本实用新型专利技术公开了一种高阻燃密胺粉用研磨装置，包括机架、动力设备以及研磨机构；所述机架顶部固定安装有机壳，机壳内设有圆柱形的研磨腔，研磨机构位于研磨腔内部，动力设备位于机架底部，动力设备驱动连接研磨机构，所述机架包括顶架和立柱；所述转轴穿过机壳；所述研磨机构包括圆盘形的动研磨块以及静研磨块，动研磨块以及静研磨块均设有若干块，其中动研磨块与静研磨块之间留有间隙；本实用新型专利技术加工的密胺粉被多次研磨，其研磨细度更高，密胺粉的颗粒度更小；密胺粉经过研磨机构的研磨，颗粒度细化，符合要求的密胺粉从出料斗排出，使得密胺粉的颗粒度更加精细化，从而方便后续的高阻燃密胺粉的注塑成型。高阻燃密胺粉的注塑成型。高阻燃密胺粉的注塑成型。
【技术实现步骤摘要】
一种高阻燃密胺粉用研磨装置
[0001]本技术涉及密胺粉生产制备领域，具体是一种高阻燃密胺粉用研磨装置。
技术介绍
[0002]密胺餐具在市场上很常见，它又称为仿瓷餐具，本质上是一种塑料制品。密胺餐具外形美观、不易碎、阻燃、更换周期长，这些特性受到部分快餐店以及家庭青睐。密胺餐具的主要原料为高纯度的密胺树脂，密胺树脂是由三聚氰胺与甲醛反应得到的聚合物，它具有阻燃的优点。密胺的阻燃机理在于三聚氰胺通过分解吸热及生成不燃性气体以稀释可燃物而发挥作用。
[0003]密胺餐具一般通过粉料注塑成型，因此粉料的颗粒度就会影响成品的质量，密胺粉在生产过程的最后经由造粒机喷出，由于喷出时密胺粉的粘度很大，此时密胺粉会产生结块，而结块的电玉粉是无法投入生产的，因此需要对粉料进行进一步的研磨处理。
[0004]现有的研磨处理一般通过球磨机进行，细化程度较低，而且细化装置细化时容易含有大量的杂质不便筛选并排出，影响使用以及后续的生产。
技术实现思路
[0005]本技术的目的在于提供一种高阻燃密胺粉用研磨装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0007]一种高阻燃密胺粉用研磨装置，包括机架、动力设备以及研磨机构；所述机架顶部固定安装有机壳，机壳内设有圆柱形的研磨腔，研磨机构位于研磨腔内部，动力设备位于机架底部，动力设备驱动连接研磨机构，所述机架包括顶架和立柱；所述动力设备具体可以为减速电机，动力设备通过电机安装板固定安装在立柱的内侧，动力设备的输出轴通过联轴器驱动连接转轴；所述转轴穿过机壳；所述研磨机构包括圆盘形的动研磨块以及静研磨块，动研磨块以及静研磨块均设有若干块，其中动研磨块与静研磨块之间留有间隙；所述动研磨块以及静研磨块交错设置，其中动研磨块固定安装在转轴上，静研磨块固定安装在研磨腔的内壁上；其中研磨块上还设有扇形的第一下料缺口，其中静研磨块的圆心处开设有圆形的第二下料缺口，第二下料缺口还用于转轴的穿过。
[0008]进一步的，所述机壳的上下两端分别开设有进料口和出料口，进料口处安装有进料斗，出料口处安装有出料斗。
[0009]进一步的，所述顶架呈矩形状，顶架的底部四角处竖直向下固定连接有四根立柱，立柱之间还设有若干连接杆以增强机架的结构强度。
[0010]进一步的，所述转轴的上下两端通过轴承分别转动连接在上轴承座以及下轴承座上，其中上轴承座通过上轴承座支架固定安装在机壳的顶部，下轴承座通过下轴承座支架固定安装在立柱的内侧。
[0011]进一步的，所述转轴与机壳的接触处设有机械密封以保证转轴与机壳之间转动密
封连接。
[0012]进一步的，所述动研磨块和静研磨块的表面均设有研磨齿，且研磨齿呈散射状位于动研磨块和静研磨块的表面。
[0013]进一步的，所述加热管的上下两端分别连通设有热媒进管以及热媒出管。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果是：研磨块与静研磨块相对运动，物料被动研磨块与静研磨块研磨粉碎；然后再通过第二下料缺口流入下一间隙之间，以此，物料被多次研磨，其研磨细度更高，物料的颗粒度更小；密胺粉经过研磨机构的研磨，颗粒度细化，符合要求的密胺粉从出料斗排出，使得密胺粉的颗粒度更加精细化，从而方便后续的高阻燃密胺粉的注塑成型。
附图说明
[0015]图1为一种高阻燃密胺粉用研磨装置的正视图。
