含苯并噻唑类化合物的除草组合物制造技术

本发明专利技术提供一种除草组合物，所述组合物的除草活性成分是式(I)所示苯并噻唑类化合物或其盐中的一种或多种。本发明专利技术还提供另一种除草组合物，所述组合物的除草活性成分包括第一活性成分和第二活性成分，所述第一活性成分为式(I)所示的苯并噻唑类化合物或其盐，所述第二活性成分为具有除草活性的非式(I)所示的苯并噻唑类化合物或其盐的一种或多种。这两种除草组合物均具有优良的除草活性，可用于防除作物种植田和果园内的杂草。种植田和果园内的杂草。种植田和果园内的杂草。种植田和果园内的杂草。

【技术实现步骤摘要】
含苯并噻唑类化合物的除草组合物


[0001]本专利技术属于农用除草剂
，具体涉及一类具有除草活性的3,6
‑
二取代苯并噻唑类化合物、制备方法、组合物及其作为除草剂的用途。

技术介绍

[0002]杂草是导致作物减产的重要因素，使用化学除草剂是防治杂草的主要技术手段。随着除草剂的广泛使用，杂草对现有化学除草剂的抗性日益增强，抗性杂草的治理已成为农业生产中亟待解决的重要问题，开发具有新颖化学结构和作用机制的除草剂是解决这一问题的根本途径。
[0003]苯并噻唑衍生物具有广泛的生物活性。其中，已商品化除草剂中的苯并噻唑衍生物包括苯噻草胺、草除灵、苯噻隆和噻唑禾草灵等。这些商品化除草剂产品均在杂草治理中发挥着重要作用。
[0004][0005]本专利技术旨在设计合成了一类新型的3,6
‑
二取代苯并噻唑类化合物，并探讨3,6
‑
二取代苯并噻唑类化合物的除草活性。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供3,6
‑
二取代苯并噻唑类化合物的结构通式，合成方法以及作为除草活性成分的用途。所述3,6
‑
二取代苯并噻唑类化合物，具有新颖的分子骨架，对多种阔叶杂草及部分禾本科杂草具有极为优良的除草活性，而且对作物具有很好的作物安全性。
[0007]在本专利技术的语义表述中，3,6
‑
二取代苯并噻唑类化合物、苯并噻唑类化合物具有相同的含义。
[0008]本专利技术给出一种除草组合物，所述组合物的除草活性成分是式(I)所示苯并噻唑类化合物或其盐中的一种或多种。需要说明的是，在这类除草组合物中，除草活性成分仅仅是式(I)所示苯并噻唑类化合物或其盐，不包括其他具有除草活性的除草剂组分。
[0009]鉴于本专利技术所述式(I)所示苯并噻唑类化合物或其盐是一类化学结构新型的具有优异除草活性的化合物，本专利技术尤其对3,6
‑
二取代苯并噻唑类化合物结构式中的取代基
团、合成工艺以及代表性的具体化合物予以详实阐述，以利于本领域技术人员理解本专利技术。
[0010]一种苯并噻唑类化合物，具有如式(I)所示的化学结构式。
[0011][0012]式(I)中：
[0013]取代基R1选自卤素或C
1～
C4卤代烷基。
[0014]取代基R2选自氢、卤素或C
1～
C4卤代烷基。
[0015]取代基R3选自C
1～
C8烷基、C
1～
C8卤代烷基、C
3～
C6链烯基、卤代C
3～
C6链烯基、C
3～
C6炔基、卤代C
3～
C6炔基、氰基C
1～
C8烷基、C
1～
C8烷基氧基、C
1～
C8卤代烷基氧基、C
1～
C8烷基硫基、C
1～
C8烷基氧基
‑
C
1～
C8烷基、氢、CN。
[0016]取代基R4选自
[0017][0018]作为取代基R4的进一步阐述，其中，
[0019]取代基R5选自氢、C
1～
C6烷基、C
3～
C6链烯基、C
3～
C6炔基、C
1～
C6卤代烷基、C
3～
C6卤代链烯基、C
3～
C6卤代炔基、氰基C
1～
C6烷基、C
1～
C6烷氧基
‑
C
1～
C6烷基、C
1～
C6烷氧基
‑
C
1～
C6烷氧基
‑
C
1～
C6烷基、二(C
1～
C6烷氧基)C
1～
C6烷基、C
1～
C6卤代烷氧基
‑
C
1～
C6烷基、C
3～
C6链烯氧基
‑
C
1～
C6烷基、C
3～
C6卤代链烯氧基
‑
C
1～
