公开了一种衬底处理装置。该衬底处理装置包括：头单元，其包括具有用于向衬底喷射处理液的至少一个喷嘴的头部；以及清洗单元，其用于清洗头部，其中清洗单元包括：第一清洗构件，其用于向头部喷洒清洗液；以及第二清洗构件，其用于在与头部紧密接触时与头部组合形成抽吸空间，并且通过向抽吸空间提供减压来去除附着在头部上的杂质。着在头部上的杂质。着在头部上的杂质。
【技术实现步骤摘要】
清洗单元、包括其的衬底处理装置以及头部清洗方法
[0001]本文中描述的本公开的实施例涉及清洗单元、包括该清洗单元的衬底处理装置以及头部清洗方法。
技术介绍
[0002]近年来，诸如液晶显示元件、有机EL显示元件等显示元件要求具有高分辨率。为了制造具有高分辨率的显示元件，必须在衬底上每单位面积内形成更多的像素，并且重要的是准确地向密集布置的像素中的每一个喷射油墨。这是因为否则制造不良的显示元件可能被确定为有缺陷。
[0003]另一方面，通常用于制造显示元件的油墨具有在不流动的情况下凝固的性质。此外，如上所述，形成在头部中的喷射油墨的喷嘴的直径往往非常小以向密集布置的像素中的每一个喷射油墨。因此，可能会出现直径非常小的喷嘴被凝固的油墨堵塞而不能使用的情况。
[0004]另外，有时会发生凝固的油墨同时附着在头部内部和头部外部而无法去除的情况。在凝固的油墨附着在头部内部时，采用向头部供应高压油墨并通过从头部喷出油墨来清洗头部内部的方法，但也会发生即使进行这种高压吹扫操作也未去除凝固的油墨的情况。在这种情况下，一些喷嘴不可用。随着不可用喷嘴的数量增加，单位时间内能够处理的衬底数量减少，且头部更换周期也缩短。此外，存在在高压吹扫操作中消耗非常大量的油墨的问题。
技术实现思路
[0005]本公开的实施例提供一种能够有效地执行头部维护的清洗单元、包括该清洗单元的衬底处理装置以及头部清洗方法。
[0006]另外，本公开的实施例提供一种能够有效地去除附着在头部内部的凝固的油墨(处理液)的清洗单元、包括该清洗单元的衬底处理装置以及头部清洗方法。
[0007]此外，本公开的实施例提供一种能够延长头部更换周期的清洗单元、包括该清洗单元的衬底处理装置以及头部清洗方法。
[0008]本公开的目的不限于上述目的，本领域的普通技术人员将从以下描述中清楚地理解本文未提及的任何其他目的。
[0009]本公开提供一种衬底处理装置。衬底处理装置包括：头单元，其包括具有用于向衬底喷射处理液的至少一个喷嘴的头部；和清洗单元，其配置成清洗该头部，其中该清洗单元包括：第一清洗构件，其向头部喷洒清洗液；以及第二清洗构件，其在与头部紧密接触时与头部组合形成抽吸空间并且通过向抽吸空间提供减压来去除附着在头部上的杂质。
[0010]根据一实施例，第二清洗构件包括面向头部的下部并在内部形成有至少一个抽吸孔的抽吸部以及布置在抽吸部上方以保持抽吸空间的气密性的密封部。
[0011]根据一实施例，衬底处理装置还可以包括向抽吸孔传送减压的至少一个抽吸管线
以及向抽吸管线传送减压的减压构件。
[0012]根据一实施例，抽吸管线和抽吸孔可以设置成多个，并且每个抽吸管线可以安装有抽吸阀。
[0013]根据一实施例，衬底处理装置还可以包括向头单元供应处理液的液体供应单元以及控制液体供应单元、头单元和清洗单元的控制器，并且控制器可以控制液体供应单元、头单元和清洗单元，使得第一清洗构件向头单元供应清洗液并且第二清洗构件与头单元紧密接触以形成抽吸空间。
[0014]根据一实施例，控制器可以控制清洗单元以通过向抽吸空间提供减压来去除附着在头部上的杂质。
[0015]根据一实施例，液体供应单元可包括容纳处理液的储液器、将处理液从储液器供应到头部的供应管线以及将处理液从头部回收到储液器的回收管线。
[0016]根据一实施例，可以在供应管线中安装有供应阀，并且可以在回收管线中安装有回收阀。
[0017]根据一实施例，控制器可以控制清洗单元，使得供应阀和回收阀在减压构件向抽吸空间提供减压时关闭。
[0018]根据一实施例，控制器可以控制清洗单元，以打开抽吸阀中的一个，然后打开抽吸阀中的另一个。
[0019]根据一实施例，控制器可以控制液体供应单元和清洗单元，使得在向抽吸空间提供减压的同时液体供应单元进行向头部供应处理液的吹扫操作。
[0020]根据一实施例，第一清洗构件可以向头部喷洒蒸汽形态的清洗液。
[0021]此外，本公开提供了一种用于清洗向衬底喷射油墨的头部的清洗单元。清洗单元可包括第二清洗构件，其在与头部紧密接触时与头部组合形成抽吸空间，并通过向抽吸空间提供减压来去除附着在头部上的杂质。
[0022]根据一实施例，清洗单元还可以包括第一清洗构件，其配置成向头部喷洒蒸汽形态的清洗液。
[0023]根据一实施例，第二清洗构件可包括：抽吸部，其面向头部的下部并在内部形成有至少一个抽吸孔；以及密封部，其布置在抽吸部上方以保持抽吸空间的气密性。
