一种用于半导体厂房的洁净室制造技术

本申请公开了一种用于半导体厂房的洁净室，属于洁净室的技术领域，其包括洁净工作室,所述洁净工作室包括用于高精度加工的洁净工作区以及用于半导体前制程加工的加工服务区,所述洁净工作区与所述加工服务区之间设置有分隔区，所述分隔区内间隔设置有挡帘，所述挡帘沿所述分隔区的长度方向布置，相邻所述挡帘相互远离的两侧均设置有用于过滤空气的过滤组件，所述过滤组件包括沿所述分隔区间隔布置的第一过滤网以及第二过滤网，所述洁净工作区与所述加工服务区内均设置有用于输送洁净空气的第一通风系统,所述分隔区设置有用于输送洁净空气的第二通风系统。本申请具有提高洁净室内的空气洁净度的效果。室内的空气洁净度的效果。室内的空气洁净度的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体厂房的洁净室


[0001]本申请涉及洁净室的
，尤其是涉及一种用于半导体厂房的洁净室。

技术介绍

[0002]半导体指在常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，在消费电子、通信系统以及医疗仪器等领域具有广泛应用，操作人员通常在洁净室内生产制造半导体产品。洁净室可以有效控制室内或者厂房内的空气洁净度、温湿度以及气流走向等影响生产作业进程的因素，能够满足半导体工业对于作业环境的严格要求。
[0003]相关技术中,洁净室一般包括有大型洁净空间，大型洁净空间内设置有新风输送系统和排气系统，大型洁净空间由上至下包括有架构空间、洁净空间以及循环空间，且大型洁净空间内具有中央走道和至少一条生产走道。生产走道的四周围设有隔板，使得架构空间、洁净空间在生产走道处的部分构成独立的洁净微环境结构，且生产走道的天花板下设置有至少一个通风管，构成洁净微环境结构回风通道。
[0004]针对上述相关技术，专利技术人认为工作人员在移动半导体产品的过程中，需要多次从洁净室的工作区进入生产走道，工作区内少量的废气或者腐蚀性气体容易附着在工作人员的服饰表面，进而随着工作人员进入生产走道或者其他干净区域，进而存在影响洁净空间内空气的洁净度的可能性。

