提供了一种掩模组件和包括掩模组件的沉积设备，所述掩模组件包括：框架，包括框架开口；掩模，掩模设置在框架上，掩模包括沉积部、非沉积部和结合开口，沉积部包括与框架开口叠置的主沉积开口，非沉积部与沉积部相邻，结合开口形成在沉积部与非沉积部之间；以及杆，包括支撑部和图案部，支撑部与非沉积部叠置，图案部与结合开口叠置，图案部从支撑部突出并且包括子沉积开口，其中，杆设置在掩模与框架之间。间。间。
【技术实现步骤摘要】
掩模组件和包括掩模组件的沉积设备
[0001]本申请要求于2021年12月23日提交的第10
‑
2021
‑
0186556号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。
[0002]实施例涉及包括不同类型的沉积开口的掩模组件和包括该掩模组件的沉积设备。
技术介绍
[0003]显示面板包括多个像素，多个像素中的每个包括诸如晶体管的驱动元件和发光元件。像素可以通过在基底上层压电极和各种功能层而形成。
[0004]最近，根据无边框趋势，已经开发了使用现有边框区域作为发射区域或使用除了显示面板的底表面之外的其他表面作为发射区域的显示装置。
[0005]因此，分别设置在主发射区域和与主发射区域的拐角相邻的子发射区域中的发光元件可以沉积在不同的区域中。因此，已经开发了一种用于制造包括具有不同尺寸的沉积开口的掩模组件的方法的技术。
技术实现思路
[0006]实施例提供一种包括具有不同面积(例如，形状或尺寸)的沉积开口的掩模组件和一种包括该掩模组件的沉积设备。
[0007]然而，公开的实施例不限于这里阐述的那些实施例。通过参照下面给出的公开的详细描述，以上和其他实施例对于公开所属领域的普通技术人员将变得更加明显。
[0008]在实施例中，一种掩模组件包括：框架，包括框架开口；掩模，设置在框架上，掩模包括沉积部、非沉积部和结合开口，沉积部包括与框架开口叠置的主沉积开口，非沉积部与沉积部相邻，结合开口设置在沉积部与非沉积部之间；以及杆，包括支撑部和图案部，支撑部与非沉积部叠置，图案部与结合开口叠置，图案部从支撑部突出并且包括子沉积开口，其中，杆设置在掩模与框架之间。
[0009]在实施例中，子沉积开口中的每个的表面面积可以比主沉积开口中的每个的表面面积大。
[0010]在实施例中，支撑部的部分可以从杆的上表面朝向杆的下表面被去除，被去除的部分的厚度等于或大于掩模的最小厚度，掩模可以具有约10μm或更大至约30μm或更小的厚度，并且杆可以具有约40μm或更大至约150μm或更小的厚度。
[0011]在实施例中，掩模的上表面和杆的上表面可以共面。
[0012]在实施例中，结合开口可以与沉积部的边缘相邻，并且图案部和结合开口在平面图中可以具有基本相同的形状。
[0013]在实施例中，沉积部还可以包括：短边，在第一方向上延伸；长边，在与第一方向交叉的第二方向上延伸；以及拐角，使短边连接到长边，结合开口可以设置在非沉积部与长边之间和非沉积部与拐角之间，并且图案部和结合开口在平面图中可以具有基本相同的形
状。
[0014]在实施例中，沉积部的形成主沉积开口中的每个的内表面可以包括：第一弯曲表面，连接到沉积部的上表面；以及第二弯曲表面，设置在第一弯曲表面与沉积部的下表面之间。
[0015]在实施例中，图案部的形成子沉积开口中的每个的内表面可以包括：第三弯曲表面，连接到图案部的上表面；以及第四弯曲表面，设置在第三弯曲表面与图案部的下表面之间。
[0016]在实施例中，沉积部还可以包括：短边，在第一方向上延伸；长边，在与第一方向交叉的第二方向上延伸；以及拐角，使短边连接到长边，并且杆可以在第一方向上延伸并且在第二方向上间隔开，以与同短边相邻的非沉积部叠置。
[0017]在实施例中，掩模组件还可以包括：间隙杆，设置在杆与框架之间，在第二方向上延伸，并且在第一方向上间隔开，以与同长边相邻的非沉积部叠置。
[0018]在实施例中，第一凹槽和第二凹槽可以通过分别从框架的上表面朝向框架的下表面去除框架的部分而形成在框架中，在第一凹槽中设置杆，在第二凹槽中设置间隙杆，并且第二凹槽可以具有等于杆的厚度与间隙杆的厚度之和的深度。
[0019]在实施例中，掩模可以包括因瓦合金，并且杆可以由不锈钢制成。
[0020]在实施例中，掩模还可以包括：第一对准孔，不与杆叠置，并且通过去除非沉积部的至少一部分而形成。
[0021]在实施例中，沉积部还可以包括：短边，在第一方向上延伸；长边，在与第一方向交叉的第二方向上延伸；以及拐角，使短边连接到长边，并且杆还可以包括第二对准孔，第二对准孔面对短边的在沿第二方向观看时的中心部分并且通过从杆在第二方向上的宽度的中心去除杆的至少一部分而形成。
[0022]在实施例中，图案部还可以包括：第一图案部，设置在支撑部的一侧处，以与结合开口叠置；以及第二图案部，设置在支撑部的另一侧处，以与非沉积部叠置，并且非沉积部还可以包括与第二图案部叠置的附加结合开口。
[0023]在实施例中，掩模还可以包括：焊接突起，与图案部相邻，并且设置在支撑部上。
[0024]在实施例中，一种沉积设备可以包括：沉积腔室；掩模组件，在沉积腔室内部，掩模组件包括框架、掩模和杆，框架包括框架开口，掩模设置在框架上，杆设置在掩模与框架之间；沉积基底，设置在掩模组件上，沉积基底包括主沉积区域和子沉积区域；以及沉积源，被构造为将沉积材料注入到框架开口中，其中，掩模可以包括沉积部、非沉积部和结合开口，沉积部包括与主沉积区域叠置的主沉积开口，非沉积部与沉积部相邻，结合开口设置在沉积部与非沉积部之间，并且杆可以包括支撑部和图案部，支撑部与非沉积部叠置，图案部设置在结合开口中，图案部从支撑部突出并且包括与子沉积区域叠置的子沉积开口。
