一种旋转等离子喷嘴制造技术

技术编号:38047320 阅读:22 留言:0更新日期:2023-06-30 11:13
一种旋转等离子喷嘴,包括喷嘴本体,所述喷嘴本体为柱状结构,其第一端设有进口,所述喷嘴本体第二端侧面设有喷嘴口,所述进口与所述喷嘴口之间经由离子通道连通,所述离子通道为包括由进口向所述喷嘴本体第二端延伸的第一通道和由第一通道末端横向延伸至所述喷嘴口的第二通道,所述进口尺寸大于所述喷嘴口尺寸,所述第一通道为锥形通道;所述喷嘴本体第二端于远离所述喷嘴口一侧的本体内设有多个配重槽。本实用新型专利技术提供的旋转等离子喷嘴不仅能够实现对产品内部侧面的处理,而且能够使等离子火焰在旋转过程中更加接近产品内侧表面,同时保持喷嘴主体的重心平衡和等离子火焰平稳,保证良好的表面处理质量。保证良好的表面处理质量。保证良好的表面处理质量。

【技术实现步骤摘要】
一种旋转等离子喷嘴


[0001]本技术涉及一种等离子处理设备
,尤其是涉及一种圆筒式的旋转等离子喷嘴。

技术介绍

[0002]等离子体,是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质,尺度大于德拜长度的宏观电中性电离气体,其运动主要受电磁力支配,并表现出显著的集体行为。它广泛存在于宇宙中,常被视为是除去固、液、气外,物质存在的第四态。等离子体是一种很好的导电体,利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体。等离子体物理的发展为材料、能源、信息、环境空间、空间物理、地球物理等科学的进一步发展提供了新的技术和工艺。所以等离子体的应用非常的广泛,包括数码行业、电子行业、汽车行业及印刷包装行业等。
[0003]现有的等离子喷嘴分为直流喷枪上使用的直喷喷嘴和旋转喷枪上使用的旋转喷嘴两种,其中直喷喷嘴适用于需处理范围小而窄的产品,旋转喷嘴则适用于需处理范围大的产品,而这两种喷嘴均只能处理产品的外表面平面,对于具有腔体或贯穿孔的产品,例如圆环状的产品,也可以通过旋转喷嘴来实现处理,但是,现有的旋转喷嘴为较细且长的喷嘴形式,在实际使用过程中,当遇到内径较大的环状或筒状的产品时,需要控制喷出的等离子火焰的距离较长,功率消耗较大,否则无法完全的触及产品内侧表面。因此需要设计不仅能够处理筒状或环状产品的内侧面,而且适合径向尺寸较大的产品内侧面的处理的等离子设备。

