【技术实现步骤摘要】
一种喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法
[0001]本专利技术属于IC半导体超高洁净度清洗
,具体涉及一种喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法。
技术介绍
[0002]随着IC领域的发展,半导体材料的洁净度自始至终是重中之重,不洁净的设备或工件会携带大量的污染物及其他金属离子,这对于半导体加工的刻蚀或沉积工艺产生非常大的影响,而一旦设备封装之后,将会污染其他的真空连接腔体,会花费更大的代价去恢复洁净度、排查污染源,如何保证半导体材料的超高洁净度是一个亟待解决的问题。
技术实现思路
[0003]为解决上述技术问题,本专利技术提出一种喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法。
[0004]具体技术方案如下:
[0005]一种喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法,包括如下步骤:(1)对来料抛光;(2)预清洗;(3)有机溶剂擦拭和高压水清洗;(4)第一次脱脂清洗;(5)第一次酸洗水洗;(6)N2吹干
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喷砂
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高压水清洗;(7)第二次脱脂清洗;(8)第二次酸洗水洗;(9)超声波纯水洗
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溢流
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N2吹干;(10)包装。
[0006]步骤(1)所述抛光为机械抛光打磨,用砂纸进行初步打磨,无肉眼可见缺陷后,使用菜瓜布细化表面纹路,面粗Ra<0.8μm。
[0007]步骤(2)所述预清洗为:经过抛光后,确认表面没有异常问题,使用弱碱性温和脱脂剂进行预清洗,清洗表面脏污;使用高压水清洗或使用蒸汽枪清洗小孔工位内部,预清洗后必须进行两次 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)对来料抛光;(2)预清洗;(3)有机溶剂擦拭和高压水清洗;(4)第一次脱脂清洗;(5)第一次酸洗水洗;(6)N2吹干
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喷砂
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高压水清洗;(7)第二次脱脂清洗;(8)第二次酸洗水洗;(9)超声波纯水洗
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溢流
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N2吹干;(10)包装。2.根据权利要求1所述的喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法,其特征在于:步骤(1)所述抛光为机械抛光打磨,用砂纸进行初步打磨,无肉眼可见缺陷后,使用菜瓜布细化表面纹路,面粗Ra<0.8μm。3.根据权利要求1所述的喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法,其特征在于,步骤(2)所述预清洗为:经过抛光后,确认表面没有异常问题,使用弱碱性温和脱脂剂进行预清洗,清洗表面脏污;使用高压水清洗或使用蒸汽枪清洗小孔工位内部,预清洗后必须进行两次水膜连续性检测,确保表面洁净,无油污。4.根据权利要求1所述的喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法,其特征在于,步骤(3)操作为:进入千级洁净间使用有机溶剂擦拭工件表面、挂点内以及挂具,擦拭两遍以上,然后进入洁净间进行高压水清洗,挂具和孔内重点冲洗。5.根据权利要求1所述的喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方法,其特征在于,步骤(4)操作为:试片经高压水清洗后,进入洁净间,使用洁净的脱脂剂进行第一次脱脂清洗,并溢流水洗。6.根据权利要求1所述的喷砂不锈钢超高洁净度清洗的方...
【专利技术属性】
技术研发人员:崔鑫,徐宏岩,金艳艳,秦洪达,
申请(专利权)人:沈阳富创精密设备股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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