残膜残留的显影工艺进一步减少了过滤芯的使用，减少大量滤芯废弃物，而且水槽数量减少，减少耗电量，节约用水量，进一步减少了能源的消耗。进一步减少了能源的消耗。进一步减少了能源的消耗。

【技术实现步骤摘要】
一种显影液及无透明残膜残留的显影工艺


[0001]本专利技术涉及电路板显影
，尤其是涉及一种显影液及无透明残膜残留的显影工艺。

技术介绍

[0002]PCB加工生产对环境会产生严重污染。如果污染状况不改变，中国PCB行业的未来发展令人堪忧。在过去几年，很多PCB企业投入了大量的人力物力，在治理污染、循环经济、节能降耗方面做了不少工作。
[0003]传统添加新液(碳酸钠)方式为50%加入显影槽、50%加入新液洗槽(若添加500升，即250升到显影槽、250升到新液洗槽)，然后新液洗槽溢流显影槽，再从显影槽溢流掉。现有技术中，为了避免显影后电路板清洗不干净，通常设计超过10槽以上(常见为12—15槽)的水洗槽，耗电量大(1个水洗槽要用1台泵浦)，滤芯耗用量大(1个水洗槽至少使用4支滤芯，至少2—3天更换1次)，耗水量大(每个进水点15—20升/分钟进水量)，并且由于设备输送装置装配有上滚轮及挤水滚轮，会在生产中造成透明残膜(SCUM)粘附到上滚轮及挤水滚轮后，再反向粘附到电路板表面，无法确保透明残膜(SCUM)能被清洗干净，且肉眼无法观察到，导致后续工艺制程发现时已经报废，此为行业痛点。