技术实现思路

[0004]本技术解决的技术问题是提供一种旋转等离子喷嘴,不仅能够实现对产品内部侧面的处理,而且能够使等离子火焰在旋转过程中更加接近产品内侧表面,同时保持喷嘴主体的重心平衡和等离子火焰平稳,保证良好的表面处理质量。
[0005]本技术的技术解决方案是:
[0006]一种旋转等离子喷嘴,其中,包括喷嘴本体,所述喷嘴本体为柱状结构,其第一端设有进口,所述喷嘴本体第二端侧面设有喷嘴口,所述进口与所述喷嘴口之间经由离子通道连通,所述离子通道为包括由进口向所述喷嘴本体第二端延伸的第一通道和由第一通道末端横向延伸至所述喷嘴口的第二通道,所述进口尺寸大于所述喷嘴口尺寸,所述第一通道为锥形通道;所述喷嘴本体第二端于远离所述喷嘴口一侧的本体内设有多个配重槽。
[0007]如上所述的旋转等离子喷嘴,其中,所述第一通道倾斜延伸至靠近所述喷嘴口的一侧,形成斜锥形通道,所述第二通道倾斜连接所述第一通道末端和喷嘴口,所述第二通道与所述喷嘴本体底面的倾斜夹角为75度至85度之间。
[0008]如上所述的旋转等离子喷嘴,其中,所述第一通道和第二通道之间的连接处设有弧形过渡曲面。
[0009]如上所述的旋转等离子喷嘴,其中,所述喷嘴本体第一端外侧设有外螺牙连接结构。
[0010]如上所述的旋转等离子喷嘴,其中,所述配重槽向内凹陷设定深度,所述配重槽以所述喷嘴口中心与所述喷嘴本体中心轴之间的连线两侧对称分布。
[0011]如上所述的旋转等离子喷嘴,其中,所述喷嘴本体外周两侧相对位置设有切口。
[0012]如上所述的旋转等离子喷嘴,其中,所述喷嘴口为直径为4毫米的圆形孔,所述第一通道的进口的直径小于20毫米。
[0013]由以上说明得知,本技术与现有技术相比较,确实可达到如下的功效:
[0014]本技术提供的旋转等离子喷嘴为一种径向尺寸较大的柱状的喷嘴结构,其喷嘴本体内的离子通道形成倾斜的锥形通道结构,延伸至喷嘴本体第二端部的侧面的喷嘴口,且为渐缩通道结构,另外在离子通道的相对一侧的喷嘴本体上设有配重槽,通过配种槽的设置,使喷嘴本体通过切除设定槽口的重量来重新定位重心,使之获得平衡,更进一步地保证旋转过程中获得动态平衡,不会出现重心偏移等情况,提高本技术喷嘴的使用寿命和处理效果。
附图说明
[0015]图1为本技术的较佳实施例的立体结构示意图;
[0016]图2为本技术的较佳实施例的剖视结构示意图。
[0017]主要元件标号说明:
[0018]本技术:
[0019]1:喷嘴本体
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2:外螺牙连接结构
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3:喷嘴口
[0020]4:配重槽
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5:第一通道
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6:第二通道
[0021]7:弧形过渡曲面
具体实施方式
[0022]为了对本技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照附图说明本技术的具体实施方式。
[0023]本技术的一种旋转等离子喷嘴,其较佳的实施例中,请参阅图1至图2所示,本技术的旋转等离子喷嘴包括喷嘴本体1,所述喷嘴本体1为柱状结构,其第一端设有进口,所述喷嘴本体1第二端侧面设有喷嘴口3,所述进口与所述喷嘴口3之间经由离子通道连通,所述离子通道为包括由进口向所述喷嘴本体1第二端延伸的第一通道5和由第一通道5末端横向延伸至所述喷嘴口3的第二通道6,所述进口尺寸大于所述喷嘴口3尺寸,所述第一通道5为锥形通道;所述喷嘴本体1第二端于远离所述喷嘴口3一侧的本体内设有多个配重槽4。
[0024]较佳的,所述旋转等离子喷嘴设有柱状的喷嘴本体1,喷嘴本体1第一端设有进口,所述喷嘴本体1内具有与所述喷嘴口3连通的锥形通道,且所述锥形通道为朝向所述喷嘴口3一侧倾斜的斜锥形通道结构;喷枪中产生的等离子体从进口进入旋转等离子喷嘴中,喷嘴本体1内设有使等离子体集中的锥形通道,锥形通道下端连接至第二通道6,从而将等离子体输送至喷嘴口3,向外喷出;所述第一通道5和第二通道6通过渐缩的通道结构将等离子体
引导至喷嘴口3喷出,不仅可以从侧面喷出后作用在环状或筒状产品的内侧面上,而且喷嘴本体1在旋转的过程中,由于配重槽4对中心的重新平衡,使得喷嘴本体1不会出现重心偏移的情况,减少了喷枪损坏的几率,也使得等离子处理更为稳定和均匀。
[0025]如上所述的本技术的旋转等离子喷嘴,其较佳的实施例中,如图2所示,所述第一通道5倾斜延伸至靠近所述喷嘴口3的一侧,形成斜锥形通道,所述第二通道6倾斜连接所述第一通道5末端和喷嘴口3,所述第二通道6与所述喷嘴本体1底面的倾斜夹角Q为75度至85度之间,较佳的为80度。较佳的,所述第一通道5倾斜延伸,其内部为渐缩形状的斜锥形通道结构,借此,可以引导等离子体经由倾斜的曲面输送至第二通道6处,使其能够平滑地加速。
[0026]如上所述的本技术的旋转等离子喷嘴,其较佳的实施例中,所述第一通道5和第二通道6之间的连接处设有弧形过渡曲面7。如图所示,所述第一通道5和第二通道6之间的连接处设有平滑过渡的弧形过渡曲面7,等离子体有第一通道5流入第二通道6的过程中,需要折拐一个较大的角度,通过弧形过渡曲面7的设置,能够有效地使等离子流体平滑地流道第二通道6内,保证等离子流体的流畅。
[0027]如上所述的本技术的旋转等离子喷嘴,其较佳本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种旋转等离子喷嘴,其特征在于,包括喷嘴本体,所述喷嘴本体为柱状结构,其第一端设有进口,所述喷嘴本体第二端侧面设有喷嘴口,所述进口与所述喷嘴口之间经由离子通道连通,所述离子通道为包括由进口向所述喷嘴本体第二端延伸的第一通道和由第一通道末端横向延伸至所述喷嘴口的第二通道,所述进口尺寸大于所述喷嘴口尺寸,所述第一通道为锥形通道;所述喷嘴本体第二端于远离所述喷嘴口一侧的本体内设有多个配重槽。2.如权利要求1所述的旋转等离子喷嘴,其特征在于,所述第一通道倾斜延伸至靠近所述喷嘴口的一侧,形成斜锥形通道,所述第二通道倾斜连接所述第一通道末端和喷嘴口,所述第二通道与所述喷嘴本体底面的倾斜夹角...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡卫
申请(专利权)人:深圳市诚峰智造有限公司
类型:新型
国别省市:

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