本发明专利技术的示例性实施方案提供一种用于处理基板的装置及用于处理基板的方法。用于处理基板的装置包括：第一模块；以及处理模块，该处理模块配置为处理基板，并且该第一模块包括：装载端口，该装载端口上放置有容器，该容器具有容纳在其中的基板；传送单元，该传送单元具有在该装载端口与该处理模块之间传送该基板的手部；以及观察单元，该观察单元安装在传送单元中并且配置为观察容纳在容器中的基板的状态。状态。状态。
【技术实现步骤摘要】
用于处理基板的装置及用于处理基板的方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2021年12月29日提交韩国知识产权局的、申请号为10
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2021
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0191361和2022年3月31日提交韩国知识产权局的、申请号为10
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2022
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0040765的韩国专利申请的优先权和权益，它们的全部内容通过引用结合在本申请中。
[0003]本专利技术涉及一种用于处理基板的装置及用于处理基板的方法。
技术介绍
[0004]半导体制造方法是通过在基板上执行预定处理来进行。将在其上已经执行了预定处理的基板或者在其上将要执行预定处理的基板容纳在容器中，然后进行传送。在容器中，基板安装在装在容器内部的狭槽的上部中。
[0005]在传送容器或将基板放置在容器中的工艺中，可能发生诸如由于外部物理作用而导致的容器内基板的位置变形的事件。容纳在容器中的基板被损坏或者基板的安置位置被改变。为了将基板从容器内部传送到容器外部，必须准确地确定容纳在容器中的基板的状态。如果在没有准确地确定容纳在容器中的基板的状态下，则传送基板的传送单元与基板碰撞，导致对基板的额外损伤。
[0006]在基板的状态不是在容器内部的正常状态时，在将基板从容器的内部传送至容器的外部(诸如，处理单元)时，基板不能准确地安置在处理单元中的支承单元上。如果基板没有安置在处理单元内的准确工艺位置处，则可能出现相对于基板的工艺误差，并且难以均匀地处理基板。
技术实现思路
[0007]本专利技术致力于提供一种可以确定容纳在容器中的基板的状态的、用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。
[0008]本专利技术还致力于提供一种可以同时确定容纳在容器中的所有基板的状态的、用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。
[0009]本专利技术致力于提供一种可以选择性地确定容纳在容器中的特定基板的状态的、用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。
[0010]本专利技术的目的不限于此，并且本领域普通技术人员将从以下描述中清楚地理解未提及的其他目的。
[0011]本专利技术的示例性实施方案提供了一种用于处理基板的装置，该装置包括：第一模块；以及处理模块，该处理模块配置为处理基板，并且第一模块可以包括：装载端口，在该装载端口上放置有容器，该容器具有容纳在其中的基板；传送单元，该传送单元具有手部，该手部在装载端口与处理模块之间传送基板；以及观察单元，该观察单元安装在传送单元中，并且配置为观察容纳在容器中的基板的状态。
[0012]根据示例性实施方案，观察单元可以设置成在预设的参考位置处同时观察容纳在容器中的所有基板的状态。
[0013]根据示例性实施方案，观察单元可以安装在手部的端部中，并且可以在将手部固定到参考位置的状态下观察容纳在容器中的多个基板的状态。
[0014]根据示例性实施方案，观察单元可以包括：数据收集部，该数据收集部配置为收集在将光照射到容纳在容器中的基板之后、从基板反射和接收光所花费的时间的时间数据；以及确定部，该确定部根据时间数据估计容纳在容器中的基板与观察单元之间的相对距离、并且通过为各距离数据不同地匹配特定颜色来确定在容纳容器中的基板的状态。
[0015]根据示例性实施方案，第一模块还可以包括辅助观察单元，该辅助观察单元配置为通过朝向容纳在容器中的各基板单独地照射激光来选择性地观察基板的状态，并且其中，辅助观察单元可以通过使用照射到容纳在容器中的基板的激光测量基板与辅助观察单元之间的实际距离来观察基板的状态。
[0016]根据示例性实施方案，辅助观察单元可以安装在手部的端部中。
[0017]根据示例性实施方案，传送单元还可以包括驱动器，该驱动器配置为驱动手部，并且辅助观察单元可以在手部通过驱动器竖直移动的情况下，将激光照射到容纳在容器中的基板。
[0018]根据示例性实施方案，用于处理基板的装置还可以包括控制器，该控制器配置为控制传送单元、观察单元和辅助观察单元，并且控制器可以控制传送单元、观察单元和辅助观察单元以使用观察单元初步观察容纳在容器中的基板的状态，并且使用辅助观察单元二次观察基板的状态。
[0019]根据示例性实施方案，当将手部移动到参考位置以初步观察基板并且根据初步观察将容纳在容器中的基板确定为处于异常状态时，控制器可以控制传送单元、观察单元和辅助观察单元，使得手部竖直移动以二次观察处于异常状态的基板。
[0020]本专利技术的另一示例性实施方案提供了一种处理基板的方法，该方法通过确定在放置在装载端口上的容器中容纳的基板的状态来进行，并且打开容器的门，且通过使用安装在从装载端口传送基板的传送单元中的观察单元来确定在打开门的容器中容纳的基板的状态。
