泵盖组件及其PVD真空设备制造技术

本发明专利技术涉及PVD技术领域，提供一种泵盖组件及其PVD真空设备。该泵盖组件，包括：泵盖本体，泵盖本体包括：第一底板，第一底板适于与反应腔室密封配合；制冷装置，制冷装置固定在第一底板，用于对反应腔室内部进行冷却；加热装置，加热装置固定在第一底板，用于对处于反应腔室内部的工件进行加热。本发明专利技术通过将制冷装置和加热装置集成固定在泵盖本体的第一底板的下方，能够随泵盖本体一同取下，提高了设备集成度，占用空间小，提高了空间利用率，可为反应腔室安装其他结构预留大量空间；当需要对加热装置和/或制冷装置进行清洁或维护等时，可以直接将泵盖组件从反应腔室上取下，以便对加热装置和/或制冷装置进行清洁或维护。热装置和/或制冷装置进行清洁或维护。热装置和/或制冷装置进行清洁或维护。

【技术实现步骤摘要】
泵盖组件及其PVD真空设备


[0001]本专利技术涉及PVD
，尤其涉及一种泵盖组件及其PVD真空设备。

技术介绍

[0002]PVD(中文释义：物理气相沉积；英文全称：Physical Vapor Deposition；英文简称：PVD)技术指的是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。目前，PVD生产设备中，一般利用盖板对反应腔室进行密封，使得反应腔室内部处于真空环境，在盖板(简称泵盖)上安装分子泵来使反应腔室达到高真空。泵盖通常为一个可吊装的方形盖板结构，其中底板具有密封结构；泵盖既与反应腔室通过密封结构密封隔绝外部环境，形成密闭腔体；同时通过前级泵和分子泵的抽气使反应腔室内部达到所需真空度。
[0003]现有技术中的PVD设备中，通常需要加热器来提升反应腔室内的温度以去除内部多余的水气，其加热器多设置在反应腔室内部，这对于加热器的清洁和后期的维护带来极大的不便；而水冷设备多焊接在反应腔室内部或泵盖上，冷却效果差；且上述的PVD设备存在设备集成度低、占用空间大和空间利用率低的缺陷。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供一种泵盖组件及其PVD真空设备，用以解决现有技术中PVD设备存在的不便于清洁或维护以及设备集成度低和空间利用率低的缺陷。
[0005]本专利技术提供一种泵盖组件，包括：
[0006]泵盖本体，所述泵盖本体包括：第一底板，所述第一底板适于与反应腔室密封配合；
[0007]制冷装置，所述制冷装置固定在所述第一底板，用于对所述反应腔室内部进行冷却；
[0008]加热装置，所述加热装置固定在所述第一底板，用于对处于所述反应腔室内部的工件进行加热。
[0009]根据本专利技术提供的一种泵盖组件，所述加热装置包括：
[0010]第一加热单元，所述第一加热单元固定在所述第一底板的下方；
[0011]第二加热单元，所述第二加热单元固定在所述第一底板的下方，且与所述第一加热单元相对设置，所述第一加热单元和所述第二加热单元之间设有通道，以便工件穿过所述通道并通过所述第一加热单元和所述第二加热单元对工件的上表面和下表面进行加热。
[0012]根据本专利技术提供的一种泵盖组件，所述制冷装置包括：
[0013]第一制冷单元，所述第一制冷单元固定在所述第一加热单元的远离所述通道的一侧。
[0014]根据本专利技术提供的一种泵盖组件，所述制冷装置还包括：
[0015]第二制冷单元，所述第二制冷单元固定在所述第二加热单元的远离所述通道的一侧。
[0016]根据本专利技术提供的一种泵盖组件，还包括：
[0017]第一连接件，所述第一加热单元通过所述第一连接件与所述第一底板固定。
[0018]根据本专利技术提供的一种泵盖组件，还包括：
[0019]第二底板；
[0020]第二连接件，所述第二底板通过所述第二连接件与所述第一底板固定，所述第二加热单元固定在所述第二底板上。
[0021]根据本专利技术提供的一种泵盖组件，所述第一底板上设有第一接口、第二接口和第三接口；其中，
[0022]所述第一接口适于通过管路与所述制冷装置连接；
[0023]所述第二接口适于通过线路与所述加热装置连接；
[0024]所述第三接口适于安装抽真空装置。
[0025]根据本专利技术提供的一种泵盖组件，所述泵盖本体还包括：
[0026]泵盖箱体，所述泵盖箱体内部用于放置抽真空装置；
[0027]吊耳，所述吊耳设于所述泵盖箱体的顶部。
[0028]根据本专利技术提供的一种泵盖组件，所述制冷装置包括水冷板结构；