[0025]在实施例中，子沉积开口中的每个的表面面积可以比主沉积开口中的每个的表面面积大。
[0026]在实施例中，结合开口可以与沉积部的边缘相邻，并且图案部和结合开口在平面图中可以具有基本相同的形状。
[0027]在实施例中，沉积部还可以包括：短边，在第一方向上延伸；长边，在与第一方向交叉的第二方向上延伸；以及拐角，使短边连接到长边，结合开口可以设置在非沉积部与长边
之间和非沉积部与拐角之间，并且图案部和结合开口在平面图中可以具有基本相同的形状。
附图说明
[0028]附图被包括以提供对实施例的进一步理解，并且附图被包含在本说明书中并构成本说明书的一部分。附图示出了实施例，并且与说明书一起用于解释专利技术的原理。在附图中：
[0029]图1是根据实施例的沉积设备的示意性剖视图；
[0030]图2是使用根据实施例的沉积设备制造的显示面板的示意性剖视图；
[0031]图3A是根据实施例的显示装置的结合透视图；
[0032]图3B是根据实施例的显示装置的示意性分解透视图；
[0033]图3C是根据实施例的显示区域的示意性放大图；
[0034]图4A是根据实施例的显示装置的示意性结合透视图；
[0035]图4B是根据实施例的显示装置的示意性分解透视图；
[0036]图4C是根据实施例的显示区域的示意性放大图；
[0037]图5A是根据实施例的掩模组件的示意性结合透视图；
[0038]图5B是根据实施例的掩模组件的示意性分解透视图；...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种掩模组件，所述掩模组件包括：框架，包括框架开口；掩模，设置在所述框架上，所述掩模包括沉积部、非沉积部和结合开口，所述沉积部包括与所述框架开口叠置的主沉积开口，所述非沉积部与所述沉积部相邻，所述结合开口设置在所述沉积部与所述非沉积部之间；以及杆，包括支撑部和图案部，所述支撑部与所述非沉积部叠置，所述图案部与所述结合开口叠置，所述图案部从所述支撑部突出并且包括子沉积开口，其中，所述杆设置在所述掩模与所述框架之间。2.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述子沉积开口中的每个的表面面积比所述主沉积开口中的每个的表面面积大。3.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述支撑部的部分从所述杆的上表面朝向所述杆的下表面被去除，被去除的部分的厚度等于或大于所述掩模的最小厚度，所述掩模具有10μm或更大至30μm或更小的厚度，并且所述杆具有40μm或更大至150μm或更小的厚度。4.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述掩模的上表面和所述杆的上表面共面。5.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述结合开口与所述沉积部的边缘相邻，并且所述图案部和所述结合开口在平面图中具有相同的形状。6.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述沉积部还包括：短边，在第一方向上延伸；长边，在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸；以及拐角，使所述短边连接到所述长边，所述结合开口设置在所述非沉积部与所述长边之间和所述非沉积部与所述拐角之间，并且所述图案部和所述结合开口在平面图中具有相同的形状。7.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述沉积部的形成所述主沉积开口中的每个的内表面包括：第一弯曲表面，连接到所述沉积部的上表面；以及第二弯曲表面，设置在所述第一弯曲表面与所述沉积部的下表面之间。8.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述图案部的形成所述子沉积开口中的每个的内表面包括：第三弯曲表面，连接到所述图案部的上表面；以及第四弯曲表面，设置在所述第三弯曲表面与所述图案部的下表面之间。9.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述沉积部还包括：短边，在第一方向上延伸；长边，在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸；以及拐角，使所述短边连接到所述长边，并且所述杆在所述第一方向上延伸并且在所述第二方向上间隔开，以与同所述短边相邻的非沉积部叠置。10.根据权利要求9所述的掩模组件，所述掩模组件还包括：间隙杆，设置在所述杆与所
述框架之间，在所述第二方向上延伸，并且在所述第一方向上间隔开，以与同所述长边相邻的非沉积部叠置。11.根据权利要求10所述的掩模组件，其中，第一凹槽和第二凹槽通过分别从所述框架的上表面朝向所述框架的下表面去除所述框架的部分而形成...
【专利技术属性】
技术研发人员：朴相河，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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