本实用新型专利技术提供了一种防震承载台及匀胶供液装置，防震承载台包括：缓冲组件；去泡件；支架；底座；其中，支架设于去泡件的一侧，去泡件由支架固定，支架底部设有缓冲组件，缓冲组件远离支架的一端连接底座。本实用新型专利技术解决了当工作环境出现震动时，由于光刻胶本身存在一定粘度，光刻胶中的气泡去除效果会有所下降，同时可能引入新的气泡进一步影响去除气泡效果的问题。果的问题。果的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种防震承载台及匀胶供液装置
[0001]本技术涉及光刻胶
，具体而言，涉及一种防震承载台及匀胶供液装置。
技术介绍
[0002]通常，制造半导体器件的光刻工艺包括光刻胶膜的涂胶工艺、曝光工艺和显影工艺。在涂胶工艺中，在晶圆表面喷涂光刻胶，形成厚度均匀的膜，需要通过胶嘴进行精确的流量控制，而光刻胶中的气泡会影响胶嘴控制的精确度。因此，在胶路中设置去泡件以去除光刻胶中的气泡，去泡件为光刻胶提供缓冲空间以起到去除气泡的作用。
[0003]但是，在实际施工过程中，存在这样的问题：当工作环境出现震动时，由于光刻胶本身存在一定粘度，光刻胶中的气泡去除效果会有所下降，同时可能引入新的气泡进一步影响去除气泡的效果。
技术实现思路
[0004]因此，本技术提供一种防震承载台及匀胶供液装置，解决了当工作环境出现震动时，由于光刻胶本身存在一定粘度，光刻胶中的气泡去除效果会有所下降，同时可能引入新的气泡进一步影响去除气泡的效果。
[0005]为解决上述问题，本技术提供一种防震承载台，设于光刻胶管路，防震承载台包括：缓冲组件；去泡件；支架；底座；其中，支架设于去泡件的一侧，去泡件由支架固定，支架底部设有缓冲组件，缓冲组件远离支架的一端连接底座。
[0006]与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：去泡件用于去除光刻胶中的气泡，支架能够固定和支撑起去泡件，支架和底座之间设有缓冲组件，缓冲组件的设置能够在工作环境出现震动时，缓解去泡件的摇晃或震动，保证去泡件内的光刻胶不会再引入新的气泡，底座能够整体支撑起整个装置，同样也起到一定的固定作用，支架设于去泡件的一侧也能防止去泡件进行大幅度的摇晃，解决了当工作环境出现震动时，由于光刻胶本身存在一定粘度，光刻胶中的气泡去除效果会有所下降，同时可能引入新的气泡进一步影响去除气泡效果的问题。
[0007]进一步的，缓冲组件包括：至少一个第一缓冲体和连接组件；第一缓冲体连接支架，第一缓冲体远离支架的一端连接连接组件，第一缓冲体与连接组件相互堆叠设置。
[0008]与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：第一缓冲体能够在去泡件出现外部原因震动或搬运过程中出现震动时，缓解支架的摇晃效果，从而防止去泡件的摇晃或震动，连接组件与第一缓冲体相互堆叠设置进一步提升缓震吸震的效果，连接组件能够使多个第一缓冲体连接起来，不会因为震动而相互分离。
[0009]进一步的，连接组件还包括：连接件和第二缓冲体；连接件设于第一缓冲体和第二缓冲体之间。
[0010]与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：第二缓冲体为缓冲组件提
供一定的支撑效果，保证第一缓冲体在缓冲的同时不会因为受力太大而导致的过度形变，连接件主要为连接第一缓冲体和第二缓冲体，保证第一缓冲体和第二缓冲体之间的缓冲减震效果相互联合，进一步提升去泡件的稳定。
[0011]进一步的，第一缓冲体包括：至少一个第一缓冲槽；第一缓冲槽开设于第一缓冲体侧壁。
[0012]与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：底座在因外部原因出现震动的情况时，首先会传导到缓冲组件上，同时第一缓冲体在受到震动时，第一缓冲槽能够产生形变，吸收震动的效果，并在形变恢复的过程中将震动沿不同方向释放，多个第一缓冲槽可以实现多个方向的缓震，进行反复吸收与释放使震动相互抵消。
[0013]进一步的，第一缓冲体包括：至少一个第二缓冲槽；第二缓冲槽开设于第一缓冲体侧壁，第二缓冲槽深度小于第一缓冲槽深度。
[0014]与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：第二缓冲槽在第一缓冲槽的基础上进一步增强缓震吸震效果，第二缓冲槽深度小于第一缓冲槽深度能够在受到微小震动时，更快的吸震缓震，同样第一缓冲槽在进行形变时，第二缓冲槽进一步吸收形变。
[0015]进一步的，支架底部设有第一定位孔，第一缓冲体和连接件对应定位孔位置均设有第二定位孔。
[0016]与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：第一定位孔和第二定位孔通过紧固件连接，保证第一缓冲体和连接件对中性，在受到震动时不会发生相对位移。
