快速测量取向硅钢成品晶粒取向的方法技术

本申请公开了一种快速测量取向硅钢成品晶粒取向的方法。该方法包括：通过对取向硅钢成品表面进行处理，得到光亮且平整的金属基体，并通过扫描仪得到所述金属基体中晶粒的扫描照片；通过将所述扫描照片设置为灰度模式，确定所述晶粒的平均灰度值，并根据所述平均灰度值，确定所述晶粒的{110}晶面与轧面的夹角，以确定所述晶粒的晶面密勒指数；通过粉纹法对所述晶粒的磁畴进行观测，获得所述晶粒的磁畴壁与轧向的夹角；根据所述晶面密勒指数，以及所述磁畴壁与轧向的夹角，确定晶粒密勒指数，从而实现快速测量取向硅钢成品的晶粒取向。本申请提供的技术方案能够实现快速测量取向硅钢成品晶粒取向。钢成品晶粒取向。钢成品晶粒取向。

【技术实现步骤摘要】
快速测量取向硅钢成品晶粒取向的方法


[0001]本申请属于取向硅钢晶粒取向测量
，尤其涉及一种快速测量取向硅钢成品晶粒取向的方法。

技术介绍

[0002]目前，通过直接采用EBSD分析技术，或者采用X射线衍射分析技术，或者腐蚀坑法测量取向硅钢晶粒的晶体取向，因晶粒尺寸较大存在测量过程复杂，工作效率较低，以及测量成本较高的问题。因此需要一种能够快速测量取向硅钢成品晶粒取向的方法。