[0016]图2为一种高阻燃密胺粉用研磨装置的结构示意图。
[0017]图3为一种高阻燃密胺粉用研磨装置中A处的结构示意图。
[0018]图4为一种高阻燃密胺粉用研磨装置中动研磨块的结构示意图。
[0019]图5为一种高阻燃密胺粉用研磨装置中静研磨块的结构示意图。
[0020]图6为一种高阻燃密胺粉用研磨装置中研磨齿的结构示意图。
具体实施方式
[0021]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]请参阅图1
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6，一种高阻燃密胺粉用研磨装置，包括机架1、动力设备4以及研磨机构5；
[0023]所述机架1顶部固定安装有机壳2，机壳2内设有圆柱形的研磨腔3，研磨机构5位于研磨腔3内部，动力设备4位于机架1底部，动力设备4驱动连接研磨机构5，本方案投入使用时，将粗粒的密胺粉投入研磨腔3内，密胺粉经过研磨机构5的研磨，颗粒度细化，符合要求的密胺粉从出料斗排出，使得密胺粉的颗粒度更加精细化，从而方便后续的密胺粉的注塑成型；
[0024]所述机架1包括顶架6和立柱7；顶架6呈矩形状，顶架6的底部四角处竖直向下固定连接有四根立柱7，立柱7之间还设有若干连接杆8以增强机架1的结构强度；
[0025]机壳2的上下两端分别开设有进料口15和出料口16，进料口15处安装有进料斗17，出料口处安装有出料斗18；
[0026]所述动力设备4具体可以为减速电机，动力设备4通过电机安装板8固定安装在立
柱7的内侧，动力设备4的输出轴通过联轴器9驱动连接转轴10；
[0027]所述转轴10的上下两端通过轴承分别转动连接在上轴承座11以及下轴承座12上，其中上轴承座11通过上轴承座支架13固定安装在机壳2的顶部，下轴承座12通过下轴承座支架14固定安装在立柱7的内侧；
[0028]所述转轴10穿过机壳2，且转轴10与机壳2的接触处设有机械密封以保证转轴10与机壳2之间转动密封连接；
[0029]所述研磨机构5包括圆盘形的动研磨块20以及静研磨块21，动研磨块20以及静研磨块21均设有若干块，其中动研磨块20与静研磨块21之间留有间隙22；
[0030]所述动研磨块20以及静研磨块21交错设置，其中动研磨块20固定安装在转轴10上，静研磨块21固定安装在研磨腔3的内壁上；
[0031]其中研磨块20上还设有扇形的第一下料缺口23，其中静研磨块21的圆心处开设有圆形的第二下料缺口24，第二下料缺口24还用于转轴10的穿过；
[0032]其中动研磨块20和静研磨块21的表面均设有研磨齿19，且研磨齿呈散射状位于动研磨块20和静研磨块21的表面；
[0033]本技术使用时，物料经过第一下料缺口23流至动研磨块20与静研磨块21之间的间隙22之间，研磨块20与静研磨块21相对运动，物料被动研磨块20与静研磨块21研磨粉碎；本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高阻燃密胺粉用研磨装置，包括机架、动力设备以及研磨机构；其特征在于，所述机架顶部固定安装有机壳，机壳内设有圆柱形的研磨腔，研磨机构位于研磨腔内部，动力设备位于机架底部，动力设备驱动连接研磨机构，所述机架包括顶架和立柱；所述动力设备具体可以为减速电机，动力设备通过电机安装板固定安装在立柱的内侧，动力设备的输出轴通过联轴器驱动连接转轴；所述转轴穿过机壳；所述研磨机构包括圆盘形的动研磨块以及静研磨块，动研磨块以及静研磨块均设有若干块，其中动研磨块与静研磨块之间留有间隙；所述动研磨块以及静研磨块交错设置，其中动研磨块固定安装在转轴上，静研磨块固定安装在研磨腔的内壁上；其中研磨块上还设有扇形的第一下料缺口，其中静研磨块的圆心处开设有圆形的第二下料缺口，第二下料缺口还用于转轴的穿过。2.根据权利要求1所述的一种高阻燃密胺粉用研磨装置，其特征在于，所述机壳的上下...
【专利技术属性】
技术研发人员：李国维，
申请(专利权)人：嘉善天化化工有限公司，
类型：新型
国别省市：
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