基板湿式设备制造技术

本发明专利技术涉及一种基板湿式设备，包括入口单元、工艺处理单元、搬送单元及出口单元，基板由所述入口单元送进工艺处理单元进行湿刻，然后通过搬送单元送至出口单元，其中，所述入口单元或出口单元的四个边角处设置有位置传感器，当基板放置其中时，所述四个位置传感器分别和基板的四个边角对准。本发明专利技术提供的基板湿式设备，能够及时检测湿式刻蚀设备可能导致的玻璃基板缺角损伤问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种湿式设备，特别是涉及一种用于基板刻蚀及清洗的设备。
技术介绍
液晶显示器主要是由上、下两片玻璃基板组成，在玻璃基板的内表面上设有 向液晶层施加电场用的透明电极，为控制电场设有相应的开关器件；为显示颜色 在其中的一片玻璃基板上设有彩色膜；为使液晶分子沿特定方向取向，在玻璃基 板的内表面制备有金属膜层，在经过曝光、蚀刻等工序后形成TFT作为开关进行 控制。对玻璃基板的金属膜进行蚀刻是液晶显示元件制造过程中的一项重要步骤， 通常对金属膜进行蚀刻使用的是湿式刻蚀设备。图1是现有湿式设备的结构及传 感器安装示意图，图2是图1中出口单元部分立体示意图。请参见图l和图2，现 有湿式设备大致由入口单元11、工艺处理单元12、搬送单元13、出口单元14组 成，基板由所述入口单元11送进工艺处理单元12进行刻蚀、水洗、干燥，然后 通过搬送单元13送至出口单元14，搬送单元13 —般由搬送滚轮102组成。现有湿式设备出口单元14处一般设置有一光电传感器101检测基板位置。请 参见图3，光电传感器101得到信号后传输到可编程逻辑控制器(PLC) ， PLC 21 对信号进行处理后进入下一步工艺流程。光电传感器101用于检测玻璃基板位置， 因此仅在出口单元设置一个。图4是现有设备出口单元处基板检测感应示意图。请参见图4，光电传感器 101用于检测玻璃基板是否到达位置。搬送单元13主要使用搬送滚轮102搬送， 滚轮分为上下两边，其上又带有圆环0-RING来增加摩擦系数保证搬送顺畅。由于 上滚轮是利用重力来增加摩擦系数，从而可能会导致上下滚轮上的圆环错位而引 起在玻璃基板经过时产生一个剪切力，这样会引起基板边角轻微的破损。有些基 板的破损只发生在边角的微小区域，但是隐藏的基板暗伤可能会对后续工序产生 不可预见的影响，需要尽早发现此类基板。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种基板湿式设备，能够及时检测湿式刻 蚀设备可能导致的玻璃基板缺角损伤问题。本专利技术为解决上述技术问题而釆用的技术方案是提供一种基板湿式设备，包 括入口单元、工艺处理单元、搬送单元及出口单元，基板由所述入口单元送进工 艺处理单元进行湿刻，然后通过搬送单元送至出口单元，其中，所述入口单元或 出口单元的四个边角处设置有位置传感器，当基板放置其中时，所述四个位置传感 器分别和基板的四个边角对准。上述的湿式设备，其中，所述四个光电传感器设置在出口单元，所述四个光 电传感器串联在一起。上述的湿式设备，其中，所述四个光电传感器设置在入口单元，所述四个光 电传感器并联在一起。上述的湿式设备，其中，所述位置传感器为光电传感器。本专利技术对比现有技术有如下的有益效果本专利技术提供的基板湿式设备，通过 在入口单元或出口单元的四个边角处设置位置传感器，能够及时检测湿式刻蚀设 备可能导致的玻璃基板缺角损伤问题，避免有缺陷的基板进入后续工序。附图说明图1是现有湿式设备的结构及传感器安装示意图2是图1中出口单元部分立体示意图3是现有传感器电气示意图4是现有设备出口单元处基板检测感应示意图5是本专利技术湿式设备出口单元处基板检测感应示意图6是本专利技术出口单元传感器串联示意图7是本专利技术入口单元传感器安装位置示意图8是本专利技术入口单元传感器并联示意图。图中11入口单元 12工艺处理单元 13搬送单元14出口单元 15基板 21 PLC101光电传感器 102搬送滚轮 具体实施例方式下面结合附图及典型实施例对本专利技术作进一步说明。