一种研磨砂清理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种研磨砂清理装置，包括铁台，铁台的中央设置有螺孔一，铁台的上部设置有两组滑动座，滑动座的上方设置有竖柱，两个竖柱之间设置有铲刀，铲刀与竖柱滑动连接；滑动座包括圆槽状的铁壳，所述铁壳的内部中央设置有圆轴，所述圆轴的上端套设有轴承，所述轴承的外圈与铁壳的内壁固定连接，所述轴承的外部套设有铁圈，所述铁圈与铁壳的内壁固定连接，所述轴承的外圈与铁壳的内侧壁之间设置有多个磁球，所述磁球的下端设置在铁壳的外部。所述研磨砂清理装置能够有效将工件表面的研磨砂给铲去、铲平，铲后表面平整度好，清理效果好，清理效率高；另外，可以对铲刀的高度进行调整从而控制磨削厚度，使用方便。使用方便。使用方便。

【技术实现步骤摘要】
一种研磨砂清理装置


[0001]本技术涉及一种研磨砂清理装置，属于半导体加工


技术介绍

[0002]在半导体加工领域，例如对硅和石英等脆性材料的粗磨过程由于粗磨机的研磨液是循环使用的，所以粗磨电极产品时，研磨过程会有部分研磨砂粘留在设备上。这种情况导致研磨效率随时间降低(新砂35min，第二次45min，60min等)，需要每隔一段时间添加研磨砂。目前是通过增加刮砂铲把工装上残留的研磨砂铲下来重复使用，从而减少加砂的次数，减少成本并且提高效率。
[0003]但是，目前的刮砂铲较小，需要反复多次刮砂，还易铲不平，效率极低。基于此，设计一种适用于清理研磨砂残留的装置，从而使清理后的研磨设备表面更加平整，减少人力并提高效率。

