对准扫描验证模拟装置及其控制方法制造方法及图纸

技术编号:3811642 阅读:253 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供了一种光刻设备的对准扫描验证模拟装置及其控制方法,该装置包括:对准扫描验证模拟控制器、对准扫描控制器、对准扫描位置发生器、对准扫描位置信息采集器、对准扫描光辐射信息发生器、对准扫描光辐射信息采集器、对准扫描信号处理器,其中,对准扫描验证模拟控制器设置对准扫描位置信息采集器和对准扫描光辐射信息采集器的工作状态,使对准扫描位置信息采集器能够接收对准扫描位置信息发生器生成的对准扫描位置数据信息,使对准扫描光辐射信息采集器能够接收对准扫描光辐射信息发生器生成的对准扫描光辐射信息。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻领域,且特别涉及一种光刻设备的对准扫描验证模拟装置, 以及运用这种对准扫描验证模拟装置对光刻设备中对准系统的对准扫描验证模 拟的控制方法。
技术介绍
在工业装置中,由于高精度和高产能的需要,分布着大量高速实时测量、 信号采样、数据采集、数据交换和通信传输等的传感器装置和控制系统。这些 系统需要我们采用多种方式实现传感器探测、信号采样控制、数据采集控制、数据交换控制和数据传输通信等的控制。有该控制需求的装置包括集成电路 制造光刻装置、平板显示面板光刻装置、MEMS/MOEMS光刻装置、先进封装 光刻装置、印刷电路板光刻装置、印刷电路板加工装置以及印刷电路板器件贴 装装置等。光刻设备是一种将所需图案应用于工件上的装置。通常是将所需图案应用 于工件上的目标部分上的装置。光刻装置能够被用于例如集成电路(IC)的制 造。在这种情况下,掩模板被用于生产在IC一个单独层上形成的电路图案,该 图案被传递到工件(如硅晶片)的目标部分,例如包括一部分, 一个或者多个 管芯上。通常是通过成像到工件上提供的一层辐射敏感材料(抗蚀剂)上来按 比例复制所需图像。已知的光刻设备还包括扫描器,运用辐射光束沿给定的方 向("扫描"方向)扫描所述图案,并同时沿与该方向平行或者反平行的方向同 步扫描工件来辐照每一目标部分。还通过将图案压印在工件上而将图案通过构 图部件生成到工件上。在以前的上述设备中,在类似中国专利CN200710044559.4所述对准系统的 光刻设备中,无法进行对准扫描验证模拟,也无法实现光刻设备中对对准系统 进行验证和模拟,不便对对准系统的对准性能进行仿真和评估,无法对准系统性能仿真和评估的真实性和完备性进行检验,不能验证评估对准系统在不同对 准场景和工艺条件下的适应性。
技术实现思路
本专利技术所解决的技术问题在于提供光刻设备的对准扫描验证模拟装置及其 控制方法,运用对准扫描验证模拟装置进行对准扫描验证模拟,以实现光刻设 备中对对准系统进行验证和模拟,便于对对准系统的对准性能进行仿真和评估, 提高了对准系统性能仿真和评估的真实性和完备性,验证评估对准系统在不同 对准场景和工艺条件下的适应性。为解决上述技术问题,本专利技术提供了 一种光刻设备的对准扫描验证模拟装置,该装置包括对准扫描验证模拟控制器、对准扫描控制器、对准扫描位置 发生器、对准扫描位置信息采集器、对准扫描光辐射信息发生器、对准扫描光 辐射信息采集器、对准扫描信号处理器,其中,对准扫描验证模拟控制器设置 对准扫描位置信息采集器和对准扫描光辐射信息釆集器的工作状态,使对准扫 描位置信息采集器能够接收对准扫描位置信息发生器生成的对准扫描位置数据 信息,使对准扫描光辐射信息采集器能够接收对准扫描光辐射信息发生器生成 的对准扫描光辐射信息。进一步的,所述的对准扫描控制器用于计算生成对准扫描参数和计算对准 位置信息,启动对准扫描信号处理器,从对准扫描位置信息采集器和对准扫描 光辐射信息采集器同步收集对准扫描位置信息和对准扫描光辐射信息。进一步的,所述对准扫描参数包括对准扫描起始点和终止点、对准扫描采 样点数、模型偏差补偿参数、系统误差常数、采样同步时序误差常数、信号处 理模型常数。进一步的,所述对准扫描信号处理器使用对准扫描控制器下发的对准扫描 参数,对对准扫描位置信息和对准扫描光辐射信息进行对准信号模型拟合计算。