C6烷基、C
3～
C6链烯氧基
‑
C
1～
C6烷氧基
‑
C
1～
C6烷基、C
1～
C6烷硫基
‑
C
1～
C6烷基、C
1～
C6烷基亚磺酰基
‑
C
1～
C6烷基、C
1～
C6烷基磺酰基
‑
C
1～
C6烷基、C
1～
C6烷基羰基
‑
C
1～
C6烷基、C
1～
C6烷基羰氧基
‑
C
1～
C6烷基、C
1～
C6烷氧基羰氧基
‑
C
1～
C6烷基、C
1～
C6烷氧基羰基
‑
C
1～
C6烷基、C
1～
C6烷氧基羰基
‑
C
3～
C6链烯基、C
1～
C6烷氧基羰基
‑
卤代C
3～
C6链烯基、C
1～
C6卤代烷氧基羰基
‑
C
1～
C6烷基、C
3～
C6链烯氧羰基
‑
C
1～
C6烷基、C
3～
C6炔氧羰基
‑
C
1～
C6烷基、C
1～
C6烷基胺基
‑
C
1～
C6烷基、二
‑
C
1～
C6烷基胺基
‑
C
1～
C6烷基，C
3～
C6环烷基
‑
C
1～
C6烷基、苯基、苯基
‑
C
1～
C4烷基、5～6元杂环
‑
C
1～
C6烷基。
[0020]或R5选自
‑
CH2‑
CH2‑
O
‑
N＝CR
11
R
12
、
‑
CH2‑
CH2‑
N＝CR
13
R
14
、
‑
CH2‑
CH2‑
NH
‑
C(CH3)＝CR
15
R
16
，其中，R
11
、R
12...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种除草组合物，所述组合物的除草活性成分是式(I)所示苯并噻唑类化合物或其盐中的一种或多种，式(I)中：R1选自卤素或C
1～
C4卤代烷基；R2选自氢、卤素或C
1～
C4卤代烷基；R3选自C
1～
C8烷基、C
1～
C8卤代烷基、C
3～
C6链烯基、卤代C
3～
C6链烯基、C
3～
C6炔基、卤代C
3～
C6炔基、氰基C
1～
C8烷基、氢、CN；R4选自R5选自氢、C
1～
C4烷基、C
3～
C6链烯基、C
3～
C6炔基、C
1～
C4卤代烷基、C
3～
C6卤代链烯基、C
3～
C6卤代炔基、氰基C
1～
C4烷基、C
1～
C4烷氧基
‑
C
1～
C3烷基、C
1～
C3烷氧基
‑
C
1～
C3烷氧基
‑
C
1～
C3烷基、二(C
1～
C3烷氧基)C
1～
C3烷基、C
1～
C4卤代烷氧基
‑
C
1～
C3烷基、C
3～
C6链烯氧基
‑
C
1～
C3烷基、C
3～
C6卤代链烯氧基
‑
C
1～
C3烷基、C
3～
C6链烯氧基
‑
C
1～
C3烷氧基
‑
C
1～
C3烷基、C
1～
C3烷硫基
‑
C
1～
C3烷基、C
1～
C3烷基亚磺酰基
‑
C
1～
C3烷基、C
1～
C3烷基磺酰基
‑
C
1～
C3烷基、C
1～
C3烷基羰基
‑
C
1～
C3烷基、C
1～
C3烷基羰氧基
‑
C
1～
C3烷基、C
1～
C3烷氧基羰氧基
‑
C
1～
C3烷基、C
1～
C3烷氧基羰基
‑
C
1～
C3烷基、C
1～
C3烷氧基羰基
‑
C
3～
C6链烯基、C
1～
C3烷氧基羰基
‑
卤代C
3～
C6链烯基、C
1～
C3卤代烷氧基羰基
‑
C
1～
C3烷基、C
3～
C6链烯氧羰基
‑
C
1～
C3烷基、C
3～
C6炔氧羰基
‑
C
1～
C3烷基、C
1～
C3烷基胺基
‑
C
1～
C3烷基、二
‑
C
1～
C3烷基胺基
‑
C
1～
C3烷基、C
3～
C6环烷基甲基、C
3～
C6环烷基乙基、苯基、苄基、5～6元杂环甲基、5～6元杂环乙基。或R5选自
‑
CH2‑
CH2‑
O
‑
N＝CR
11
R
12
、
‑
CH2‑
CH2‑
N＝CR
13
R
14
、
‑
CH2‑
CH2‑
NH
‑
C(CH3)＝CR
15
R
16
，其中，R
11
、R
12
、R
13
、R
14
、R
15
和R
16
相互独立地选自氢、C
1～
C4烷基、CN、
‑
C(＝O)O
‑
C
1～
