本公开提供了一种半导体光阻喷涂装置，包括：用于对晶圆喷涂光阻剂的喷嘴；用于不断向所述喷嘴提供光阻溶液的缓冲罐，所述缓冲罐与所述喷嘴相连；用于储存光阻剂并向所述缓冲罐添加光阻剂的光阻瓶；以及用于去除向所述缓冲罐添加光阻剂过程中产生的气泡的气泡去除机构，所述气泡去除机构连接在所述缓冲罐与所述光阻瓶之间。本公开的半导体光阻喷涂装置，在光阻剂补充进搅拌筒后，通过气泡去除机构去除气泡，有利于光阻喷涂的顺利进行，并能够降低光阻喷涂过程中产生上光不良或者膜厚异常现象的几率。象的几率。象的几率。
【技术实现步骤摘要】
一种半导体光阻喷涂装置
[0001]本公开涉及晶圆喷涂领域，尤其涉及一种半导体光阻喷涂装置。
技术介绍
[0002]在目前半导体工艺中，晶圆涂胶的状态会影响后续的工艺。其中光阻喷涂这一步骤尤为重要，当光阻喷涂需要补充光阻剂时，经常会因为产生气泡导致机台报警，使机台不能正常喷涂光阻，并且当气泡产生时喷涂的光阻量也得不到保障，产生上光不良或者膜厚异常的现象，从而对后续工艺产生不利影响。所以如何在光阻补液这一动作时减少气泡的产生是现在亟需解决的技术问题。
技术实现思路
[0003]本公开的主要目的在于提供一种半导体光阻喷涂装置，以至少解决现有技术中存在的以上技术问题。
[0004]为了实现上述目的，本公开提供了一种半导体光阻喷涂装置，包括：用于对晶圆喷涂光阻剂的喷嘴；用于不断向所述喷嘴提供光阻溶液的缓冲罐，所述缓冲罐与所述喷嘴相连；用于储存光阻剂并向所述缓冲罐添加光阻剂的光阻瓶；以及用于去除向所述缓冲罐添加光阻剂过程中产生的气泡的气泡去除机构，所述气泡去除机构连接在所述缓冲罐与所述光阻瓶之间。
[0005]在一可实施方式中，所述气泡去除机构包括搅拌筒与搅拌器，所述搅拌器通过搅拌电机驱动，所述搅拌筒上设置光阻剂添加口与光阻剂排出口，所述光阻剂添加口连通至所述光阻瓶，所述光阻剂排出口连通至所述缓冲罐。
[0006]在一可实施方式中，所述搅拌筒的的底部设置成锥形，所述搅拌器包括搅拌轴，所述搅拌电机设置在所述搅拌筒的顶部，所述搅拌轴的一端转动连接于所述搅拌电机的输出轴。
[0007]在一可实施方式中，所述光阻剂排出口设置在所述搅拌筒的底部。
[0008]在一可实施方式中，所述搅拌器还包括设置在所述搅拌轴上的第一搅拌桨和第二搅拌桨，所述第一搅拌桨靠近所述搅拌筒的底部设置，所述第二搅拌桨设置在所述第一搅拌桨的上侧。
[0009]在一可实施方式中，所述第一搅拌桨包括至少两个向上折弯设置的第一桨叶。
[0010]在一可实施方式中，所述第二搅拌桨的每个桨叶均包括两个桨片，同一桨叶上的所述桨片交错设置。
[0011]在一可实施方式中，所述光阻剂添加口处设置有流量控制阀。
[0012]在一可实施方式中，所述光阻剂排出口处设置有用于检测气泡含量的气泡检测机构。
[0013]在一可实施方式中，所述气泡检测机构包括红外接收器与红外发射器，所述红外接收器与红外发射器水平设置。
[0014]本公开的半导体光阻喷涂装置，在光阻剂补充进搅拌筒后，通过气泡去除机构去除气泡，具体为，通过搅拌轴的搅拌，在搅拌桶内产生离心力，使得因补充光阻剂过程中产生的气泡破碎，并逐渐使气液分离，高速旋转的第一搅拌桨使得气泡上升，第二搅拌桨提供的剪切力继而可以撕碎气泡，气泡释放出的液体立即被离心力摔向搅拌筒的内筒壁，气泡撞击内筒壁而被击破转变为液体，并压缩为液流重新回到液体中，进而能够减少光阻损失，有利于光阻喷涂的顺利进行，降低产生上光不良或者膜厚异常现象的几率。
[0015]应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本公开的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
[0016]通过参考附图阅读下文的详细描述，本公开示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例性而非限制性的方式示出了本公开的若干实施方式，其中：
[0017]在附图中，相同或对应的标号表示相同或对应的部分。
[0018]图1是本公开一个实施例的半导体光阻喷涂装置的结构示意图；
[0019]图2是本公开一个实施例的气泡去除机构的结构示意图；
[0020]图3是本公开一个实施例的搅拌器的结构示意图。
[0021]其中，上述附图包括以下附图标记：
