提供了一种量测或检查系统、光刻设备以及方法。所述系统包括照射系统、光学系统、第一光学装置、第二光学装置、检测器和处理器。所述光学系统被配置成将照射束分成第一子束和第二子束。所述第一光学装置被配置成接收所述第一子束，并朝向衬底上的第一点引导所述第一子束。所述衬底包括一个或更多个目标结构。所述第二光学装置被配置成接收所述第二子束，并朝向衬底上的第二点引导所述第二子束。所述第一点是与所述第二点不同的部位。所述检测器被配置成接收衍射束并产生检测信号。所述处理器被配置成确定所述一个或更多个目标结构的特性。配置成确定所述一个或更多个目标结构的特性。配置成确定所述一个或更多个目标结构的特性。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】多物镜量测系统、光刻设备及其方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年11月24日提交的美国临时专利申请号63/117,742的优先权，该申请通过引用整体并入本文。
[0003]本公开涉及光刻设备中的光刻系统，例如具有多个物镜的检查系统。
技术介绍
[0004]光刻设备是将期望的图案施加至衬底上(通常施加至衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在那种情况下，图案形成装置(图案形成装置替代地称为掩模或掩模版)可以用以产生待形成在IC的单独的层上的电路图案。这种图案可以转印至衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯)上。图案的转印通常经由成像至被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行。通常，单个衬底将包含被连续地图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器，在步进器中，通过将整个图案一次性曝光到目标位置来辐照每个目标位置；以及所谓的扫描器，在扫描器中，通过在使辐射束以给定方向(“扫描”方向)扫描图案的同时，与所述扫描方向平行或反平行地同步地扫描目标位置来辐照每个目标位置。还可以通过将图案印制到衬底上来将图案从图案形成装置转印至衬底。
[0005]在光刻操作期间，不同的处理步骤可能需要将要被顺序地形成在衬底上的不同层。因此，可能需要相对于形成在衬底上的先前图案以高准确度或精度来定位衬底。通常，对准标记被放置在待对准的衬底上并且相对于第二物体定位。光刻设备可以使用检查设备(例如，对准设备)来检测对准标记的位置，并且使用对准标记来对准衬底以确保来自掩模的准确曝光。两个不同层处的对准标记之间的未对准被测量为重叠误差。检查设备使用单个物镜照射衬底上的点以进行单次测量。
技术实现思路
[0006]需要提供具有多物镜系统的系统，例如量测系统、检查系统等。
[0007]在一些实施例中，一种系统，包括照射系统、光学系统、第一光学装置、第二光学装置、检测器和处理器。所述照射系统被配置成产生照射束。所述光学系统被配置成将所述照射束分成第一子束和第二子束。所述第一光学装置被配置成接收所述第一子束，并朝向衬底上的第一点引导所述第一子束。所述衬底包括一个或更多个目标结构。所述第二光学装置被配置成接收所述第二子束，并朝向衬底上的第二点引导所述第二子束。所述第一点是与所述第二点不同的部位。所述检测器被配置成接收来自所述第一点和所述第二点的衍射束并产生检测信号。所述处理器被配置成分析所述检测信号，以至少基于所述检测信号确定所述一个或更多个目标结构的特性。
[0008]在一些实施例中，一种方法，包括将照射束分成第一子束和第二子束，经由第一光
学装置将所述第一子束引导到衬底上的第一点，并经由第二光学装置将所述第二子束引导到衬底上的第二点。所述第一点是与所述第二点不同的部位。所述衬底包括一个或更多个目标结构。所述方法还包括：基于在检测器处接收的来自所述第一点和所述第二点的衍射束产生检测信号，并分析所述检测信号，以至少基于所述检测信号确定所述一个或更多个目标结构的特性。
[0009]在一些实施例中，一种光刻设备，包括照射设备、投影系统和检查/量测系统。所述系统包括照射系统、光学系统、遮挡件系统、物镜系统和检测器。所述照射系统被配置成产生照射束。所述光学系统被配置成将所述照射束分成第一子束和第二子束。所述第一光学装置被配置成接收所述第一子束，并朝向衬底上的第一点引导所述第一子束。所述衬底包括一个或更多个目标结构。所述第二光学装置被配置成接收所述第二子束，并朝向衬底上的第二点引导所述第二子束。所述第一点是与所述第二点不同的部位。所述检测器被配置成接收来自所述第一点和所述第二点的衍射束并产生检测信号。所述处理器被配置成分析所述检测信号，以至少基于所述检测信号确定所述一个或更多个目标结构的特性。
[0010]下面参考附图详细描述本公开的其它特征，以及各个实施例的结构和操作。应注意，本公开不限于本文描述的特定实施例。在本文中呈现这些实施例仅是出于说明性目的。基于本文中包含的教导，相关领域技术人员将明白额外的实施例。
附图说明
[0011]并入本文中并且形成说明书的一部分的随附附图与描述一起图示出本公开，随附附图还用于解释本公开的原理并且使相关领域的技术人员能够实施和使用本文中描述的实施例。
