一种原子层沉积设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种原子层沉积设备，涉及原子层沉积技术领域，包括外壳体、内壳体、气源组件及加热组件；外壳体具有外腔；内壳体固定设置于外腔内，内壳体具有内腔，内腔内用于固定放置具有中空腔体的基底，且内腔具有内壁面能够包裹于基底外壁面的包裹段，内腔能够与中空腔体连通；气源组件与内壳体连接并与内腔连通，气源组件用于向内腔通入反应气，并能够使反应气通过中空腔体；加热组件固定设置于外腔内，加热组件用于对基底加热。本实用新型专利技术提供的原子层沉积设备，便于对中空的异形基底的内壁面进行原子层沉积，保障沉积效率和沉积质量。量。量。

【技术实现步骤摘要】
一种原子层沉积设备


[0001]本技术涉及原子层沉积
，尤其是涉及一种原子层沉积设备。

技术介绍

[0002]原子层沉积(ALD)是通过气相前驱体及反应物脉冲交替的通入反应腔并在基底上发生表面化学反应形成薄膜的一种方法，通过自限制性的前驱体交替饱和反应获得厚度、组分、形貌及结构在纳米尺度上高度可控的薄膜，采用ALD制备的薄膜具有高致密性(无针孔)、高保形性及大面积均匀性等优异性能，如专利CN114107947A提供的原子层沉积设备，将板状的待反应样品即基底放置在平整的样品盘上，然后利用样品盖封闭样品盘形成封闭空间，并通过气源装置向封闭空间内通入反应气，以在待反应样品的表面形成薄膜；对于中空的异形基底如管状基底，若想在管状基底的内壁面进行原子层沉积，单纯将管状基底放置于封闭空间内，反应气可能从管状基底外表面和形成封闭空间的腔体内壁面之间流过，影响管状基底的内壁面的沉积效率和沉积质量。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是提供一种原子层沉积设备，以解决上述现有技术存在的问题，便于对中空的异形基底的内壁面进行原子层沉积，保障沉积效率和沉积质量。
[0004]为实现上述目的，本技术提供了如下方案：
[0005]本技术提供一种原子层沉积设备，包括外壳体、内壳体、气源组件及加热组件；外壳体具有外腔；内壳体固定设置于所述外腔内，所述内壳体具有内腔，所述内腔内用于固定放置具有中空腔体的基底，且所述内腔具有内壁面能够包裹于所述基底外壁面的包裹段，所述内腔能够与所述中空腔体连通；所述气源组件与所述内壳体连接并与所述内腔连通，所述气源组件用于向所述内腔通入反应气，并能够使所述反应气通过所述中空腔体；加热组件固定设置于所述外腔内，所述加热组件用于对所述基底加热。
[0006]优选地，所述内腔与所述外腔隔绝。
[0007]优选地，还包括真空组件，所述真空组件与所述内腔连通，并用于对所述内腔抽真空。
[0008]优选地，所述真空组件包括真空泵和真空管道，所述真空管道一端与所述真空泵连接且连通，另一端伸入所述外腔内并与所述内腔连接且连通。
[0009]优选地，所述加热组件包括固定设置于所述外腔内的加热丝。
[0010]优选地，所述加热组件还包括温度监测部件和温度控制部件，所述温度监测部件设置于所述内壳体上，所述温度监测部件与所述温度控制部件通信连接，所述温度控制部件与所述加热丝电连接。
[0011]优选地，所述气源组件包括多个供气组件，各所述供气组件均与所述内腔连通并分别用于向所述内腔内通入不同的所述反应气。
[0012]优选地，各所述供气组件均包括储气部件、供气管道和设置于所述供气管道上的
第一电磁阀，各所述供气管道一端均能够与所述内腔连通，另一端分别与各所述储气部件连通，各所述第一电磁阀分别用于控制各所述供气管道的开度。
[0013]优选地，还包括吹扫组件，所述吹扫组件与所述内壳体连接并与所述内腔连通，所述吹扫组件用于向所述内腔通入吹扫气，并能够使所述吹扫气通过所述中空腔体。
[0014]优选地，所述吹扫组件包括氮气储罐、吹扫管道和设置于所述吹扫管道上的第二电磁阀和流量计，所述吹扫管道一端均能够与所述内腔连通，另一端与所述氮气储罐连通，所述第二电磁阀用于控制所述吹扫管道的开度，所述流量计用于监测通入所述内腔的氮气的流量。
[0015]本技术相对于现有技术取得了以下技术效果：
[0016]本技术提供的原子层沉积设备，将具有中空腔体的基底固定放置于内壳体的内腔内，然后内壳体放置于外壳体内，外壳体起到保护的作用，由于内壳体的包裹段的内壁面包裹于基底的外壁面，基底的中空腔体与内壳体的内腔连通，如此气源组件向内腔内通入反应气，反应气不会经过基底的外壁面，全部从基底的中空腔体经过，配合加热组件对基底进行加热，保障沉积效率和沉积质量。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0018]图1为实施例一提供的原子层沉积设备的结构示意图。
[0019]图标：100
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原子层沉积设备；110
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外壳体；111
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外腔；120
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内壳体；121
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内腔；130
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气源组件；131
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供气组件；1311
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储气部件；1312
