曝光系统、曝光器技术方案

本实用新型专利技术公开了一种曝光系统、曝光器。所述曝光系统包括：至少两个光源，每个所述光源出射的光的波长不同；合光器，所述合光器用于将所述至少两个光源的出射光合光后输出；光路组件以及标定与运动平台，所述标定与运动平台用于放置待曝光材料，所述光路组件用于将所述合光器输出的光传输至所述标定与运动平台上；控制组件，所述控制组件存储有预设配方，所述控制组件配置为根据所述预设配方控制每个所述光源的输出光强。本实用新型专利技术能够改善掩膜材料的配方选型与曝光、显影效果可操作窗口受限制较多，以及无法临时或短时间切换光源的问题。题。题。

【技术实现步骤摘要】
曝光系统、曝光器


[0001]本技术涉及光学
，尤其涉及一种曝光系统、曝光器。

技术介绍

[0002]曝光系统在黄光工艺中有着重要的应用，例如在HJT(Heterojunction Technology，异质结)高效电池的铜栅线工艺中，需要用曝光系统对感光材料进行曝光。
[0003]然而，现有的曝光系统多采用单一光源，使得掩膜材料的配方选型与曝光、显影效果可操作窗口受到较大程度的限制，使得显影后底切(undercut)过大，金字塔表面油墨过多；且无法临时或短时间内切换光源，使得光伏电池与掩膜材料新产品的导入周期较长，不利于产线后期的降本增效工作。

技术实现思路

[0004]本技术提供了一种曝光系统、曝光器，以改善掩膜材料的配方选型与曝光、显影效果可操作窗口受限制较多，以及无法临时或短时间切换光源的问题。
[0005]根据本技术的一方面，提供了一种曝光系统，所述曝光系统包括：
[0006]至少两个光源，每个所述光源出射的光的波长不同；
[0007]合光器，所述合光器用于将所述至少两个光源的出射光合光后输出；
[0008]光路组件以及标定与运动平台，所述标定与运动平台用于放置待曝光材料，所述光路组件用于将所述合光器输出的光传输至所述标定与运动平台上；
[0009]控制组件，所述控制组件存储有预设配方，所述控制组件配置为根据所述预设配方控制每个所述光源的输出光强。
[0010]可选地，所述光源为UV光源。
[0011]可选地，所述至少两个光源包括：激发365纳米波长的第一UV光源、激发385纳米波长的第二UV光源、激发395纳米波长的第三UV光源、激发405纳米波长的第四UV光源和激发425纳米波长的第五UV光源中的至少两种。
[0012]可选地，所述控制组件包括：存储器和控制器，所述存储器与所述控制器连接，所述至少两个光源与所述控制器连接；
[0013]所述存储器用于存储所述预设配方，所述控制器用于根据所述预设配方控制每个所述光源的输出光强。
[0014]可选地，所述控制组件还包括：
[0015]输入模块，所述输入模块用于向所述存储器中写入所述预设配方。
[0016]可选地，所述光路组件包括整形器件组和光学积分器；
[0017]所述整形器件组设置于所述光学积分器与所述合光器之间，所述整形器件组用于将圆形光斑整形为环形光斑。
[0018]可选地，所述曝光系统还包括与所述至少两个光源一一对应的多个散热模块；
[0019]所述控制组件配置为根据所述光源的输出光强调整对应散热模块的散热功率。
[0020]可选地，所述散热模块为风扇。
[0021]可选地，所述曝光系统还包括外壳。
[0022]根据本技术的另一方面，提供了一种曝光器，所述曝光器包括如上所述的曝光系统。
[0023]本技术实施例的技术方案，采用的曝光系统包括：至少两个光源，每个光源出射的光的波长不同；合光器，合光器用于将至少两个光源的出射光合光后输出；光路组件以及标定与运动平台，标定与运动平台用于放置待曝光材料，光路组件用于将合光器输出的光传输至标定与运动平台上；控制组件，控制组件存储有预设配方，控制组件配置为根据预设配方控制每个光源的输出光强。通过在控制组件中存储预设配方，控制组件可快速的调整各个光源的输出光强，从而使得不同波长光源混波的效果在短时间内完成切换，有利于缩短导入新材料的周期。
[0024]应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本技术的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本技术的范围。本技术的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
[0025]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0026]图1为本技术实施例提供的一种曝光系统的结构示意图；
[0027]图2为本技术实施例提供的又一种曝光系统的结构示意图；
[0028]图3为本技术实施例提供的又一种曝光系统的结构示意图。
具体实施方式
[0029]为了使本
的人员更好地理解本技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。
[0030]需要说明的是，本技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本技术的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
[0031]图1为本技术实施例提供的一种曝光系统的结构示意图，参考图1，曝光系统包括：至少两个光源11，每个光源出射的光的波长不同；合光器12，合光器12用于将至少两
个光源11的出射光合光后输出；光路组件13以及标定与运动平台14，标定与运动平台14用于放置待曝光材料，光路组件13用于将合光器12输出的光传输至标定与运动平台14上；控制组件15，控制组件15中存储有预设配方，控制组件15配置为根据预设配方控制每个光源11的输出光强。
[0032]具体地，HJT高效电池中铜栅线的制作工艺流程为：在前制程片上涂布感光材料、感光材料烘干、感光材料曝光、感光材料显影以及栅线金属化。曝光系统用于感光材料曝光的环节，在感光材料曝光的环节中，将待曝光材料放置在标定与运动平台14上，控制组件15控制光源11发出对应的光，随后合光器12将光源11发出的光混合后出射至光路组件13，光路组件13将合光器12输出的光发射至标定与运动平台上，其中，光路组件13和标定与运动平台14之间设置掩膜版，利用掩膜版对待曝光材料的待曝光区域进行曝光，从而实现曝光的工艺过程。其中，待曝光材料，也即感光材料中包含有多种成分的引发剂，每种引发剂对应的最佳曝光所需要光源的波长不同。在本实施例中，控制组件15中存储有预设配方，预设配方的数量可以是一个或者多个，其中，预设配方为感光材料的组分与每个光源11输出光强的对应关系。感光材料的组分包括可每种引发剂的质量分数。当感光材料的组分确定后，控制组件15可直接调用对应的预设配方调整各个光源11的输出光强本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光系统，其特征在于，所述曝光系统包括：至少两个光源，每个所述光源出射的光的波长不同；合光器，所述合光器用于将所述至少两个光源的出射光合光后输出；光路组件以及标定与运动平台，所述标定与运动平台用于放置待曝光材料，所述光路组件用于将所述合光器输出的光传输至所述标定与运动平台上；控制组件，所述控制组件存储有预设配方，所述控制组件配置为根据所述预设配方控制每个所述光源的输出光强。2.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述光源为UV光源。3.根据权利要求2所述的曝光系统，其特征在于，所述至少两个光源包括：激发365纳米波长的第一UV光源、激发385纳米波长的第二UV光源、激发395纳米波长的第三UV光源、激发405纳米波长的第四UV光源和激发425纳米波长的第五UV光源中的至少两种。4.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述控制组件包括：存储器和控制器，所述存储器与所述控制器连接，所述至少两个光源与所述控制...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕龙飞，董刚强，胡广豹，郁操，龚志清，王伟，
申请(专利权)人：苏州迈为科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：