技术实现思路

[0004]鉴于以上现有技术的不足，本专利技术提供了一种显影液及无透明残膜残留的显影工艺，不仅能够确保透明残膜被清洗干净，而且水槽数量减少，减少耗电量，节约用水量，进一步减少了能源的消耗。
[0005]为了实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供的技术方案如下：一种显影液，所述显影液包括以下重量份的原料：8—10份碳酸钠，8—10份碳酸钾，3—5份三聚磷酸钠，5—8份十二烷基硫酸钠，2—4份脂肪酸聚乙二醇酯，4—6份二丙二醇，3—5苯甲酸钠，6—8份氨基苯甲酸，1—2份聚苯乙烯，65—70份水和2—4份二胺或多胺脂族碱性化合物。
[0006]作为优选，包括以下重量份的原料：9份碳酸钠，9份碳酸钾，4份三聚磷酸钠，6.5份十二烷基硫酸钠，3份脂肪酸聚乙二醇酯，5份二丙二醇，4份苯甲酸钠，7份氨基苯甲酸，67.5份水和3份二胺或多胺脂族碱性化合物。
[0007]作为优选，包括以下重量份的原料：8份碳酸钠，8份碳酸钾，3份三聚磷酸钠，5份十二烷基硫酸钠，2份脂肪酸聚乙二醇酯，4份二丙二醇，3份苯甲酸钠，6份氨基苯甲酸，65份水和2份二胺或多胺脂族碱性化合物。
[0008]作为优选，包括以下重量份的原料：10份碳酸钠，10份碳酸钾，5份三聚磷酸钠，8份十二烷基硫酸钠，4份脂肪酸聚乙二醇酯，6份二丙二醇，5份苯甲酸钠，8份氨基苯甲酸，70份水和4份二胺或多胺脂族碱性化合物。
[0009]作为优选，所述二胺或多胺脂族碱性化合物是两种以上单体的化合物，所述单体
选自：二氨基烷烃，三氨基烷烃，多氨基烷烃，聚烷基亚胺和二氨基环己烷。
[0010]为了实现上述目的及其他相关目的，本专利技术还提供了一种应用该显影液的无透明残膜残留的显影工艺，其特征在于，所述工艺包括：M1.将曝光后的电路板放入滚轮输送带上，进入第一显影仓进行处理，得到电路板A；M2.将所述电路板A输送至第二显影仓进行处理，得到电路板B；M3.将所述电路板B输送至新液洗槽进行显影液喷洗，喷除所述电路板B面上殘留沾附的透明残膜或光阻殘渣，得到电路板C，显影液流入第二显影仓和第一显影仓；M4.将所述电路板C依次输送至第一水洗槽、第二水洗槽、第三水洗槽、第四水洗槽和第五水洗槽进行二流体喷嘴喷洗，喷除所述电路板C面上残留沾附的透明残膜或光阻残渣，得到电路板D，冲洗完毕含有透明残膜或光阻残渣的废水，直接排放不再使用；M5.将所述电路板D依次输送至第一循环水洗槽和第二循环水洗槽进行清洗，得到电路板E，清水由第二循环水洗槽溢流至第一循环水洗槽后，再供给第五水洗槽、第四水洗槽、第三水洗槽、第二水洗槽和第一水洗槽进行二流体喷嘴喷洗，所述二流体喷嘴包括喷嘴和调节支架，所述喷嘴设于电路板输送带的两侧，且与水平方向的夹角为55—65
°
，所述喷嘴设于所述调节支架上；M6.将所述电路板E输送至吹干仓进行吹干，然后输送至烘干仓进行烘干，最后得到显影后的电路板，出料完成。
[0011]作为优选的，所述烘干仓的温度为80—85℃，所述吹干仓的风速为100—120m/s。
[0012]作为优选的，所述显影仓中安装有过滤滤芯，所述过滤滤芯的过滤精度为90—110微米。
[0013]作为优选的，所述第一循环水洗槽安装有过滤滤芯，所述第二循环水洗槽安装有过滤滤芯。
[0014]作为优选的，所述第一循环水洗槽的过滤滤芯的过滤精度为1—2微米，所述第二循环水洗槽的过滤滤芯的过滤精度为1—2微米。
[0015]本专利技术具有以下积极效果：1.本专利技术电路板经过第一水洗槽、第二水洗槽、第三水洗槽、第四水洗槽和第五水洗槽进行喷洗，既能保证电路板的透明残膜或光阻残渣被清洗干净，也能减少水洗槽数量的设置，节约了水资源和电能的消耗，从而降低了生产成本。
[0016]2.本专利技术通过电路板显影到清洗整个过程在同一生产线上完成，既能保证电路板在加工过程中不会收到外界灰尘或杂质的影响，而且减少人工劳动，进一步降低了电路板加工过程中的生产成本。
[0017]3.本专利技术在电路板加工中设有第一循环水洗槽和第二循环水洗槽，通过过滤滤芯进行过滤，将水重复使用，在新水洗槽中也加入了过滤滤芯，将喷洗后的碳酸钠溶液输入至显影仓内，进行重复使用，进一步节约了水资源的消耗。
[0018]4.本专利技术通过加入新型的显影液不仅能够确保透明残膜被清洗干净，而且进一步减少了过滤芯的使用，减少大量滤芯废弃物。
附图说明
[0019]图1为本专利技术工艺流程示意图；图2为本专利技术的喷洗机构结构示意图。
具体实施方式
[0020]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0021]实施例1：一种显影液，所述显影液包括以下重量份的原料：8—10份碳酸钠，8—10份碳酸钾，3—5份三聚磷酸钠，5—8份十二烷基硫酸钠，2—4份脂肪酸聚乙二醇酯，4—6份二丙二醇，3—5苯甲酸钠，6—8份氨基苯甲酸，1—2份聚苯乙烯，65—70份水和2—4份二胺或多胺脂族碱性化合物。
[0022]在本实施例中，包括以下重量份的原料：9份碳酸钠，9份碳酸钾，4份三聚磷酸钠，6.5份十二烷基硫酸钠，3份脂肪酸聚乙二醇酯，5份二丙二醇，4份苯甲酸钠，7份氨基苯甲酸，67.5份水和3份二胺或多胺脂族碱性化合物。
[0023]在本实施例中，所述二胺或多胺脂族碱性化合物是两种以上单体的化合物，所述单体选自：二氨基烷烃，三氨基烷烃，多氨基烷烃，聚烷基亚胺和二氨基环己烷。
[0024]如图1所示，为了实现上述目的及其他相关目的，本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显影液，其特征在于，所述显影液包括以下重量份的原料：8—10份碳酸钠，8—10份碳酸钾，3—5份三聚磷酸钠，5—8份十二烷基硫酸钠，2—4份脂肪酸聚乙二醇酯，4—6份二丙二醇，3—5苯甲酸钠，6—8份氨基苯甲酸，1—2份聚苯乙烯，65—70份水和2—4份二胺或多胺脂族碱性化合物。2.根据权利要求1所述的显影液，其特征在于，包括以下重量份的原料：9份碳酸钠，9份碳酸钾，4份三聚磷酸钠，6.5份十二烷基硫酸钠，3份脂肪酸聚乙二醇酯，5份二丙二醇，4份苯甲酸钠，7份氨基苯甲酸，67.5份水和3份二胺或多胺脂族碱性化合物。3.根据权利要求1所述的显影液，其特征在于，包括以下重量份的原料：8份碳酸钠，8份碳酸钾，3份三聚磷酸钠，5份十二烷基硫酸钠，2份脂肪酸聚乙二醇酯，4份二丙二醇，3份苯甲酸钠，6份氨基苯甲酸，65份水和2份二胺或多胺脂族碱性化合物。4.根据权利要求1所述的显影液，其特征在于，包括以下重量份的原料：10份碳酸钠，10份碳酸钾，5份三聚磷酸钠，8份十二烷基硫酸钠，4份脂肪酸聚乙二醇酯，6份二丙二醇，5份苯甲酸钠，8份氨基苯甲酸，70份水和4份二胺或多胺脂族碱性化合物。5.根据权利要求1所述的显影液，其特征在于：所述二胺或多胺脂族碱性化合物是两种以上单体的化合物，所述单体选自：二氨基烷烃，三氨基烷烃，多氨基烷烃，聚烷基亚胺和二氨基环己烷。6.一种应用权利要求1—5任一项所述的显影液的无透明残膜残留的显影工艺，其特征在于，所述工艺包括：M1.将曝光后的电路板放入滚轮输送带上，进入第一显影仓进行处理，得到电路板A；M2.将所述电路板A输送至第二显影仓进行处理，得到电路板B；M3.将所述电路...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅新民，
申请(专利权)人：傅新民，
类型：发明
国别省市：