[0029]所述加热装置包括加热板结构。
[0030]本专利技术还提供一种PVD真空设备，包括：
[0031]反应腔室，所述反应腔室顶部开设有敞口；
[0032]本专利技术上述实施例中的泵盖组件，所述泵盖组件的所述第一底板能够与所述敞口密封配合。
[0033]本专利技术提供的一种泵盖组件，通过将制冷装置和加热装置固定在泵盖本体的第一底板的下方，能够随泵盖本体一同取下；当反应完成后，需要对加热装置和/或制冷装置进行清洁或维护等时，可以直接将泵盖组件从反应腔室上取下，以便对加热装置和/或制冷装置进行清洁或维护；另外，由于制冷装置和加热装置集成在泵盖本体上，提高了设备集成度，占用空间小，提高了空间利用率，可为反应腔室安装其他结构预留大量空间。
[0034]进一步地，本专利技术还提供一种PVD真空设备，由于包括了本专利技术上述实施例中的泵盖组件，因此具有如上同样的优势。
附图说明
[0035]为了更清楚地说明本专利技术或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0036]图1是本专利技术提供的泵盖组件的结构示意图；
[0037]图2是本专利技术提供的第一底板的结构示意图。
[0038]附图标记：
[0039]100：泵盖本体；101：第一底板；102：泵盖箱体；103：吊耳；104：第一接口；105：第二
接口；106：第三接口；200：制冷装置；201：第一制冷单元；202：第二制冷单元；300：加热装置；301：第一加热单元；302：第二加热单元；303：通道；401：第一连接件；402：第二底板；403：第二连接件。
具体实施方式
[0040]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术中的附图，对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0041]下面结合图1至图2描述本专利技术的一种泵盖组件。该泵盖组件包括：泵盖本体100、制冷装置200和加热装置300；其中，制冷装置200和加热装置300集成安装在泵盖本体100上，形成一体结构的泵盖组件。
[0042]具体来说，泵盖本体100包括：第一底板101，第一底板101适于与反应腔室密封配合；制冷装置200固定在第一底板101，用于对反应腔室内部进行冷却；加热装置300固定在第一底板101，用于对处于反应腔室内部的工件进行加热。
[0043]在本实施例中，通过将制冷装置200和加热装置300固定在泵盖本体100的第一底板101的下方，当第一底板101与反应腔室密封配合好之后，反应腔室形成密封腔体，以便为PVD真空设备提供反应所需的真空环境；加热装置300能够对工件表面进行加热，制冷装置200能够对反应腔室的内部环境进行降温，避免反应腔室过热。当反应完成后，需要对加热装置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种泵盖组件，其特征在于，包括：泵盖本体，所述泵盖本体包括：第一底板，所述第一底板适于与反应腔室密封配合；制冷装置，所述制冷装置固定在所述第一底板，用于对所述反应腔室内部进行冷却；加热装置，所述加热装置固定在所述第一底板，用于对处于所述反应腔室内部的工件进行加热。2.根据权利要求1所述的泵盖组件，其特征在于，所述加热装置包括：第一加热单元，所述第一加热单元固定在所述第一底板的下方；第二加热单元，所述第二加热单元固定在所述第一底板的下方，且与所述第一加热单元相对设置，所述第一加热单元和所述第二加热单元之间设有通道，以便工件穿过所述通道并通过所述第一加热单元和所述第二加热单元对工件的上表面和下表面进行加热。3.根据权利要求2所述的泵盖组件，其特征在于，所述制冷装置包括：第一制冷单元，所述第一制冷单元固定在所述第一加热单元的远离所述通道的一侧。4.根据权利要求2所述的泵盖组件，其特征在于，所述制冷装置还包括：第二制冷单元，所述第二制冷单元固定在所述第二加热单元的远离所述通道的一侧。5.根据权利要求2所述的泵盖组件，...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖长彬，请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：三一硅能株洲有限公司，
类型：发明
国别省市：