【技术实现步骤摘要】
一种纯纤锌矿晶相的砷化铟纳米线或二维层状结构的制备方法
[0001]本专利技术涉及纳米材料
,尤其涉及一种纯纤锌矿晶相的砷化铟纳米线或二维层状结构的制备方法。
技术介绍
[0002]纳米材料是当今世界研究的热点,因其结构的特殊性,在纳米光电子器件方面得到广泛的应用。III
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V族半导体材料具有直接带隙、电子迁移率高、有效质量小等优点,具有优异的电学和光学性能,使得III
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V族材料制得的纳米线成为制备电子器件和光电子器件的一种理想材料。砷化铟(InAs)是一种重要的窄禁带半导体材料,具有电子迁移率高和有效质量低等特征,由砷化铟制得的纳米线兼具有InAs材料和低维纳米材料的特点。因此,砷化铟纳米线是制备单电子晶体管、共振隧穿二极管及弹道输运晶体管的理想材料,具有巨大的应用价值和科学意义。
[0003]由于对纳米线器件的研究越来越广泛,对纳米线本身质量的要求越来越高,精确的尺寸控制、晶格取向、相的纯度以及均匀组分都是纳米线制备的关键因素。纳米线的形貌尺寸非常重要;首先,在纳米尺度内,尺寸的微小变化对器件的整体性能而言可能产生巨大的影响;其次,很多器件的性能与纳米线的直径有着重要的依赖关系;最后,半导体的晶体结构直接决定了能带结构,不同的晶体结构的纤锌矿结构(WZ)或者闪锌矿结构(ZB)直接影响着器件中载流子的特性。因此,对纳米线长度、直径和晶体结构的控制十分重要,小尺寸及纤锌矿结构的纳米线制备的器件性能优异。
[0004]目前,纳米线的制备方法可以分为两个大类:自 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种纯纤锌矿晶相的砷化铟纳米线或二维层状结构的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1:制备衬底层(1);步骤S2:采用金刚石纳米颗粒制备所需尺寸的石墨烯纳米管(2),将制得的石墨烯纳米管(2)纵向放置在步骤S1制得的衬底层(1)上;步骤S3:在石墨烯纳米管(2)下方的衬底层(1)上沉积厚度为0.5
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1.5 nm的Ag液滴作为催化剂;步骤S4:将石墨烯纳米管和衬底层快速转移到MBE反应器的加载室中,打开反应器,开始催化制备砷化铟纳米线(3);步骤S5:砷化铟分子沿着石墨烯纳米管(2)内壁径向生长,控制砷化铟分子的生长时间,制得纯纤锌矿晶相的砷化铟纳米线(3)或二维层状结构(4),然后关闭MBE反应器;步骤S6:将步骤S5处理完的石墨烯纳米管经过热处理,得到沿纵轴打开的石墨烯纳米管,分离获得纯纤锌矿晶相的砷化铟纳米线或二维层状结构。2.根据权利要求1所述的纯纤锌矿晶相的砷化铟纳米线或二维层状结构的制备方法,其特征在于,步骤S1的具体制备步骤如下:步骤S
11
:准备所需尺寸的砷化铟层作为衬底层(1);步骤S
12
:将衬底层(1)采用标准湿法蚀刻方法使用丙酮、甲醇、异丙醇和去离子水的进行化学清洗;步骤S
13
:使用氢氟酸溶液对衬底层(1)进行脱氧处理;其中,氢氟酸溶液浓度为:氢氟酸:去离子水=1:20。3.根据权利要求1所述的纯纤锌矿晶相的砷化铟纳米线或二维层状结构的制备方法,其特征在于,步骤S2的具体制备步骤如下:步骤S
21
:将0.02
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0.04 g的5
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10 nm的金刚石纳米颗粒分散在150
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250 ml的无水乙醇中,制得金刚石悬浮液;步骤S
22
:将厚度为45
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55 nm的SiO2衬底板放置在金刚石悬浮液中浸泡10
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30 min;步骤S
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:待衬底板干燥后,将衬底板放置在卧式电阻炉的石英管中,在氩气气氛下加热升温到800
‑
1000 ℃,进行金刚石纳米颗粒的裂解;步骤S
24
:通入900
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1100 ml/min的甲烷和90
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110ml/min的氢气,生成碳原子或碳蔟;反应45
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70 min后关闭甲烷和氢气,将电炉的石英管在氩气气氛下冷却到室温,碳原子或碳蔟在SiO2衬底板上聚集形成石墨烯纳米管。4.根据权利要求1所述的纯纤锌矿晶相的砷化铟纳米线或二维层状结构的制备方法,其特征在于,步骤S6的具体步骤如下:步骤S
61
:将步骤S5处理后的石墨烯纳米管放入感应炉中,在温度600
‑
800 ℃条件下进行...
【专利技术属性】
技术研发人员:孟雨欣,余晨辉,成田恬,王奕锦,罗向东,罗曼,
申请(专利权)人:南通大学,
类型:发明
国别省市:
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