[0021]根据示例性实施方案，观察单元可以设置成在传送单元设置在预设的参考位置处的状态下同时观察容纳在容器中的所有基板的状态。
[0022]根据示例性实施方案，观察单元可以收集关于在将光照射到容纳在容器中的基板之后、从基板反射和接收光所花费的时间的时间数据，并且根据收集到的时间数据来估计容纳在容器中的基板与观察单元之间的相对距离。
[0023]根据示例性实施方案，观察单元可以凭借相对距离通过为各数据不同地匹配特定颜色来确定容纳在容器中的基板的状态。
[0024]根据示例性实施方案，该方法可以通过使用在传送单元中安装的辅助观察单元，朝向在打开门的容器中容纳的各基板单独地照射激光，并且通过使用所照射的激光测量基板与辅助观察单元之间的实际距离来选择性地观察基板的状态。
[0025]根据示例性实施方案，在传送单元在竖直方向上移动的情况下，辅助观察单元可以朝向容纳在容器中的各基板照射激光。
[0026]根据示例性实施方案，可以使用观察单元初步观察基板的状态，并且使用辅助观察单元二次观察基板的状态。
[0027]根据示例性实施方案，当传送单元可以移动到参考位置以初步观察基板、且从初步观察将容纳在容器中的基板确定为处于异常状态时，传送单元可以竖直移动以二次观察处于异常状态的基板。
[0028]根据示例性实施方案，由观察单元确定的基板的状态可以是传送单元与容纳在容器中的基板之间的距离、容纳在容器中的基板的存在或不存在、容纳在容器中的基板的变形、以及容纳在容器中的基板的损坏中的至少一者。
[0029]本专利技术的又一示例性实施方案提供了一种用于处理基板的装置，该装置包括：第一模块；以及处理模块，该处理模块配置为处理所述基板，并且第一模块可以包括：装载端口，在该装载端口上放置有容器，该容器具有容纳在其中的基板；传送框架，该传送框架设置在装载端口与处理模块之间，并且配置为传送基板；传送单元，该传送单元配置在传送框架内、并且具有用于在装载端口与处理模块之间传送基板的手部；观察单元，该观察单元安装在手部中、并且配置为在手部设置在预设的参考位置的状态下同时观察容纳在容器中的所有基板的状态；以及辅助观察单元，该辅本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：第一模块；以及处理模块，所述处理模块配置为处理所述基板，其中，所述第一模块包括：装载端口，在所述装载端口上放置有容器，所述容器具有容纳在其中的所述基板；传送单元，所述传送单元具有在所述装载端口与所述处理模块之间传送所述基板的手部；以及观察单元，所述观察单元安装在所述传送单元中、并且配置为观察容纳在所述容器中的所述基板的状态。2.根据权利要求1所述的用于处理基板的装置，其中，所述观察单元设置成在预设的参考位置处同时观察容纳在所述容器中的所有所述基板的状态。3.根据权利要求2所述的用于处理基板的装置，其中，所述观察单元安装在所述手部的端部中、并且在将所述手部固定到所述参考位置的状态下观察容纳在所述容器中的多个基板的状态。4.根据权利要求3所述的用于处理基板的装置，其中，所述观察单元包括：数据收集部，所述数据收集部配置为收集关于在将光照射到容纳在所述容器中的所述基板之后、从所述基板反射和接收所述光所花费的时间的时间数据；以及确定部，所述确定部配置为根据所述时间数据估计容纳在所述容器中的所述基板与所述观察单元之间的相对距离、并且通过为各距离数据不同地匹配特定颜色来确定容纳在所述容器中的所述基板的状态。5.根据权利要求4所述的用于处理基板的装置，其中，所述第一模块还包括辅助观察单元，所述辅助观察单元配置为通过朝向容纳在所述容器中的各所述基板单独地照射激光来选择性地观察所述基板的状态，其中，所述辅助观察单元通过以下来观察所述基板的状态：使用照射到容纳在所述容器中的所述基板的所述激光、测量所述基板与所述辅助观察单元之间的实际距离。6.根据权利要求5所述的用于处理基板的装置，其中，所述辅助观察单元安装在所述手部的所述端部中。7.根据权利要求6所述的用于处理基板的装置，其中，所述传送单元还包括驱动器，所述驱动器配置为驱动所述手部，其中，在所述手部通过所述驱动器而竖直地移动的情况下，所述辅助观察单元将所述激光照射到容纳在所述容器中的所述基板。8.根据权利要求7所述的用于处理基板的装置，所述装置还包括：控制器，所述控制器配置为控制所述传送单元、所述观察单元和所述辅助观察单元，其中，所述控制器配置为控制所述传送单元、所述观察单元和所述辅助观察单元，以使用所述观察单元初步观察容纳在所述容器中的所述基板的状态，并且使用所述辅助观察单元二次观察所述基板的状态。9.根据权利要求8所述的用于处理基板的装置，其中，当将所述手部移动到所述参考位置以初步观察所述基板并根据所述初步观察将容纳在所述容器中的所述基板确定为处于异常状态时，所述控制器配置为控制所述传送单元、所述观察单元和所述辅助观察单元，使
得所述手部竖直移动以二次观察处于所述异常状态的所述基板。10.一种处理基板的方法，所述方法通过确定在放置在装载端口上的容器中容纳的基板的状态来进行，其中，打开所述容器的门，且通过使用安装在传送单元中的观察单元来确定在打开所述门的所述容器中容纳的所述基板的状态，所述传送单元从所述装载端口传送所述基板。11.根据权利要求10所述的处理基板的方法，其中，所述观察单元设置成在所述传送单元设置在预设的参考位置的状态下同时观察容纳在所述容器中的所有所述基...
【专利技术属性】
技术研发人员：朴昌俊，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：
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