【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于检查和制造基板叠层的组合件的方法以及根据该方法制造的气密密封的封闭件
[0001]本专利技术涉及一种基板叠层、特别是气密密封的封闭件的制备和制造方法、基板组合件和气密密封的封闭件。
技术介绍
[0002]气密密封的封闭件旨在例如保护封闭件内的一个或更多个构件免受不利环境条件的影响。例如,敏感的电子装置、电路或传感器可以在密封封闭件中得到保护。以此方式,传感器或例如医疗植入物可以例如设置或用在心脏区域、在视网膜中或用于生物处理器。这些也可用作例如MEMS(微机电系统)、气压计、血气传感器、葡萄糖传感器等。由钛制成和使用的生物处理器是已知的。在电子应用中也可以找到使用封闭件的其他领域,例如虚拟现实眼镜和类似设备领域中的可穿戴设备、智能手机构件或封闭件。根据本专利技术的封闭件也可以用于生产流动电池,例如在电动汽车的背景下。其他应用领域包括航空航天工业、高温应用和微光学领域。
[0003]除了钛的生态过程,基本上已知的是,将多个零件共同结合并且这些零件以如下方式设置,即在可以容置部件的中间空间中产生容纳区域。例如,欧洲专利文献EP 3 012 059 B1示出了一种制造用于保护光学构件的透明零件的方法。在此使用了一种新型的激光方法。
[0004]为了保护电子设备,或者一般而言,为了保护任何功能装置或功能层,封闭件的气密密封通常是有利的。在封闭件的生产的背景下,在此通常的问题是所生产封闭件具有的品质或质量以及成品封闭件可以使用或必须报废的标准。根据应用情况的不同,可能很难确定在制造过程中是否已确保气密密封或 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于制造和/或检查基板叠层(1、9)的组合件的方法,所述方法包括以下步骤:将至少一个第一基板(3)平面地布置在第二基板(4)上,其中该至少两个基板彼此直接相邻地布置或彼此重叠地布置,使得在至少两个基板之间形成接触面(15),在所述接触面上第一基板与第二基板直接表面接触,并且其中所述第一基板包括透明材料;接收反射(24、24a),所述反射通过在基板叠层的至少一个接触面上用辐射(22)照射基板叠层而产生;以及由反射确定基板叠层的接触面的第一结合质量指数Q1。2.根据前一权利要求所述的方法,其中,所述第一结合质量指数Q1确定为Q1=1
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(A
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G)/A,其中A代表接触面(15)的面积,G代表良好面积,其中,所述良好面积G描述了基板之间的距离小于5μm、优选小于2μm、更优选小于1μm、更优选小于0.3μm的面积,并且/或者其中,所述结合质量指数Q1大于或等于0.8、优选地大于或等于0.9、更优选大于或等于0.95。3.根据前述权利要求中任一项所述的方法,还借助于单色辐射源(20)产生辐射(22),或者借助于光谱适应的辐射源(20)产生辐射(22),并且/或者其中,所述辐射(22)是低能辐射,其中辐射特别地具有不导致基板(3,4)的熔融或熔化的辐射功率,并且/或者从反射(24、24a)中选择单色或准单色区域,例如颜色通道。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,具有从反射(24、24a)读取图案的步骤,特别是干涉图案,特别是来自辐射与在基板叠层(1、9)的至少一个接触面(15)上的反射(24、24a)的叠加的图案。5.根据前一权利要求所述的方法,其中,所述图案具有其中图案围绕一个或更多个缺陷(17)延伸的布置,和/或其中,缺陷(17)的特征在于,基板(3、4)之间的距离大于5μm、优选大于2μm、更优选大于1μm、更优选大于0.3μm。6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,至少一个功能区域(2)被所述基板叠层(1、9)容纳,其中所述功能区域被特别设计为容纳腔,用于接收至少一个容纳对象(5),和/或其中,所述第一基板(3)具有外平侧和周向窄侧。7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,基板叠层(1、9)具有可用区域N,并且仅可用区域N用于计算第一结合质量指数Q1,和/或Q1确定为Q1=1
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(N
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G)/N。8.一种用于制造气密密封的封闭件(1)、特别是使用根据前述权利要求中任一项所述的方法制造气密密封的封闭件(1)的方法,具有以下步骤:将至少一个第一基板(3)平面地布置在第二基板(4)上,其中,该至少两个基板彼此直接相邻地布置或彼此重叠地布置,使得在该至少两个基板之间形成接触面(15),在所述接触面上第一基板与第二基板直接表面接触,并且其中所述第一基板包括透明材料;接收反射(24),所述反射通过在至少一个接触面上用辐射(22)照射基板叠层而产生;
由反射确定接触面的第一结合质量指数Q1;通过在所述封闭件的至少一个接触面的区域中将至少两个基板彼此直接连接来彼此气密密封连接至少两个基板,从而形连接区(6),其一方面延伸到第一基板中,另一方面延伸到第二基板中,并且至少两个基板通过熔化直接彼此结合;接收进一步的反射(24a),所述进一步的反射通过在所述封闭件的至少一个接触面上用辐射重新照射基板叠层而产生;以及由进一步的反射确定气密密封结合的封闭件的接触面的第二结合质量指数Q2。9.根据前一权利要求所述的方法,其中,Q2确定为Q2=1
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(A
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G)/A或Q2=1
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(N
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G)/N,其中A为第一接触面(15)的面积,其中G是良好面积,并且其中N是可用区域的面积。10.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,结合质量指数Q2大于或等于0.95、优选地大于或等于0.99、更优选地大于或等于0.999,和/或其中,Q2大于Q1、特别是Q2/Q1>1.001。11.根据前述权利要求中任一项所述的方法,进一步包括通过确定所述至少两个基板之间的距离分布(126、150)和/或通过验证(170)Q2满足确保气密结合的最低要求来检查所述至少两个基板(3、4)的气密结合的步骤。12.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,至少两个基板(3、4)的气密密封连接(140)的步骤是通过激光连接方法进行的,其中激光产生连...
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