[0022]1、喷嘴；2、缓冲罐；3、光阻瓶；4、气泡去除机构；41、搅拌筒；411、光阻剂添加口；412、光阻剂排出口；42、搅拌器；421、搅拌轴；422、第一搅拌桨；4221、第一桨叶；42211、连接部；42212、折弯部；423、第二搅拌桨；4231、桨片；43、搅拌电机；5、流量控制阀；6、气泡检测机构；61、红外接收器；62、红外发射器。
具体实施方式
[0023]为使本公开的目的、特征、优点能够更加的明显和易懂，下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而非全部实施例。基于本公开中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
[0024]参照图1，本实施例提供了一种半导体光阻喷涂装置，包括：喷嘴1、缓冲罐2、光阻瓶3与气泡去除机构4，喷嘴1用于对晶圆喷涂光阻溶液，缓冲罐2与喷嘴1相连，用于不断向喷嘴1提供光阻溶液；光阻瓶3用于储存光阻剂并向缓冲罐2添加光阻剂；气泡去除机构4连接在缓冲罐2与光阻瓶3之间，用于去除向缓冲罐2添加光阻剂过程中产生的气泡。
[0025]在本公开的实施例中，气泡去除机构4包括搅拌筒41与搅拌器42，搅拌器42通过搅拌电机43驱动，搅拌筒41上设置光阻剂添加口411与光阻剂排出口412，光阻剂添加口411连通至光阻瓶3，光阻剂排出口412连通至缓冲罐2。具体的，搅拌筒41的底部设置成锥形，光阻剂排出口412设置在搅拌筒41底部的锥尖处。
[0026]在本公开的实施例中，光阻剂添加口411处设置有流量控制阀5，可以通过流量阀控制向搅拌筒41中添加光阻剂的量。
[0027]在本公开的实施例中，搅拌器42包括搅拌轴421，搅拌轴421的一端转动连接于搅
拌筒41的顶部，且与搅拌电机43的输出轴同轴连接。
[0028]参照图2和图3，在本公开的实施例中，搅拌器42还包括设置在搅拌轴421上的第一搅拌桨422和第二搅拌桨423，第一搅拌桨422靠近搅拌筒41的底部设置，第二搅拌桨423设置在第一搅拌桨422的上侧。
[0029]具体的，第一搅拌桨422包括至少两个向上折弯设置的第一桨叶4221，第一桨叶4221包括连接部42211与折弯部42212，折弯部42212通过连接部42211与搅拌轴421相连，折弯部42212平行于搅拌筒41的锥形底壁。
[0030]第二搅拌桨423的每个桨叶均包括两个桨片4231，同一桨叶上的桨片4231交错设置，交错设置的夹角在30
‑
60
°
之间。
[0031]在本公开的实施例中，光阻剂补充进搅拌筒41后，通过搅拌轴421的搅拌，在搅拌桶内产生离心力，使得因补充光阻剂过程中产生的气泡破碎，并逐渐使气液分离，高速旋转的第一搅拌桨422使得气泡上升，第二搅拌桨423提供的剪切力继而可以撕碎气泡，气泡释放出的液体立即被离心力摔向搅拌筒41的内筒壁，气泡撞击内筒壁而被击破转变为液体，并压缩为液流重新回到液体中，进而能够减少光阻本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体光阻喷涂装置，其特征在于，包括：喷嘴(1)，用于对晶圆喷涂光阻剂；缓冲罐(2)，与所述喷嘴(1)相连，用于不断向所述喷嘴(1)提供光阻溶液；光阻瓶(3)，用于储存光阻剂，并向所述缓冲罐(2)添加光阻剂；气泡去除机构(4)，用于去除向所述缓冲罐(2)添加光阻剂过程中产生的气泡，连接在所述缓冲罐(2)与所述光阻瓶(3)之间。2.根据权利要求1所述的半导体光阻喷涂装置，其特征在于，所述气泡去除机构(4)包括搅拌筒(41)与搅拌器，所述搅拌器通过搅拌电机(43)驱动，所述搅拌筒(41)上设置光阻剂添加口(411)与光阻剂排出口(412)，所述光阻剂添加口(411)连通至所述光阻瓶(3)，所述光阻剂排出口(412)连通至所述缓冲罐(2)。3.根据权利要求2所述的半导体光阻喷涂装置，其特征在于，所述搅拌筒(41)的底部设置成锥形，所述搅拌器包括搅拌轴(421)，所述搅拌电机设置在所述搅拌筒(41)的顶部，所述搅拌轴(421)的一端转动连接于所述搅拌电机的输出轴。4.根据权利要求3所述的半导体光阻喷涂装置，其特征在于，所述光阻剂排出口(412)设置在所述搅拌筒(41)的...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄晨，
申请(专利权)人：杭州富芯半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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