技术实现思路

[0005]为了提高洁净室内的空气洁净度，本申请提供一种用于半导体厂房的洁净室。
[0006]本申请提供的一种用于半导体厂房的洁净室采用如下的技术方案：一种用于半导体厂房的洁净室，包括洁净工作室,所述洁净工作室包括用于高精度加工的洁净工作区以及用于半导体前制程加工的加工服务区,所述洁净工作区与所述加工服务区之间设置有分隔区，所述分隔区内间隔设置有挡帘，所述挡帘沿所述分隔区的长度方向布置，相邻所述挡帘相互远离的两侧均设置有用于过滤空气的过滤组件，所述过滤组件包括沿所述分隔区间隔布置的第一过滤网以及第二过滤网，所述洁净工作区与所述加工服务区内均设置有用于输送洁净空气的第一通风系统,所述分隔区设置有用于输送洁净空气的第二通风系统。
[0007]通过采用上述技术方案，挡帘的设置使得洁净工作区与加工服务区的空气不能相互流通,且挡帘与第一过滤网、第二过滤网配合形成分割区内的独立空间，当操作人员从洁净工作区或者加工服务区进入分隔区时，操作人员先通过过滤组件进入分隔区内的独立空间,此时,第一通风系统配合第二通风系统有利于清洁操作人员,从而防止废气或者腐蚀性气体随着操作人员移动带入分隔区,从而保证外部大型洁净空间内空气的洁净度。
[0008]优选的, 所述过滤组件还包括间隔安装于所述分隔区内的第一导向架以及第二导向架,所述第一导向架沿自身长度方向滑动设置有多个用于安装所述第一过滤网的第一定位框,所述第二导向架沿自身长度方向滑动设置有多个用于安装所述第二过滤网的第二
定位框,且所述第一过滤网与所述第二过滤网相邻的侧边重叠。
[0009]通过采用上述技术方案，第一定位框以及第二定位框的设置方便操作人员更换第一过滤网以及第二过滤网，第一导向架以及第二导向架的设置使得操作人员能够分别移动第一定位框以及第二定位框，进而方便操作人员自由进入分隔区。
[0010]优选的，所述洁净工作室的内顶面上安装有吊顶板，所述洁净工作室的内底面上设置有基座，所述吊顶板上开设有第一安装槽，所述基座上开设有用于与所述第一安装槽相对应的第二安装槽，所述第一导向架包括安装于所述第一安装槽内端面上的第一导向杆以及安装于所述第二安装槽内端面上的第二导向杆，所述第二导向架包括安装于所述第一安装槽内端面上的第三导向杆以及安装于所述第二安装槽内端面上的第四导向杆，所述第一导向杆与所述第三导向杆并排布置，所述第二导向杆与所述第四导向杆并排布置。
[0011]通过采用上述技术方案，第一安装槽以及第二安装槽的设置方便容纳第一导向架以及第二导向架，进而有利于降低洁净工作区或者加工服务区内的废气或者腐蚀性气体通过第一导向架、第二导向架与洁净工作市内顶面或者内地面之间的间隙渗入分隔区的可能性。
[0012]优选的，所述基座内开设有收集空腔，所述基座位于所述分隔区的上表面开设有多个用于与所述收集空腔相连通的进气孔，所述基座内设置有用于排出所述收集空腔内气体的排风机，所述排风机上设置有用于与所述收集空腔相连通的负压风机，所述负压风机与所述排风机之间安装有空气过滤器。
[0013]通过采用上述技术方案，当工作人员进入分隔区的独立空间时，第二通风系统利用进入的洁净空气将工作人员携带的杂质空气向下吹动，同时负压风机加快的空气的流动，从而使得杂质空气快速进入收集空腔内，接着空腔过滤器的设置有利于过滤空气中的杂质，从而方便操作人员利用排风机将过滤后的空气排除，进而形成分隔区的空气流动。
[0014]优选的，所述洁净工作区以及所述加工服务区内均设置有多个用于分隔空间的分隔组件，所述分隔组件包括安装于所述基座上的横向板以及固定连接于所述横向板上的纵向板，所述横向板与所述纵向板的长度方向相互垂直。
[0015]通过采用上述技术方案，横向板的设置有利于分隔洁净工作区以及加工服务区的空间，纵向板与横向板的配合有利于构建洁净工作区以及加工服务区内的独立空间，从而避免废气直接冲击第一过滤网以及第二过滤网，进而降低洁净工作区以及加工服务区内空气的溢出。
[0016]优选的，所述第一通风系统包括设置于所述吊顶板内的排风箱以及用于与高压气源相连通的通风管，所述通风管与所述排风箱相连通，所述排风箱内间隔安装有第一出风管、第二出风管，所述第一出风管、第二出风管上均安装有用于过滤空气的化学过滤器，所述第一出风管的内底面开设有用于朝向靠近所述分隔区方向吹风的第一排风孔，所述第二出风管的内底面开设有用于朝向背离所述分隔区方向吹风的第二排风孔。
[0017]通过采用上述技术方案，气流通过通风管进入排风箱内，一部分气流进入第一出风管，另一部分气流进入第二出风管，进入第一出风管的气流通过第一排风孔排出，从而使得靠近分隔区的空气进入分隔区内独立空间内的空气流通；进而第二出风管的气流通过第二排风孔排出，从而降低横向板与纵向板组合空间内气体向外流通的可能性。
[0018]优选的，所述基座位于所述洁净工作区以及所述加工服务区的部分上开设有换气
空腔，所述换气空腔的内顶面上开设有换气孔，且所述纵向板内开设有用于与所述排风箱相连通的贯穿通道，且所述贯穿通道与所述换气空腔相连通。
[0019]通过采用上述技术方案，排风箱内进入第二出风管的气体，经过第二排风孔排出，然后通过换气孔进入换气空腔，换气空腔内的气体则通过贯穿通道再次进入排风箱内，然后经过化学过滤器的过滤再次进入循环，降低损耗。
[0020]优选的，所述通风管上设置有多个用于连通所述排风箱的连通管，所述纵向板位于所述排风箱内的端部上固定连接有挡风板，所述挡风板与所述连通管一一对应，所述纵向板位于排风箱内的端部两侧连通有出气管，所述出气管倾斜布置。
[0021]通过采用上述技术方案，一方面挡风板的设置降低高压气流的速度，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体厂房的洁净室，包括洁净工作室(1),所述洁净工作室(1)包括用于高精度加工的洁净工作区(11)以及用于半导体前制程加工的加工服务区(12),所述洁净工作区(11)与所述加工服务区(12)之间设置有分隔区(13)，其特征在于：所述分隔区(13)内间隔设置有挡帘(2)，所述挡帘(2)沿所述分隔区(13)的长度方向布置，相邻所述挡帘(2)相互远离的两侧均设置有用于过滤空气的过滤组件(3)，所述过滤组件(3)包括沿所述分隔区(13)间隔布置的第一过滤网(33)以及第二过滤网(34)，所述洁净工作区(11)与所述加工服务区(12)内均设置有用于输送洁净空气的第一通风系统(4),所述分隔区(13)设置有用于输送洁净空气的第二通风系统(6)。2.根据权利要求1所述的一种用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述过滤组件(3)还包括间隔安装于所述分隔区(13)内的第一导向架(31)以及第二导向架(32),所述第一导向架(31)沿自身长度方向滑动设置有多个用于安装所述第一过滤网(33)的第一定位框(35),所述第二导向架(32)沿自身长度方向滑动设置有多个用于安装所述第二过滤网(34)的第二定位框(36),且所述第一过滤网(33)与所述第二过滤网(34)相邻的侧边重叠。3.根据权利要求2所述的一种用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述洁净工作室(1)的内顶面上安装有吊顶板(14)，所述洁净工作室(1)的内底面上设置有基座(15)，所述吊顶板(14)上开设有第一安装槽(16)，所述基座(15)上开设有用于与所述第一安装槽(16)相对应的第二安装槽(17)，所述第一导向架(31)包括安装于所述第一安装槽(16)内端面上的第一导向杆(311)以及安装于所述第二安装槽(17)内端面上的第二导向杆(312)，所述第二导向架(32)包括安装于所述第一安装槽(16)内端面上的第三导向杆(321)以及安装于所述第二安装槽(17)内端面上的第四导向杆(322)，所述第一导向杆(311)与所述第三导向杆(321)并排布置，所述第二导向杆(312)与所述第四导向杆(322)并排布置。4.根据权利要求3所述的一种用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述基座(15)内开设有收集空腔(64)，所述基座(15)位于所述分隔区(...

【专利技术属性】
技术研发人员：王新河，王宁，吴凯龙，刘增树，许颖超，张海强，李旭光，
申请(专利权)人：中电环宇北京建设工程有限公司，
类型：发明
国别省市：