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供气管道；1313
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第一电磁阀；140
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加热组件；141
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加热丝；142
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温度监测部件；143
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温度控制部件；150
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真空组件；151
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真空泵；152
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真空管道；160
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吹扫组件；161
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氮气储罐；162
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吹扫管道；163
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第二电磁阀；164
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流量计；200
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基底；210
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中空腔体。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]本本技术的目的是提供一种原子层沉积设备，以解决上述现有技术存在的问题，便于对中空的异形基底的内壁面进行原子层沉积，保障沉积效率和沉积质量。
[0022]为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明。
[0023]实施例一
[0024]本实施例提供一种原子层沉积设备100，请参见图1，包括：外壳体110、内壳体120、气源组件130及加热组件140；外壳体110具有外腔111；内壳体120固定设置于外腔111内，内
壳体120具有内腔121，内腔121内用于固定放置具有中空腔体210的基底200，且内腔121具有内壁面能够包裹于基底200外壁面的包裹段，内腔121能够与中空腔体210连通；气源组件130与内壳体120连接并与内腔121连通，气源组件130用于向内腔121通入反应气，并能够使反应气通过中空腔体210；加热组件140固定设置于外腔111内，加热组件140用于对基底200加热。
[0025]将具有中空腔体210的基底200固定放置于内壳体120的内腔121内，然后本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种原子层沉积设备，其特征在于：包括：外壳体(110)，具有外腔(111)；内壳体(120)，固定设置于所述外腔(111)内，所述内壳体(120)具有内腔(121)，所述内腔(121)内用于固定放置具有中空腔体(210)的基底(200)，且所述内腔(121)具有内壁面能够包裹于所述基底(200)外壁面的包裹段，所述内腔(121)能够与所述中空腔体(210)连通；气源组件(130)，所述气源组件(130)与所述内壳体(120)连接并与所述内腔(121)连通，所述气源组件(130)用于向所述内腔(121)通入反应气，并能够使所述反应气通过所述中空腔体(210)；及加热组件(140)，固定设置于所述外腔(111)内，所述加热组件(140)用于对所述基底(200)加热。2.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于：所述内腔(121)与所述外腔(111)隔绝。3.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于：还包括真空组件(150)，所述真空组件(150)与所述内腔(121)连通，并用于对所述内腔(121)抽真空。4.根据权利要求3所述的原子层沉积设备，其特征在于：所述真空组件(150)包括真空泵(151)和真空管道(152)，所述真空管道(152)一端与所述真空泵(151)连接且连通，另一端伸入所述外腔(111)内并与所述内腔(121)连接且连通。5.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于：所述加热组件(140)包括固定设置于所述外腔(111)内的加热丝(141)。6.根据权利要求5所述的原子层沉积设备，其特征在于：所述加热组件(140)还包括温度监测部件(142)和温度控制部件(143)，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张建华，丁星伟，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：新型
国别省市：