金属屏蔽结构制造技术

本发明专利技术提出一种金属屏蔽结构，其包含：板材及形成于其上的开槽。开槽沿着第一方向延伸且各别包含板材的正面上的第一开口及板材的背面上的第二开口。第一开口与第二开口连通而贯穿板材。第一开口的第一纵长小于第二开口的第二纵长。第一开口具有相反的第一端部及第二端部，且第二开口具有对应的第三端部及第四端部。第一端部与第三端部投影于正面上平行于第一方向的第一间距小于等于200um。第二开口垂直于第一方向最大的宽度为扩张宽度，第二开口的第三端部垂直于第一方向的宽度为第二端部宽度，且第二端部宽度小于或等于扩张宽度。该金属屏蔽结构的精准性得以提升。金属屏蔽结构的精准性得以提升。金属屏蔽结构的精准性得以提升。

【技术实现步骤摘要】
金属屏蔽结构
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2022年12月13日提交的台湾专利申请No.111147794的优先权，为了所有目的通过引用将所述专利申请并入本文，如同在此完全阐述一样。


[0003]本专利技术系关于一种金属屏蔽结构。具体而言，本专利技术涉及一种具有第一开口及第二开口连通的开槽的金属屏蔽结构。

技术介绍

[0004]电子产业制备工艺中，为了精准的制作具有预定的电路布置或像素布置等的装置或组件，必须使用具有预定图样的金属屏蔽。例如，自阴极射线管技术演进至液晶显示器技术，再发展出有机发光二极管(OLED)技术后，显示装置逐渐变得轻薄，且同时提升了解析度。因此，高分辨率的显示装置逐渐大量运用于现代电子产业领域中。然而，要制备此类高分辨率的显示装置，例如蒸镀制成RGB三原色的像素时，需要具有预定图样的高精度金属屏蔽。承上，在通过母材准备、压膜、曝光、显影、一次蚀刻、二次蚀刻、去膜等程序制备具有预定图样的精密金属屏蔽(FMM,fine metal mask)时，可能会因为金属屏蔽结构设计不佳使得蚀刻不足或过度蚀刻的缺陷的产生。特别是，在预定图样的开口的边缘或端部或转角处，可能会由于化学蚀刻的等向性或蚀刻工艺环境的布置等因素而出现尺寸或形状偏差。因此，设计的预定图样可能无法精确地定义于金属屏蔽上，且可能使得最终生成的金属屏蔽具有缺陷，从而无法运用其精准地制备最终预期的装置或组件。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供一种金属屏蔽结构，可使得所述金属屏蔽结构的精准性提升。
[0006]为解决上述问题，根据本实施例提出一种金属屏蔽结构，其包含：板材，具有正面及背面；以及多个开槽，沿着第一方向延伸，且分别包含形成于正面上的第一开口及形成于背面上的第二开口。其中，第一开口与第二开口连通而贯穿板材。其中，第一开口在正面上平行于第一方向的第一纵长小于第二开口在背面上平行于第一方向的第二纵长。第一开口于第一纵长上具有相反的第一端部及第二端部，而第二开口于第二纵长上具有分别对应于第一端部及第二端部的第三端部及第四端部。第一端部与第三端部投影于正面上平行于第一方向的第一间距小于等于200um。第二开口在背面上垂直于第一方向最大的宽度为扩张宽度，第二开口的第三端部在背面上垂直于第一方向的宽度为第二端部宽度，且第二端部宽度小于或等于扩张宽度。
[0007]本专利技术的优点在于，
[0008]依据本专利技术各实施例所提供的金属屏蔽结构，可使得金属屏蔽结构的精准性提升。特别是，金属屏蔽结构的预定图样的开口边缘或端部的型态的精确性可提升。因此，在利用金属屏蔽结构时，可确保待制成或加工的预定图样的精确性。承上，根据本专利技术的各实
施例所提供的金属屏蔽结构，于金属屏蔽结构本体板材的相反平面所进行的两次蚀刻生成的开口可如预期般连通，且可减少一次蚀刻及二次蚀刻相互影响所可能产生的过度蚀刻或蚀刻不足的缺陷。例如但不限于，设计不佳使得工艺完成后所导致的预定图样的开口的变形或尺寸异常。特别是端部及边缘可能出现的过宽或不完全贯通的缺陷。因此，可确保一次蚀刻开口及二次蚀刻开口整体及其连结处皆具有预期的样态，且在制备装置或组件时可依此来生成预期的电路布置或像素布置等。
附图说明
[0009]图1系为根据本专利技术的一实施例的具有开槽的图样区的金属屏蔽结构的俯视示意图；
[0010]图2系为根据本专利技术的一实施例提供的图1的图样区的示例区块的放大示意图；
[0011]图3系为根据本专利技术的一实施例沿着图2的区块R的剖面线A