图5是本专利技术湿式设备出口单元处基板检测感应示意图。请参见图1和图5，本专利技术的湿式设备包括入口单元11、工艺处理单元12、 搬送单元13及出口单元14，基板15由所述入口单元11送进工艺处理单元12进 行湿刻，然后通过搬送单元13送至出口单元14，其中，所述出口单元14的四个 边角处设置有位置传感器，位置传感器可以选用光电传感器101。当基板15放置 在出口单元时，所述四个光电传感器101分别和基板15的四个边角对准。基板15 —般由玻璃制成，搬送单元13 —般由搬送滚轮102组成，滚轮上一 般还设置有圆环来增加摩擦系数保证搬送顺畅，从而可能引起基板边角轻微的破 损。在设备出口单元14设置四个边角玻璃检测传感器101，可以检测到大于2MM 以上的基板破损。由于现有出口单元一般有一光电传感器101检测检测基板位置， 光电传感器101得到信号后传输到PLC21， PLC 21对信号进行处理后进入下一步 工艺流程。为了与现有工艺相兼容，可将原位置传感器放置在一个边角，另外在 追加三个光电传感器，当基板15放置其中时，保证所述四个位置传感器分别和基 板15的四个边角对准。其中，四个传感器101串联在一起，请参见图6，这样只 有在所有传感器都检测到玻璃基板时才会将整个回路接通，发出OK信号，传输到 PLC 21后进入下一步工艺流程。图7是本专利技术入口单元传感器安装位置示意图，图8是本专利技术入口单元传感 器并联示意图。请参见图7和图8，实际生产过程中，出现基板轻微损伤有时不想暂停处理， 因此为了不影响生产效率，本专利技术可将四个光电传感器安装在设备入口单元11， 可以提前检测到玻璃基板破损，节约工艺时间。此时电气接入也改变为并联，出 现基板边角损伤时，PLC21仅仅进行记录或报警，基板继续进入后续工艺处理。虽然本专利技术已以较佳实施例揭示如上，然其并非用以限定本专利技术，任何本领 域技术人员，在不脱离本专利技术的精神和范围内，当可作些许的修改和完善，因此 本专利技术的保护范围当以权利要求书所界定的为准。权利要求1、一种基板湿式设备，包括入口单元、工艺处理单元、搬送单元及出口单元，基板由所述入口单元送进工艺处理单元进行湿刻，然后通过搬送单元送至出口单元，其特征在于，所述入口单元或出口单元的四个边角处设置有位置传感器，当基板放置其中时，所述四个位置传感器分别和基板的四个边角对准。2、 如权利要求l所述的湿式设备，其特征在于，所述四个光电传感器设置 在出口单元，所述四个光电传感器串联在一起。3、 如权利要求1所述的湿式设备，其特征在于，所述四个光电传感器设置 在入口单元，所述四个光电传感器并联在一起。4、 如权利要求1、 2或3所述的湿式设备，其特征在于，所述位置传感器 为光电传感器。全文摘要本专利技术涉及一种基板湿式设备，包括入口单元、工艺处理单元、搬送单元及出口单元，基板由所述入口单元送进工艺处理单元进行湿刻，然后通过搬送单元送至出口单元，其中，所述入口单元或出口单元的四个边角处设置有位置传感器，当基板放置其中时，所述四个位置传感器分别和基板的四个边角对准。本专利技术提供的基板湿式设备，能够及时检测湿式刻蚀设备可能导致的玻璃基板缺角损伤问题。文档编号C23F1/08GK101619456SQ20091005553公开日2010年1月6日 申请日期2009年7月28日 优先权日2009年7月28日专利技术者陈宇新 申请人:上海广电光电子有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板湿式设备，包括入口单元、工艺处理单元、搬送单元及出口单元，基板由所述入口单元送进工艺处理单元进行湿刻，然后通过搬送单元送至出口单元，其特征在于，所述入口单元或出口单元的四个边角处设置有位置传感器，当基板放置其中时，所述四个位置传感器分别和基板的四个边角对准。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈宇新，
申请(专利权)人：上海广电光电子有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]