技术实现思路

[0003]本申请的实施例提供了一种快速测量取向硅钢成品晶粒取向的方法，所述方法能够快速测量取向硅钢成品晶粒取向。同时，能够解决测量过程复杂，工作效率较低，以及测量成本较高的问题。
[0004]本申请的其它特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本申请的实践而习得。
[0005]根据本申请实施例的第一方面，提供了一种快速测量取向硅钢成品晶粒取向的方法，其特征在于，所述方法包括：通过对取向硅钢成品表面进行处理，得到光亮且平整的金属基体，并通过扫描仪得到所述金属基体中晶粒的扫描照片；通过将所述扫描照片设置为灰度模式，确定所述晶粒的平均灰度值，并根据所述平均灰度值，确定所述晶粒的{110}晶面与轧面的夹角，以确定所述晶粒的晶面密勒指数；通过粉纹法对所述晶粒的磁畴进行观测，获得所述晶粒的磁畴壁与轧向的夹角；根据所述晶面密勒指数，以及所述磁畴壁与轧向的夹角，确定晶粒密勒指数，从而实现快速测量取向硅钢成品的晶粒取向。
[0006]在本申请的一些实施例中，基于前述方案，所述通过对取向硅钢成品表面进行处理，得到光亮且平整的金属基体，包括：将所述取向硅钢成品放入质量浓度为10％～40％的盐酸水溶液中浸泡，且浸泡时间大于3min，且所述盐酸水溶液温度为40℃～70℃；在对所述取向硅钢成品腐蚀完成后，依次使用质量浓度为10％～30％的碳酸钠水溶液，去离子水，以及无水乙醇清洗1～2遍，并冷风吹干，从而得到光亮且平整的金属基体。
[0007]在本申请的一些实施例中，基于前述方案，所述通过将所述扫描照片设置为灰度模式，确定所述晶粒的平均灰度值，包括：通过将所述扫描照片设置为灰度模式，得到所述晶粒对应的灰度值，从而确定所述晶粒的平均灰度值，其中，用于计算所述平均灰度值的晶粒面积大于等于晶粒总面积的三分之一。
[0008]在本申请的一些实施例中，基于前述方案，所述根据所述平均灰度值，确定所述晶粒的{110}晶面与轧面的夹角，以确定所述晶粒的晶面密勒指数，包括：根据所述平均灰度值，确定所述晶粒的{110}晶面与轧面的夹角；根据所述晶粒的{110}晶面与轧面的夹角，以及所述取向硅钢成品中的织构种类，确定所述晶粒的晶面密勒指数。
[0009]在本申请的一些实施例中，基于前述方案，所述取向硅钢成品中的织构种类包括
{110}～{210}面织构。
[0010]在本申请的一些实施例中，基于前述方案，所述通过粉纹法对所述晶粒的磁畴进行观测，获得所述晶粒的磁畴壁与轧向的夹角，包括：在磁场强度大于等于0.3mT的情况下，将磁畴观测液滴到所述晶粒指定的位置，且在30s～60s后对所述晶粒的磁畴进行观测和拍照，从而通过粉纹法对所述晶粒的磁畴进行观测，获得所述晶粒的磁畴壁与轧向的夹角。
[0011]在本申请的一些实施例中，基于前述方案，所述磁畴观测液为水基的Fe3O4悬浊液，其中，所述Fe3O4悬浊液中的颗粒尺寸为5μm～50μm，且所述Fe3O4悬浊液的浓度为1mg/L～10mg/L。
[0012]在本申请的一些实施例中，基于前述方案，所述方法包括：在使用磁畴观测液之前，需要在搅拌速率为10r/min～50r/min下，使用磁力搅拌器搅拌磁畴观测液。
[0013]在本申请的一些实施例中，基于前述方案，在观察所述晶粒的磁畴之前，所述方法还包括：在所述金属基体的表面覆盖一层平整的聚丙烯材质的塑料薄膜，并将所述塑料薄膜固定在所述金属基体，其中，所述塑料薄膜的厚度小于等于0.03mm，且所述塑料薄膜的面积大于待观测区域面积。
[0014]在本申请的一些实施例中，基于前述方案，在对晶粒进行取向测量之前，所述方法还包括：选取宽度大于等于5mm，且长度大于等于5mm，且面积等效圆直径大于等于1mm的晶粒，以进行晶粒的取向测量。
[0015]本申请产生的有益效果：在本申请实施的过程中，通过对取向硅钢成品表面进行处理，得到光亮且平整的金属基体，并通过扫描仪得到所述金属基体中晶粒的扫描照片。通过将所述扫描照片设置为灰度模式，确定所述晶粒的平均灰度值，并根据所述平均灰度值，确定所述晶粒的{110}晶面与轧面的夹角，以确定所述晶粒的晶面密勒指数。
[0016]由于晶粒的密勒指数需要通过晶面密勒指数，以及晶粒的<001>晶向与轧向的夹角获得。同时，由于晶粒的<001>晶向不易测量，且晶粒的磁畴壁的方向平行于晶粒的<001>晶向。因此，可以通过观测磁畴壁的方向来确定晶粒的<001>晶向。通过粉纹法对所述晶粒的磁畴进行观测，获得所述晶粒的磁畴壁与轧向的夹角，从而得到晶粒的<001>晶向与轧向的夹角。根据得到的晶面密勒指数，以及磁畴壁与轧向的夹角，可以确定晶粒密勒指数，从而实现快速测量取向硅钢成品的晶粒取向。
[0017]基于此，本申请中提出的快速测量取向硅钢成品晶粒取向的方法能够快速测量取向硅钢成品晶粒取向。还能够解决测量过程复杂，工作效率较低，以及测量成本较高的问题。同时，对于取向硅钢来说，快速且精确获得晶粒的{110}晶面与轧面的夹角，以及晶粒的<001>晶向与轧向的夹角对于产品织构控制和性能优化具有重要的指导意义。
[0018]应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本申请。
附图说明
[0019]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。在附图中：
[0020]图1示出了本申请实施例中的快速测量取向硅钢成品晶粒取向的方法的流程图；
[0021]图2示出了本申请实施例中的晶粒的{110}晶面与轧面的夹角与图像灰度值的关系图；
[0022]图3示出了本申请实施例中的灰度值与织构种类的对比图；
[0023]图4示出了本申请实施例中的晶粒磁畴观测结果图。
具体实施方式
[0024]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种快速测量取向硅钢成品晶粒取向的方法，其特征在于，所述方法包括：通过对取向硅钢成品表面进行处理，得到光亮且平整的金属基体，并通过扫描仪得到所述金属基体中晶粒的扫描照片；通过将所述扫描照片设置为灰度模式，确定所述晶粒的平均灰度值，并根据所述平均灰度值，确定所述晶粒的{110}晶面与轧面的夹角，以确定所述晶粒的晶面密勒指数；通过粉纹法对所述晶粒的磁畴进行观测，获得所述晶粒的磁畴壁与轧向的夹角；根据所述晶面密勒指数，以及所述磁畴壁与轧向的夹角，确定晶粒密勒指数，从而实现快速测量取向硅钢成品的晶粒取向。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过对取向硅钢成品表面进行处理，得到光亮且平整的金属基体，包括：将所述取向硅钢成品放入质量浓度为10％～40％的盐酸水溶液中浸泡，且浸泡时间大于3min，且所述盐酸水溶液温度为40℃～70℃；在对所述取向硅钢成品腐蚀完成后，依次使用质量浓度为10％～30％的碳酸钠水溶液，去离子水，以及无水乙醇清洗1～2遍，并冷风吹干，从而得到光亮且平整的金属基体。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过将所述扫描照片设置为灰度模式，确定所述晶粒的平均灰度值，包括：通过将所述扫描照片设置为灰度模式，得到所述晶粒对应的灰度值，从而确定所述晶粒的平均灰度值，其中，用于计算所述平均灰度值的晶粒面积大于等于晶粒总面积的三分之一。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述平均灰度值，确定所述晶粒的{110}晶面与轧面的夹角，以确定所述晶粒的晶面密勒指数，包括：根据所述平均灰度值，确定所述晶粒的{110}晶面与轧面的...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘兆月，马家骥，王明，王现辉，黎先浩，王旭，
申请(专利权)人：首钢智新迁安电磁材料有限公司，
类型：发明
国别省市：