[0017]进一步的，连接件包括：片体和凸台；凸台均布于片体，且凸台相对设于片体的两侧。
[0018]与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：凸台连接第一缓冲体和第二缓冲体，片体防止在受到震动时，第一缓冲体和第二缓冲体之间的相互撞击。
[0019]进一步的，第一缓冲体包括：第一安装孔，第二缓冲体包括：第二安装孔；第一安装孔和第二安装孔均与凸台相配合。
[0020]与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：第一安装孔和第二安装孔均与凸台相配合，限制了第一缓冲体和第二缓冲体相对连接件进行水平方向的滑动，连接更加的紧密。
[0021]进一步的，支架的底部设有用于避让光刻胶管路的避让孔。
[0022]与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：避让孔防止光刻胶管路与支架之间相互干涉，进而防止去泡件进一步的出现震动的情况。
[0023]本技术还提供一种匀胶供液装置，包括如上任意一项实施例的防震承载台，还包括：机台、胶瓶和通断阀，防震承载台、胶瓶和通断阀均设于机台，防震承载台连通胶瓶和通断阀。
[0024]与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：机台用于容纳胶瓶和防震承载台，通断阀设于机台的侧壁，光刻胶由胶瓶通向防震承载台最后流向通断阀。
[0025]采用本技术的技术方案后，能够达到如下技术效果：
[0026](1)去泡件用于去除光刻胶中的气泡，支架能够固定和支撑起去泡件，支架和底座之间设有缓冲组件，缓冲组件的设置能够在工作环境出现震动时，缓解去泡件的摇晃或震动，保证去泡件内的光刻胶不会再引入新的气泡，底座能够整体支撑起整个装置，同样也起
到一定的固定作用，支架设于去泡件的一侧也能防止去泡件进行大幅度的摇晃，解决了当工作环境出现震动时，由于光刻胶本身存在一定粘度，光刻胶中的气泡去除效果会有所下降，同时可能引入新的气泡进一步影响去除气泡效果的问题；
[0027](2)第一缓冲体能够在去泡件出现外部原因震动或搬运过程中出现震动时，缓解支架的摇晃效果，从而防止去泡件的摇晃或震动，连接组件与第一缓冲体相互堆叠设置进一步提升缓震吸震的效果，连接组件能够使多个第一缓冲体连接起来，不会因为震动而相互分离；
[0028](3)底座在因外部原因出现震动的情况时，首先会传导到缓冲组件上，同时第一缓冲体在受到震动时，第一缓冲槽能够产生形变，吸收震动的效果，并在形变恢复的过程中将震动沿不同方向释放，多个第一缓冲槽可以实现多个方向的缓震，进行反复吸收与释放使震动相互抵消。
附图说明
[0029]图1为本技术第一实施例提供的一种防震承载台的结构示意图。
[0030]图2为图1中缓冲组件的结构示意图。
[0031]图3为图2中缓冲组件的另一视角的结构示本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种防震承载台(100)，设于光刻胶管路(160)，其特征在于，所述防震承载台(100)包括：缓冲组件(110)；去泡件(120)；支架(130)；底座(140)；其中，所述支架(130)设于所述去泡件(120)的一侧，所述去泡件(120)由所述支架(130)固定，所述支架(130)底部设有所述缓冲组件(110)，所述缓冲组件(110)远离所述支架(130)的一端连接所述底座(140)。2.根据权利要求1所述的防震承载台(100)，其特征在于，所述缓冲组件(110)包括：至少一个第一缓冲体(111)和连接组件(112)；所述第一缓冲体(111)连接所述支架(130)，所述第一缓冲体(111)远离所述支架(130)的一端连接所述连接组件(112)，所述第一缓冲体(111)与所述连接组件(112)相互堆叠设置。3.根据权利要求2所述的防震承载台(100)，其特征在于，所述连接组件(112)还包括：连接件(113)和第二缓冲体(114)；所述连接件(113)设于所述第一缓冲体(111)和所述第二缓冲体(114)之间。4.根据权利要求2所述的防震承载台(100)，其特征在于，所述第一缓冲体(111)包括：至少一个第一缓冲槽(115)；所述第一缓冲槽(115)开设于所述第一缓冲体(111)侧壁。5.根据权利要求4所述的防震承载台(100)，其特征在于，所述第一缓冲体(111)包括：至少一个第二缓冲槽(116)；所述第二缓冲槽(116)开设于所...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜岩松，陈胜华，耿克涛，
申请(专利权)人：宁波润华全芯微电子设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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