另外,在上述光刻设备中的对准扫描验证模拟装置的控制方法步骤如下 (1)启动光刻设备的对准扫描验证模拟装置,对准扫描验证模拟控制器将 光刻设备计算所得的对准扫描名义参数发送给对准扫描控制器,并对对准扫描 控制器设置对准扫描诊断方式;7(2 )对准扫描-验证;f莫拟控制器将位置信息生成参数发送给对准扫描位置信 息发生器,将光辐射信息生成参数发送给对准扫描光辐射信息发生器;(3 )对准扫描控制器根据接收的对准扫描名义参数计算生成对准扫描参 数,设置从对准扫描验证模拟器接收对准扫描诊断方式,并将对准扫描诊断方 式设置到对准扫描信号处理器中;(4) 对准扫描位置信息发生器根据对准扫描验证模拟控制器提供的位置信 息生成参数计算生成对准扫描位置信息,并将对准扫描位置信息发至对准扫描 位置信息釆集器;(5) 对准扫描光辐射信息发生器4艮据对准扫描验i正;漠拟控制器提供的光辐 射信息生成参数计算生成对准扫描光辐射信息,并将对准扫描光辐射信息发至 对准扫描光辐射信息采集器;(6) 对准扫描信号处理器根据对准扫描控制器下发的对准扫描诊断方式, 设置对准扫描诊断方式;(7) 对准扫描信号处理器根据对准扫描控制器下发的对准扫描参数,使用 指定的对准信号模型对对准扫描位置信息和对准扫描光辐射信息进行拟合计 算,得到对准信号才莫型的参数,并根据对准扫描^^断方式,将诊断数据和对准 信号模型参数发送给对准扫描控制器;(8) 对准扫描控制器接收并4艮据对准扫描信号处理器发送的诊断数据和对 准信号模型参数,计算对准位置信息,根据对准扫描诊断方式将诊断数据和对 准位置信息发送给对准扫描-睑^^莫拟器中;(9) 对准扫描-睑证模拟器对诊断数据和对准位置信息进行分析,显示对准 扫描验证模拟的结果,结束对准扫描验证模拟。本专利技术还公开了一种光刻设备的对准扫描验证模拟系统,该系统包括对 准扫描验证模拟控制器、对准扫描控制器、对准扫描同步控制器、对准扫描位 置信息发生器、对准扫描位置信息采集器、对准扫描位置测量系统、对准扫描 光辐射信息发生器、对准扫描光辐射信息采集器、对准扫描光辐射调制器、对 准扫描光辐射信息探测系统、对准扫描信号处理器,其中对准扫描验证模拟控 制器设置对准扫描位置信息采集器和对准扫描光辐射信息采集器的工作状态, 使对准扫描位置信息采集器能够选择接收对准扫描位置发生器生成的或对准扫8描位置测量系统釆样的对准扫描位置数据信息,使对准扫描光辐射信息采集器能够选择接收对准扫描光辐射信息发生器生成的或对准扫描光辐射信息探测系统采样的对准扫描光辐射信息,对准扫描同步控制器控制对准扫描位置测量系统和对准扫描光辐射信息探测系统间的同步采样时序。进一步的,所述对准扫描位置测量系统测量的是对准扫描光辐射调制器的位置信息,对准扫描光辐射信息探测系统探测的是对准扫描光辐射调制器的光辐射信息。另外,在上述光刻设备中的对准扫描验证模拟系统的控制方法步骤如下(1)启动光刻设备的对准扫描验证模拟系统,对准扫描验证模拟控制器将光刻设备计算所得的对准扫描名义参数发送给对准扫描控制器,并对对准扫描控制器设置对准扫描诊断方式和验^^莫拟方式;(2 )对准扫描验证模拟控制器将位置信息生成参数发送给对准扫描位置信息发生器,将光辐射信息生成参数发送给对准扫描光辐射信息发生器;(3 )对准扫描控制器根据接收的对准扫描名义参数计算生成对准扫描参数,设置从对准扫描验证模拟器接收对准扫描诊断方式和验证模拟方式;(4)根据验证模拟方式,确定是否全景验证模拟,若不是,则转至步骤(5),否则,转至步骤(6);(5 )对准扫描位置信息发生器根据对准扫描验证模拟控制器提供的位置信息生成参数计算生成对准扫描位置信息,并将对准扫描位置信息发至对准扫描位置信息采集器,对准扫描光辐射信息发生器根据对准扫描验证模拟控制器提供的光辐射信息生成本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种光刻设备的对准扫描验证模拟装置,其特征在于,该装置包括:对准扫描验证模拟控制器、对准扫描控制器、对准扫描位置发生器、对准扫描位置信息采集器、对准扫描光辐射信息发生器、对准扫描光辐射信息采集器、对准扫描信号处理器,其中,对准扫描验证模拟控制器设置对准扫描位置信息采集器和对准扫描光辐射信息采集器的工作状态,使对准扫描位置信息采集器能够接收对准扫描位置信息发生器生成的对准扫描位置数据信息,使对准扫描光辐射信息采集器能够接收对准扫描光辐射信息发生器生成的对准扫描光辐射信息。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李焕炀宋海军徐荣伟
申请(专利权)人:上海微电子装备有限公司
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]

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