本实用新型专利技术属于甲酸预处理技术领域,公开了甲酸还原气体的气路装置。甲酸还原气体的气路装置包括供气气路,供气气路用于向预处理池内供气。供气气路包括储气罐、第一主管、第一支管、第二支管和第二主管,第一主管的进气端与储气罐的出气口相连通。第一支管和第二支管均与第一主管的出气端相连通,第二支管上设置有洗气瓶。第一支管上设置有第一流量调节组件,用于调节第一支管的气体流量;第二支管上设置有第二流量调节组件,用于调节第二支管的气体流量。第一支管和第二支管均与第二主管的进气端相连通,第二主管的出气端与预处理池的进气端相连通,第二主管上设置有催化机构。该装置能够调节甲酸还原气体浓度,并提高甲酸还原气体活性。体活性。体活性。
【技术实现步骤摘要】
甲酸还原气体的气路装置
[0001]本技术涉及甲酸预处理
,尤其涉及甲酸还原气体的气路装置。
技术介绍
[0002]目前,基于甲酸预处理的铜
‑
铜低温键合的研究没有可靠稳定的甲酸导入气路,而甲酸导入气路装置又是甲酸预处理铜
‑
铜低温键合的重要装置,是保证在低温下实现铜
‑
铜低温键合的核心部件。
[0003]现有的甲酸导入气路无法调整控制甲酸的浓度,这对分析、研究甲酸浓度对铜表面处理效果的影响增加了困难;另外,现有的甲酸导入气路无法提高甲酸还原气体的活性,这使得预处理工艺需要在较高的温度下进行,而较高的温度会对键合精度以及键合后的性能产生不良影响。
[0004]因此,亟需对甲酸还原气体的气路装置进行改进,以解决以上问题。
技术实现思路
[0005]本技术的目的在于提供甲酸还原气体的气路装置,能够调节甲酸还原气体浓度,并提高甲酸还原气体活性。
[0006]为达此目的,本技术采用以下技术方案:
[0007]甲酸还原气体的气路装置,包括供气气路,所述供气气路用于向预处理池内供气,所述供气气路包括:
[0008]储气罐,其内装有惰性气体;
[0009]第一主管,所述第一主管的进气端与所述储气罐的出气口相连通;
[0010]第一支管和第二支管,均与所述第一主管的出气端相连通,所述第二支管上设置有洗气瓶,进入所述第二支管的所述惰性气体经所述洗气瓶后排出,所述第一支管上设置有第一流量调节组件,所述第一流量调节组件被配置为调节所述第一支管的气体流量,所述第二支管上设置有第二流量调节组件,所述第二流量调节组件被配置为调节所述第二支管的气体流量;
[0011]第二主管,所述第一支管的出气端和所述第二支管的出气端均与所述第二主管的进气端相连通,所述第二主管的出气端与所述预处理池的进气端相连通,所述第二主管上设置有催化机构,进入所述第二主管的气体经所述催化机构催化后进入所述预处理池。
[0012]作为可选方案,所述第一主管上设置有减压阀。
[0013]作为可选方案,所述第一流量调节组件包括第一流量计和第一球阀,所述第一流量计用于检测所述第一支管内的气体流量,所述第一球阀能够对所述第一支管内的气体流量进行调节;
[0014]所述第二流量调节组件包括第二流量计、第二球阀,所述第二流量计和所述第二球阀设置于所述洗气瓶的进气端一侧,所述第二流量计用于检测所述第二支管内的气体流量,所述第二球阀能够对进入所述洗气瓶的气体流量进行调节。
[0015]作为可选方案,所述第二流量调节组件还包括第三球阀,所述第三球阀设置于所述洗气瓶的出气端一侧,所述第三球阀能够对所述第二支管内从所述洗气瓶排出的气体的流量进行调节。
[0016]作为可选方案,所述甲酸还原气体的气路装置还包括:
[0017]第一单向阀,设置于所述第一支管上,所述第一单向阀位于所述第一球阀的下游,
[0018]第二单向阀,设置于所述第二支管上,所述第二单向阀位于所述第三球阀的下游。
[0019]作为可选方案,所述甲酸还原气体的气路装置还包括:
[0020]第四球阀,设置于所述第二主管上,所述第四球阀位于所述催化机构的进气端一侧,所述第四球阀能够对所述第二主管的气体流量进行调节。
[0021]作为可选方案,所述催化机构包括催化盒,所述催化盒的两端分别设置有与所述催化盒内部相通的进气接头以及排气接头,所述催化盒的内部设有若干块交替布置的第一层板和第二层板,所述第一层板和所述第二层板上均设置有通孔,所述第一层板上的所述通孔与所述第二层板上的所述通孔相错开设置,且所述第一层板和所述第二层板之间填充有催化剂。
[0022]作为可选方案,所述催化盒的侧壁内设置有电加热棒,所述电加热棒用于对所述催化盒进行加热。
[0023]作为可选方案,所述甲酸还原气体的气路装置还包括:
[0024]废气处理气路,用于排出所述预处理池内气体,所述废气处理气路包括废气管和喷淋塔,所述废气管连通所述预处理池的出气端和所述喷淋塔。
[0025]作为可选方案,所述废气管上设置有第五球阀和第三单向阀,所述第五球阀能够调节所述废气管的气体流量,所述第三单向阀设置于所述第五球阀的下游。