C4烷基；R6和R7相互独立地为R5，或者R6和R7形成5～7元碳环；R8选自氢、C
1～
C4烷基、C
3～
C6链烯基、C
3～
C6炔基、C
1～
C6卤代烷基、C
3～
C6卤代链烯基、C
3～
C6卤代炔基；R9选自C
1～
C6烷基、C
1～
C6烷氧基、苯基、苯氧基、苯基
‑
C
1～
C4烷基、苯基
‑
C
1～
C4烷氧基；R
10
选自氢、C
1～
C6烷基、C
1～
C6卤代烷基、C
3～
C6环烷基、C
3～
C6卤代环烷基、苯基、苯基
‑
C
1～
C4烷基。2.根据权利要求1所述的除草组合物，其特征在于，所述R1选自氟、氯、溴、碘、三氟甲基、二氟甲基、氯二氟甲基。3.根据权利要求2所述的除草组合物，其特征在于，所述R2选自氢、氟、氯、溴、碘、三氟甲基、二氟甲基、氯二氟甲基。
4.根据权利要求1所述的除草组合物，其特征在于，所述R3选自甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、1
‑
丙烯基、2
‑
丙烯基、1
‑
丁烯基、2
‑
丁烯基、3
‑
丁烯基、1
‑
戊烯基、2
‑
戊烯基、3
‑
戊烯基、4
‑
戊烯基、1
‑
己烯基、2
‑
己烯基、3
‑
己烯基、4
‑
己烯基、5
‑
己烯基。5.根据权利要求1所述的除草组合物，其特征在于，所述R5选自C
3～
C6环烷基甲基、C
3～
C6环烷基乙基、苯基、苄基，其中环烷基、苯基和苄基的环上不含或含有1～4个选自R
17
的取代基；R
17
选自卤素、C
1～
C3烷基、C
1～
C3卤代烷基、C
3～
C6环烷基、C
3～
C6环烷氧基、C
1～
C3烷氧基、C
1～
C3卤代烷氧基、C
3～
C6卤代链烯基、C
3～
C6链烯氧基、C
1～
C3烷硫基、C
1～
C3烷氧基羰基
‑
C
1～
C3烷氧基、6.根据权利要求5所述的除草组合物，其特征在于，所述R
17
选自氟、氯、溴、甲基、乙基、异丙基、甲氧基、乙氧基、7.根据权利要求1所述的除草组合物，其特征在于，所述R5选自5～6元杂环
‑
C
1～
C6烷基，构成所述杂环的原子除了碳原子外，还具有1或2个选自
‑
N(R
18
)
‑
、
‑
N＝N
‑
、
‑
O
‑
、
‑
S
‑
的环成员，所述杂环上不含或含有1～4个选自R
19
的取代基；R
18
选自氢、C
1～
C4烷基、CN、
‑
C(＝O)O
‑
C
1～
C4烷基；R
19
选自卤素、硝基、CN、C
1～
C4烷基、C
1～
C4卤代烷基、C
1～
C4烷氧基、C
1～
C4烷氧羰基。8.根据权利要求7所述的除草组合物，其特征在于，所述R5选自5～6元杂环甲基、5～6元杂环乙基；R
18
选自氢、甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、CN；R
19
选自氟、氯、溴、碘、硝基、CN、甲基、乙基、丙基、丁基、异丙基、异丁基、氯甲基、氯乙基、氯丙基、甲氧基、乙氧基、丙基氧基、丁基氧基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、丁基氧基羰基。9.根据权利要求1所述的除草组合物，其特征在于，所述R
11
、R
12
、R
13
、R
14
、R
15
和R
16
相互独立地选自氢、甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、CN、
‑
C(＝O)O
‑
甲基、
‑
C(＝O)O
‑
乙基、
‑
C(＝O)O
‑
异丙基。10.根据权利要求1所述的除草组合物，其特征在于，所述R6和R7形成5～7元碳环，构成所述5～7元碳环的原子除了碳原子外，还具有1或2个选自
‑
N(R
18
)
‑
，
‑
N＝N
‑
，
‑
C(＝O)
‑
，
‑
O
‑
，
‑
S
‑
的环成员；所述5～7元碳环上不含或含有1～4个选自...

【专利技术属性】
技术研发人员：姬志勤，魏少鹏，
申请(专利权)人：西北农林科技大学，
类型：发明
国别省市：