本实用新型专利技术属于抛光设备技术领域，公开了一种清洗装置，其包括壳体、输送组件、喷淋机构以及排水组件，壳体包括罩体和清洗槽，罩体设置于清洗槽的上方，罩体和清洗槽之间设有进口和出口，进口和出口沿第一方向分别开设于壳体的两侧，待洗件能自进口进入壳体，再从出口出去，输送组件设置于清洗槽内且用于运送待洗件，喷淋机构设置于罩体内且用于对待洗件喷射清洗液体；排水组件沿第二方向可伸缩地设置于清洗槽的槽底且能排出清洗槽内的清洗液体，排水组件能够调节清洗槽内的水位的高度。上述结构能够提高清洗装置的清洗能力，使得玻璃基板的洁净度更好，且能够在现有清洗装置中进行调整，无需增加其他结构，成本低。成本低。成本低。
【技术实现步骤摘要】
清洗装置
[0001]本技术涉及抛光设备
，尤其涉及一种清洗装置。
技术介绍
[0002]对于玻璃基板在进行加工过程中，由于玻璃基板常用于精密加工领域，因此，需要对玻璃基板进行抛光研磨，使得玻璃基板的表面更加光滑、平整。在对玻璃基板进行抛光研磨过程中，通常会用到抛光粉或研磨粉，粉状物质会附着于玻璃基板的表面，因此，在抛光研磨后会对玻璃基板进行清洗，使玻璃基板上的粉状物质清洗掉。
[0003]而在玻璃基板清洗过程中，其用于输送玻璃基板的传送辊上会在传送过程中粘上部分粉状物质，进而会在传输过程中附着在玻璃基板的背面，造成玻璃基板未清洗干净。现有技术中，通过增加在清洗装置中增加浸润槽，以在不断的进水和排水过程中，实现对传送辊的清洁，进而提高玻璃基板清洗后的洁净度。但是，增加了浸润槽和相对设置的进水口和排水孔，使得整个清洁装置的成本增加，且对清洁水的需求也在增加，造成使用成本较高。
[0004]因此，亟需设计一种清洗装置，以解决上述技术问题。
技术实现思路
[0005]本技术的目的在于提供一种清洗装置，能够提高清洗装置的清洗能力，使得玻璃基板的洁净度更好，且能够在现有清洗装置中进行调整，无需增加其他结构，成本低。
[0006]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0007]清洗装置，包括：
[0008]壳体，包括罩体和清洗槽，上述罩体设置于上述清洗槽的上方，上述罩体和上述清洗槽之间设有进口和出口，上述进口和上述出口沿第一方向分别设置于上述壳体的两侧，待洗件能自上述进口进入上述壳体，再从上述出口出去；
[0009]输送组件，设置于上述清洗槽内，上述输送组件用于运送上述待洗件；
[0010]喷淋机构，设置于上述罩体内，上述喷淋机构用于对上述待洗件喷射清洗液体；以及
[0011]排水组件，沿第二方向可伸缩地穿设于上述清洗槽的槽底，上述第二方向垂直于上述第一方向；上述清洗槽内的上述清洗液体能从上述排水组件排出，上述排水组件被配置为能够调节上述清洗槽内的水位的高度，以调节上述输送组件浸润于上述清洗液体中的高度。
[0012]可选地，上述排水组件包括：
[0013]连接管，穿设于上述清洗槽的槽底，且上述连接管与上述清洗槽的槽底之间密封设置；以及
[0014]伸缩管，上述伸缩管可移动穿设于上述连接管内，且上述伸缩管和上述连接管之间密封设置。
[0015]可选地，上述伸缩管的底部设有卡接部，上述连接管的内壁设有限位部，上述卡接
部能与上述限位部抵接，以限制上述伸缩管伸出上述连接管。
[0016]可选地，上述连接管的内壁设有凹槽，上述排水组件还包括第一密封件，上述第一密封件设置于上述凹槽内，上述第一密封件的一端抵接于上述凹槽的槽底，另一端抵接于上述伸缩管。
[0017]可选地，上述排水组件还包括第二密封件，上述清洗槽的槽底开设有通孔，上述第二密封件套设于上述连接管上，且上述第二密封件的一端抵接于上述通孔的孔壁，另一端抵接于上述连接管的外周。
[0018]可选地，上述喷淋机构包括：
[0019]水箱，上述清洗液体设置于上述水箱内；以及
[0020]若干个喷嘴，若干个上述喷嘴通过连接管路连通于上述水箱，上述喷嘴用于喷射上述清洗液体。
[0021]可选地，上述连接管路包括：
[0022]进水管，一端连通于上述水箱，另一端穿设于上述罩体，且与上述罩体密封设置；
[0023]若干个出水管，若干个上述出水管沿上述第一方向间隔设置，上述出水管的一端连通于上述进水管的另一端，另一端设有上述喷嘴。
[0024]可选地，上述喷淋机构还包括水泵，上述水泵设置于上述水箱和上述进水管之间，上述水泵用于将上述水箱中的上述清洗液体抽往上述进水管。
[0025]可选地，上述输送组件包括：