[0012]图1A示出了根据一些实施例的反射型光刻设备的示意图。
[0013]图1B示出了根据一些实施例的透射型光刻设备的示意图。
[0014]图2示出了根据一些实施例的反射型光刻设备的更详细的示意图。
[0015]图3示出了根据一些实施例的光刻单元的示意图。
[0016]图4A和图4B示出了根据一些实施例的检查设备的示意图。
[0017]图5A示出了根据一些实施例的系统的示意图。
[0018]图5B示出了根据一些实施例的光学元件的示意图。
[0019]图6示出了根据一些实施例的示出量测系统中的光路的示意图。
[0020]图7示出了根据一些实施例的系统的示意图。
[0021]图8示出了根据一些实施例的系统的示意图。
[0022]图9A示出了根据一些实施例的系统的示意图。
[0023]图9B示出了根据一些实施例的在系统的检测器处的示例性图像。
[0024]图9C示出了根据一些实施例的在系统的检测器处的示例性图像。
[0025]图10示出了根据一些实施例的系统的示意图。
[0026]图11A至图11D示出了根据一些实施例的系统的俯视图的示意图。
[0027]图12示出了根据一些实施例的用于系统的连杆的示意图。
[0028]图13示出了根据一些实施例的用于系统的台配置的示意图。
[0029]图14示出了根据一些实施例的由系统执行的操作的流程图。
[0030]根据以下结合附图阐述的详细描述，本公开的特征将变得更加显而易见，其中相似的附图标记始终标识相应的元件。在附图中，相似的附图标记通常表示相同的、功能类似的和/或结构类似的元件。此外，附图标记的最左侧数字通常标识首次出现所述附图标记的附图。除非另有说明，否则在整个公开中提供的附图不应被解释为按比例绘制的附图。
具体实施方式
[0031]本说明书公开了包括本公开的特征的一个或更多个实施例。所公开的实施例仅被提供用于例示本公开。本公开的范围不限于所公开的实施例。所要求保护的特征由本公开所附的权利要求来限定。
[0032]在说明书中所描述的(多个)实施例以及对“一个实施例”、“实施例”、“示例性实施例”等的参考表示所描述的(多个)实施例可以包括特定特征、结构或特性，但是每个实施例可以不必包括所述特定特征、结构或特性。而且，这些措辞或短语不一定指的是相同的实施例。另外，当与实施例结合来描述特定特征、结构或特性时，应当理解，无论结合其它实施例来实现这样的特征、结构或特性是否被明确地描述，结合其它实施本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种系统，包括：照射系统，所述照射系统被配置成产生照射束；光学系统，所述光学系统被配置成将所述照射束分成第一子束和第二子束；第一光学装置，所述第一光学装置被配置成接收所述第一子束，并朝向衬底上的第一点引导所述第一子束，所述衬底包括一个或更多个目标结构；第二光学装置，所述第二光学装置被配置成接收所述第二子束，并朝向衬底上的第二点引导所述第二子束，其中，所述第一点是与所述第二点不同的部位；检测器，所述检测器被配置成接收来自所述第一点和所述第二点的衍射束并产生检测信号；和处理器，所述处理器被配置成分析所述检测信号，以至少基于所述检测信号确定所述一个或更多个目标结构的特性。2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述衍射束包括非零衍射阶。3.根据权利要求1所述的系统，其中，经由所述第一光学装置和所述第二光学装置收集所述衍射束，并且所述量测系统还包括：光学元件，所述光学元件被配置成接收来自所述第一光学装置和所述第二光学装置的衍射束，并重组所述衍射束。4.根据权利要求3所述的系统，其中，所述光学元件包括反射镜，所述反射镜包括两个反射象限和两个透射象限。5.根据权利要求1所述的系统，还包括：偏转元件，所述偏转元件被配置成将所述衍射束中的每个衍射束引导到所述检测器的对应的区域。6.根据权利要求1所述的系统，还包括：光学中继系统，所述光学中继系统被配置成将所述第二子束引导到第二物镜。7.根据权利要求6所述的系统，其中，所述光学中继系统包括透镜和反射镜。8.根据权利要求7所述的系统，还包括：连杆，所述连杆被配置成使所述透镜和所述第二光学装置相对于彼此保持预定距离。9.根据权利要求8所述的系统，其中，所述连杆将所述透镜和所述反射镜连接到所述第二光学装置的台。10.根据权利要求7所述的系统，其中，所述台包括驱动台，并且所述量测系统还包括非驱动台，所述非驱动台被配置成经由连杆控制所述透镜的运动。11.根据权利要求6所述的系统，还包括第二中继系统，所述第二中继系统被配置成将所述第一子束引导到所述第一光学装置。12.根据权利要求1所述的系统，其中，所述第二光学装置的相对于所述第一光学装置的位置是能够调整的。13.根据权利要求1所述的系统，还包括：第二光学系统，所述第二光学系统被配置成将所述衍射束中的每个衍射束的零衍射阶引导到所述检测器。14....
【专利技术属性】
技术研发人员：道格拉斯，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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