技术实现思路

[0004]本技术针对现有技术存在的不足，提供了一种研磨砂清理装置，具体技术方案如下：
[0005]一种研磨砂清理装置，包括铁台，所述铁台的中央设置有螺孔一，所述铁台的上部设置有两组滑动座，两组滑动座分别位于螺孔一的两侧，所述滑动座的上方设置有竖柱，两个竖柱之间设置有铲刀，所述铲刀与竖柱滑动连接；所述滑动座包括圆槽状的铁壳，所述铁壳的开口朝下设置，所述铁壳的上部与竖柱的下端固定连接，所述铁壳的内部中央设置有圆轴，所述圆轴的上端套设有轴承，所述轴承的外圈与铁壳的内壁固定连接，所述轴承的外部套设有铁圈，所述铁圈与铁壳的内壁固定连接，所述轴承的外圈与铁壳的内侧壁之间设置有多个磁球，所述磁球的下端设置在铁壳的外部。
[0006]作为上述技术方案的改进，所述铁圈的下表面与轴承的下表面共面设置，所述铁圈的下表面、轴承的下表面、圆轴的外周、铁壳的内侧壁之间构成有用来容纳所有磁球的容纳槽，所述容纳槽的深度为h，所述磁球的半径为r，r＜h≤5/3r。
[0007]作为上述技术方案的改进，所述磁球在容纳槽内排列成三圈同心圆结构。
[0008]作为上述技术方案的改进，所述铁台的上表面还设置有与螺孔一相连通的排废槽。
[0009]作为上述技术方案的改进，所述铲刀包括横截面为直角三角形的刀体、固定安装在刀体背侧的竖板，所述竖板的两端分别连接有滑板，所述竖柱与铲刀相邻的那一侧设置有与滑板相适配的滑槽一，所述竖柱的外部设置有多个螺栓，所述竖柱的侧壁设置有与螺栓相适配的螺孔二，所述螺孔二与滑槽一连通。
[0010]作为上述技术方案的改进，所述铁台的上部还设置有供滑动座活动的滑槽二。
[0011]本技术所述研磨砂清理装置能够有效将工件表面的研磨砂给铲去、铲平，铲后表面平整度好，清理效果好，清理效率高；另外，可以对铲刀的高度进行调整从而控制磨
削厚度，使用方便。
附图说明
[0012]图1为本技术所述研磨砂清理装置的结构示意图；
[0013]图2为本技术所述滑动座的结构示意图(侧视状态)；
[0014]图3为本技术所述滑动座的内部示意图；
[0015]图4为本技术所述滑动座的结构示意图(仰视状态)；
[0016]图5为本技术所述铲刀的结构示意图；
[0017]图6为本技术所述铲刀、竖柱的连接示意图；
[0018]图7为本技术所述铁台的结构示意图。
具体实施方式
[0019]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0020]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0021]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0022]实施例1
[0023]如图1～4所示，所述研磨砂清理装置，包括铁台20，所述铁台20的中央设置有螺孔一，所述铁台20的上部设置有两组滑动座60，两组滑动座60分别位于螺孔一的两侧，所述滑动座60的上方设置有竖柱50，两个竖柱50之间设置有铲刀30，所述铲刀30与竖柱50滑动连接；所述滑动座60包括圆槽状的铁壳61，所述铁壳61的开口朝下设置，所述铁壳61的上部与竖柱50的下端固定连接，所述铁壳61的内部中央设置有圆轴63，所述圆轴63的上端套设有轴承64，所述轴承64的外圈与铁壳61的内壁固定连接，所述轴承64的外部套设有铁圈65，所述铁圈65与铁壳61的内壁固定连接，所述轴承64的外圈与铁壳61的内侧壁之间设置有多个磁球62，所述磁球62的下端设置在铁壳61的外部。
[0024]工件10在螺孔一处螺纹连接，从而方便调整工件10的高度。由于所述铲刀30与竖柱50滑动连接，可通过调整铲刀30的高度以及工件10的高度，双重调节，当推动铲刀30时，使得工件10表面残留的研磨砂被铲刀30给铲平。
[0025]滑动座60的主要作用是为了保证其与铁台20之间为滚动连接的同时，还能够保持
磁连接，使得滑动座60具有一定的“抓地力”。具体为：
[0026]首先，磁球62能够吸附在铁圈65、铁壳61以及两两磁球62之间也能相互吸引，如此能够保证形成一层处于动态平衡的“磁球层”，该“磁球层”也能吸附在铁台20的上部；当推动铁壳61时，“磁球层”与铁台20之间为滚动连接。采用滚动连接，摩擦阻力小。圆轴63的设置，其能够防止磁球62在磁球层”处无序的滚动，导致被扰乱。圆轴63设置成可旋转的，其与磁球62之间的摩擦阻力也小。
[0027]推动/拉动铲刀30的力，可使用人工推动；也可以借助气缸或收卷机带动拉绳的方式，只要能推动或拉动即可，并不局限。
[0028]实施例2
[0029]所述铁圈65的下表面与轴承64的下表面共面设置，所述铁圈65的下表面、轴承64的下表面、圆轴63的外周、铁壳61的内侧壁之间构成有用来容纳所有磁球62的容纳槽66，所述容纳槽66的深度为h，所述磁球62的半径为r，r＜h≤5/3r。所述圆轴63的下端位于铁壳61的内部，优选是圆轴63的下端与铁壳61的下端齐平设置。
[0030]首先，r＜h，否则磁球62在容纳槽66内的稳定性变差；理论上，h＜2r即可，但本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种研磨砂清理装置，包括铁台(20)，所述铁台(20)的中央设置有螺孔一，其特征在于：所述铁台(20)的上部设置有两组滑动座(60)，两组滑动座(60)分别位于螺孔一的两侧，所述滑动座(60)的上方设置有竖柱(50)，两个竖柱(50)之间设置有铲刀(30)，所述铲刀(30)与竖柱(50)滑动连接；所述滑动座(60)包括圆槽状的铁壳(61)，所述铁壳(61)的开口朝下设置，所述铁壳(61)的上部与竖柱(50)的下端固定连接，所述铁壳(61)的内部中央设置有圆轴(63)，所述圆轴(63)的上端套设有轴承(64)，所述轴承(64)的外圈与铁壳(61)的内壁固定连接，所述轴承(64)的外部套设有铁圈(65)，所述铁圈(65)与铁壳(61)的内壁固定连接，所述轴承(64)的外圈与铁壳(61)的内侧壁之间设置有多个磁球(62)，所述磁球(62)的下端设置在铁壳(61)的外部。2.根据权利要求1所述的一种研磨砂清理装置，其特征在于：所述铁圈(65)的下表面与轴承(64)的下表面共面设置，所述铁圈(65)的下表面、轴承(64)的下表面、圆...

【专利技术属性】
技术研发人员：李佳蕊，张慧，林宝森，
申请(专利权)人：北京亦盛精密半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：