[0026]驱动件，设置于上述壳体外；
[0027]输送部，转动连接于上述清洗槽的槽壁，上述输送部传动连接于上述驱动件的输出端，上述驱动件能够驱动上述输送部沿上述第一方向传输运动，以使上述待洗件沿上述第一方向运动。
[0028]可选地，上述输送部包括若干个输送辊，若干个上述输送辊传动连接于上述驱动件的输出端，若干个上述输送辊沿上述第一方向间隔设置，上述输送辊转动连接于上述清洗槽的槽壁。
[0029]本技术的有益效果：
[0030]本技术提供了一种清洗装置，通过在清洗槽的槽底设有可伸缩的排水组件，使得清洗槽内水的水位高度可调，进而可以使得输送组件浸润于清洗液体中，可以实现在待洗件清洗过程中不会被带入输送组件上的粉状物质再次污染，使得待洗件的洁净度更高。并且，该装置仅需要在现有设备的基础上对排水管处进行更改，无需增加其他结构，制造成本低。
附图说明
[0031]图1是本技术具体实施方式提供的清洗装置的结构示意图；
[0032]图2是图1中A处的放大图。
[0033]图中：
[0034]10、壳体；11、罩体；12、清洗槽；13、进口；14、出口；
[0035]21、输送部；211、输送辊；
[0036]30、喷淋机构；31、喷嘴；32、连接管路；321、进水管；322、出水管；
[0037]40、排水组件；41、连接管；411、限位部；42、伸缩管；421、卡接部；43、第一密封件；44、第二密封件；
[0038]50、清洗液体。
具体实施方式
[0039]下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。
[0040]在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0041]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0042]在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.清洗装置，其特征在于，包括：壳体(10)，包括罩体(11)和清洗槽(12)，所述罩体(11)设置于所述清洗槽(12)的上方，所述罩体(11)和所述清洗槽(12)之间设有进口(13)和出口(14)，所述进口(13)和所述出口(14)沿第一方向分别设置于所述壳体(10)的两侧，待洗件能自所述进口(13)进入所述壳体(10)，再从所述出口(14)出去；输送组件，设置于所述清洗槽(12)内，所述输送组件用于运送所述待洗件；喷淋机构(30)，设置于所述罩体(11)内，所述喷淋机构(30)用于对所述待洗件喷射清洗液体(50)；以及排水组件(40)，沿第二方向可伸缩地穿设于所述清洗槽(12)的槽底，所述第二方向垂直于所述第一方向；所述清洗槽(12)内的所述清洗液体(50)能从所述排水组件(40)排出，所述排水组件(40)被配置为能够调节所述清洗槽(12)内的水位的高度，以调节所述输送组件浸润于所述清洗液体(50)中的高度。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述排水组件(40)包括：连接管(41)，穿设于所述清洗槽(12)的槽底，且所述连接管(41)与所述清洗槽(12)的槽底之间密封设置；以及伸缩管(42)，所述伸缩管(42)可移动穿设于所述连接管(41)内，且所述伸缩管(42)和所述连接管(41)之间密封设置。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述伸缩管(42)的底部设有卡接部(421)，所述连接管(41)的内壁设有限位部(411)，所述卡接部(421)能与所述限位部(411)抵接，以限制所述伸缩管(42)伸出所述连接管(41)。4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述连接管(41)的内壁设有凹槽，所述排水组件(40)还包括第一密封件(43)，所述第一密封件(43)设置于所述凹槽内，所述第一密封件(43)的一端抵接于所述凹槽的槽底，另一端抵接于所述伸缩管(42)。5.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：窦鹏鑫，施利君，宋金林，
申请(专利权)人：苏州晶洲装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。