[0024]根据一实施例，清洗单元还可以包括向抽吸部传送减压的至少一个抽吸管线以及向抽吸管线传送减压的减压构件。
[0025]此外，本公开提供了一种清洗头部的方法，该头部具有用于向衬底喷射处理液的喷嘴。该方法可包括：通过使提供减压的清洗构件与头部的下部紧密接触来形成抽吸空间，其中该抽吸空间由头部和清洗构件的组合限定；以及向抽吸空间提供减压以去除附着在头部的杂质。
[0026]根据一实施例，该方法还可以包括：在向抽吸空间施加减压时，关闭向头部供应处理液的液体供应单元的阀门。
[0027]根据一实施例，在清洗构件与头部紧密接触时，清洗构件的密封部可与头部紧密接触以保持抽吸空间的气密性。
[0028]根据一实施例，该方法还可以包括向头部的下部喷洒蒸汽形态的清洗液。
附图说明
[0029]本公开的上述及其他目的及特征将通过参照附图对实施例的详细描述而变得清楚。
[0030]图1是示出根据本公开的一实施例的衬底处理装置的视图。
[0031]图2是示出图1的头部和供应单元的外观的视图。
[0032]图3是示意性地示出图1的清洗单元的第一清洗构件的视图。
[0033]图4是示意性地示出图1的清洗单元的第二清洗构件的视图。
[0034]图5是示意性示出根据本公开实施例的头部清洗方法的流程图。
[0035]图6是示意性地示出进行图5的第一处理操作的衬底处理装置的视图。
[0036]图7是示意性地示出进行图5的第二处理操作的衬底处理装置的示例的视图。
[0037]图8是示意性地示出进行图5的第二处理操作的衬底处理装置的另一示例的视图。
[0038]图9至图12是示意性地示出进行图5的第二处理操作的衬底处理装置的另一示例的视图。
具体实施方式
[0039]以下，将参照附图对本公开的实施例进行详细描述，以使本领域的普通技术人员能够容易地实施本公开。然而，本公开可以以多种不同的形态实施并且不限于本文中描述的实施例。此外，在详细描述本公开的优选实施例时，将排除对公知功能或配置的详细描述以免不必要地使本公开的主旨模糊。此外，对于具有相似功能和作用的部分，在整个附图中使用相同的附图标记。
[0040]此外，在整个说明书中，除非有相反的明确描述，否则词语“包括”或“包含”将被理解为暗示包含另一要素而不本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种衬底处理装置，包括：头单元，其包括头部，所述头部具有用于向衬底喷射处理液的至少一个喷嘴；和清洗单元，其配置成清洗所述头部，其中所述清洗单元包括：第一清洗构件，其配置成向所述头部喷洒清洗液；和第二清洗构件，其配置成在与所述头部紧密接触时与所述头部组合形成抽吸空间，并且通过向所述抽吸空间提供减压来去除附着在所述头部上的杂质。2.如权利要求1所述的衬底处理装置，其中所述第二清洗构件包括：抽吸部，其面向所述头部的下部并且在内部形成有至少一个抽吸孔；和密封部，其布置在所述抽吸部的上方以保持所述抽吸空间的气密性。3.如权利要求2所述的衬底处理装置，还包括：至少一个抽吸管线，其配置成向所述抽吸孔传送所述减压；和减压构件，其配置成向所述抽吸管线传送所述减压。4.如权利要求3所述的衬底处理装置，其中所述抽吸管线和所述抽吸孔设置有多个，其中所述抽吸管线中的每一个安装有抽吸阀。5.如权利要求4所述的衬底处理装置，还包括：液体供应单元，其配置成向所述头单元供应所述处理液；和控制器，其配置成控制液体供应单元、所述头单元和所述清洗单元，其中所述控制器配置成控制所述液体供应单元、所述头单元和所述清洗单元，使得所述第一清洗构件向所述头单元供应所述清洗液并且所述第二清洗构件与所述头单元紧密接触以形成所述抽吸空间。6.如权利要求5所述的衬底处理装置，其中所述控制部配置成控制所述清洗单元以通过向所述抽吸空间提供所述减压来去除附着在所述头部上的杂质。7.如权利要求6所述的衬底处理装置，其中所述液体供应单元包括：储液器，其配置成容纳所述处理液；供应管线，其配置成将所述处理液从所述储液器供应到所述头部；和回收管线，其配置成将所述处理液从所述头部回收到所述储液器。8.如权利要求7所述的衬底处理装置，其中在所述供应管线中安装有供应阀，并且在所述回收管线中安装有回收阀。9.如权利要求8所述的衬底处理装置，其中所述控制部配置成控制所述清洗单元，使得所述供应阀和所述回收阀在所述减压构件向所述抽吸空间提供所述减压时关闭。1...
【专利技术属性】
技术研发人员：全汉石，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：
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