[0026]有益效果:
[0027]本技术提出的甲酸还原气体的气路装置,通过设置第一支管和第二支管,将储气罐中输出的惰性气体分为两路,第一支管中为纯净的惰性气体,第二支管中的惰性气体流经洗气瓶后成为具有一定浓度的甲酸气体,第一支管和第二支管中的气体经第二主管混合后进入预处理池。通过第一流量调节组件和第二流量调节组件分别控制第一支管和第二支管中的气体流量,从而实现对进入预处理池中的甲酸气体浓度的调节,方便了操作人员研究甲酸气体浓度对铜表面处理效果的影响。另外,通过在第二主管上设置催化机构能够提高甲酸气体的活性,从而大幅度降低预处理工艺的温度,减少了因热胀冷缩引起的对位误差以及对键合性能的不良影响。
附图说明
[0028]图1是本技术实施例提供的甲酸还原气体的气路装置的结构示意图;
[0029]图2是本技术实施例提供的催化机构的结构示意图;
[0030]图3是本技术实施例提供的催化机构的内部结构示意图;
[0031]图4是本技术实施例提供的催化盒的内部结构示意图。
[0032]图中:
[0033]100、第一主管;200、第一支管;300、第二支管;400、第二主管;500、废气管;
[0034]1、储气罐;2、第一三通管;3、洗气瓶;4、第二三通管;5、催化机构;501、催化盒;
502、进气接头;503、排气接头;504、第一层板;505、第二层板;506、通孔;507、电加热棒;6、减压阀;7、第二流量计;8、第二球阀;9、第一流量计;10、第一球阀;11、第一单向阀;12、第三球阀;13、第二单向阀;14、第四球阀;15、喷淋塔;16、第五球阀;17、第三单向阀;18、预处理池。
具体实施方式
[0035]下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术,而非对本技术的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。
[0036]在本技术的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0037]在本技术中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.甲酸还原气体的气路装置,包括供气气路,所述供气气路用于向预处理池(18)内供气,其特征在于,所述供气气路包括:储气罐(1),其内装有惰性气体;第一主管(100),所述第一主管(100)的进气端与所述储气罐(1)的出气口相连通;第一支管(200)和第二支管(300),均与所述第一主管(100)的出气端相连通,所述第二支管(300)上设置有洗气瓶(3),进入所述第二支管(300)的所述惰性气体经所述洗气瓶(3)后排出,所述第一支管(200)上设置有第一流量调节组件,所述第一流量调节组件被配置为调节所述第一支管(200)的气体流量,所述第二支管(300)上设置有第二流量调节组件,所述第二流量调节组件被配置为调节所述第二支管(300)的气体流量;第二主管(400),所述第一支管(200)的出气端和所述第二支管(300)的出气端均与所述第二主管(400)的进气端相连通,所述第二主管(400)的出气端与所述预处理池(18)的进气端相连通,所述第二主管(400)上设置有催化机构(5),进入所述第二主管(400)的气体经所述催化机构(5)催化后进入所述预处理池(18)。2.根据权利要求1所述的甲酸还原气体的气路装置,其特征在于,所述第一主管(100)上设置有减压阀(6)。3.根据权利要求1所述的甲酸还原气体的气路装置,其特征在于,所述第一流量调节组件包括第一流量计(9)和第一球阀(10),所述第一流量计(9)用于检测所述第一支管(200)内的气体流量,所述第一球阀(10)能够对所述第一支管(200)内的气体流量进行调节;所述第二流量调节组件包括第二流量计(7)、第二球阀(8),所述第二流量计(7)和所述第二球阀(8)设置于所述洗气瓶(3)的进气端一侧,所述第二流量计(7)用于检测所述第二支管(300)内的气体流量,所述第二球阀(8)能够对进入所述洗气瓶(3)的气体流量进行调节。4.根据权利要求3所述的甲酸还原气体的气路装置,其特征在于,所述第二流量调节组件还包括第三球阀(12),所述第三球阀(12)设置于所述洗气瓶(3)的出气端一侧,所述第三球阀(12)能够对所述第二支管(300)内从所述洗气瓶(3)排出的气体的流量进行调节。5.根据权利要求4所述的甲酸...
【专利技术属性】
技术研发人员:母凤文,曹宁飞,高智伟,
申请(专利权)人:天津中科晶禾电子科技有限责任公司,
类型:新型
国别省市:
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