‑
A
’
所截取的开槽的剖面示意图；
[0012]图4系为根据本专利技术的一实施例的第一开口及第二开口的相对尺寸及配置的示意图；
[0013]图5至图8系为根据本专利技术的不同实施例的第一开口及第二开口的对应样态的示意图；
[0014]图9系为根据本专利技术的一实施例的开槽的实例自背面观测的仰视示意图；
[0015]图10系为根据本专利技术的另一实施例的开槽的实例自背面观测的仰视示意图；
[0016]图11系为图10的开槽的实例自正面观测的俯视示意图；
[0017]图12系为图10的开槽的实例自正面观测开槽的第一开口的边缘端部的俯视示意图；
[0018]其中：
[0019]10：金属屏蔽结构；
[0020]15：板材；
[0021]100：张网区；
[0022]200：图样区；
[0023]250：开槽；
[0024]251：第一开口；
[0025]252：第二开口；
[0026]D1：第一方向；
[0027]D2：第二方向；
[0028]D3：第三方向；
[0029]d：深度；
[0030]E1：第一端部；
[0031]E2：第二端部；
[0032]E3：第三端部；
[0033]E4：第四端部；
[0034]G1：第一间距；
[0035]G2：第二间距；
[0036]H1、H2、H3、H4：开槽样态；
[0037]K：区块；
[0038]L1：第一纵长；
[0039]L2：第二纵长；
[0040]N：偏差区段；
[0041]N
’
：风险区段；
[0042]R、R
’
：区块；
[0043]S1：正面；
[0044]S2：背面；
[0045]W1、W2：宽度；
[0046]Wd：第二端部宽度；
[0047]Wm：扩张宽度。
具体实施方式
[0048]下文中将描述各种实施例，且所属
中具有普通技术人员在参照说明搭配图式下，应可轻易理解本专利技术的精神与原则。然而，虽然在文中会具体说明一些特定实施例，这些实施例仅作为例示性，且于各方面而言皆非视为限制性或穷尽性意义。因此，对于所属
中具有普通技术人员而言，在不脱离本专利技术的精神与原则下，对于本专利技术的各种变化及修改应为显而易见且可轻易达成的。
[0049]参照图1，根据本专利技术的一实施例的一种金属屏蔽结构10可包含配置以定位并被拉撑的张网区100、以及配置以在待加工装置或组件上形成预定图样的图样区200。具体而言，图1的图样区200可布置图样。例如，参照图2所示的图1的区块R或区块R
’
的放大示意图，图样区200可依预定图样布置长条状开槽250，其长轴可例如但不限于平行于第一方向D1(区块R)或第二方向D2(区块R
’
)。如上所述，图样区200中可以各种方向布置预定图样的长条状开槽250，且区块R或区块R
’
所示的方向皆仅为示例，本专利技术不限于此。其中，本文将主要基于区块R的方向性为示例说明。所属
中具有普通技术人员应可自其明了及推衍不同布置方向模式的变化，且文中将不再赘述此些变化。承上，以区块R为示例，连同图2参照图3本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种金属屏蔽结构，其特征在于，包含：一板材，具有一正面及一背面；以及多个开槽，沿着一第一方向延伸，且分别包含形成于所述正面上的一第一开口及形成于所述背面上的一第二开口，其中，所述第一开口与所述第二开口连通而贯穿所述板材；其中，所述第一开口在所述正面上平行于所述第一方向的一第一纵长小于所述第二开口在所述背面上平行于所述第一方向的一第二纵长，且所述第一开口于所述第一纵长上具有相反的一第一端部及一第二端部，而所述第二开口于所述第二纵长上具有分别对应于所述第一端部及所述第二端部的一第三端部及一第四端部，其中，所述第一端部与所述第三端部投影于所述正面上平行于所述第一方向的一第一间距小于等于200um，且其中，所述第二开口在所述背面上垂直于所述第一方向最大的宽度为一扩张宽度，所述第二开口的所述第三端部在所述背面上垂直于所述第一方向的宽度为一第二端部宽度，且所述第二端部宽度小于或等于所述扩张宽度。2.如权利要求1所述的金属屏蔽结构，其特征在于，所述第一开口在所述正面上垂直于所述第一方向最大的宽度为...

【专利技术属性】
技术研发人员：方冠杰，李清锋，
申请(专利权)人：达运精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：