壳体加工方法、壳体、摄像头装饰件及电子设备技术

本公开是关于一种壳体加工方法、壳体、摄像装饰件及电子设备，壳体加工方法包括提供初始壳体，对初始壳体进行阳极氧化处理，使初始壳体的表面形成多个凹孔，制备转印膜层，转印膜层包括预设图案，预设图案由纳米级颜料制成，采用热升华工艺处理的方式，利用所述预设图案中的纳米级颜料对多个凹孔进行染色，以形成具有预设图案的壳体。本公开中的预设图案设置于转印膜层上，提升图案的稳定性，当采用热升华工艺处理时，由纳米级颜料制成的预设图案由固态直接汽化后，进入至凹孔内，以便于进行染色，最终形成具有预设图案的壳体。纳米级颜料进入至凹孔内，外界的波动不会的染色构成影响，保证纳米级颜料不会脱落，实现了耐磨持久的设计效果。的设计效果。的设计效果。

【技术实现步骤摘要】
壳体加工方法、壳体、摄像头装饰件及电子设备


[0001]本公开涉及电子设备
，尤其涉及一种壳体加工方法、壳体、摄像头装饰件及电子设备。

技术介绍

[0002]随着科技的发展，手机等电子设备的功能越来越丰富，成为人们的日常生活中必备的电子产品之一。为了适应市场的需求以及迎合个性化的趋势，电子产品的生产厂商不断优化电子设备的美观度，以提升电子设备的视觉效果。但是，面对越发激烈的市场竞争，电子设备所呈现的视觉效果依然无法满足用户不断进化的需求，电子设备的发展依然面临严峻的考验。

技术实现思路

[0003]为克服相关技术中存在的问题，本公开提供了一种壳体加工方法、壳体、摄像头装饰件及电子设备。
[0004]根据本公开实施例的第一方面，提供了一种壳体加工方法，所述加工方法包括：
[0005]提供初始壳体；
[0006]对所述初始壳体进行阳极氧化处理，使所述初始壳体的表面形成多个凹孔；
[0007]制备转印膜层；所述转印膜层包括预设图案，所述预设图案由纳米级颜料制成；
[0008]将所述转印膜层覆盖于所述初始壳体，所述预设图案与多个所述凹孔对应设置；
[0009]采用热升华工艺处理的方式，利用所述预设图案中的所述纳米级颜料对多个所述凹孔进行染色，以形成具有预设图案的壳体。
[0010]可选地，所述对所述初始壳体进行阳极氧化处理之前，还包括：
[0011]对所述初始壳体进行除油处理。
[0012]可选地，所述制备转印膜层包括：
[0013]提供转印膜片；
[0014]采用打印的方式，在所述转印膜片上形成所述预设图案，形成所述转印膜层。
[0015]可选地，所述将所述转印膜层设置于所述初始壳体的表面之前，还包括：
[0016]对阳极氧化处理过的初始壳体，进行表面活性处理。
[0017]可选地，所述对阳极氧化处理过的初始壳体，进行表面活性处理，包括：
[0018]将表面活性剂覆盖于经过所述阳极氧化处理过的初始壳体的表面，进行超音波振动并持续第一预设时长，以对表面进行活性处理。
[0019]可选地，所述将所述转印膜层覆盖于所述初始壳体，包括：
[0020]对所述转印膜层进行抽真空操作，在负压作用下，所述转印膜层吸附于所述初始壳体的表面。
[0021]可选地，所述采用热升华工艺处理的方式，利用所述预设图案中的所述纳米级颜料对多个所述凹孔进行染色，以形成具有预设图案的壳体，包括：
[0022]通过热升华设备对所述转印膜层进行加热，真空压膜作用下，将所述预设图案由固态直接汽化，所述纳米级颜料进入至多个所述凹孔内，以填充多个所述凹孔，完成染色转印，形成具有预设图案的壳体。
[0023]可选地，所述对所述转印膜层进行加热的温度为135℃
‑
140℃。
[0024]可选地，所述形成具有预设图案的壳体，还包括：
[0025]去除所述转印膜层；
[0026]对多个所述凹孔进行封孔工艺处理；
[0027]将所述初始壳体烘干，以形成具有预设图案的壳体。
[0028]可选地，所述预设图案包括渐变色图案、定制图案、纹理图案中的任一种或者任几种。
[0029]可选地，所述提供初始壳体包括：
[0030]提供板材；
[0031]对所述板材进行裁切，以形成初始结构；
[0032]对所述初始结构进行物理处理，以形成初始壳体；其中，所述物理处理包括抛光处理或者喷砂处理。
[0033]可选地，当所述初始结构进行喷砂处理时，以形成初始壳体，包括：
[0034]对所述初始结构进行喷砂处理；
[0035]对喷砂处理过的初始结构进行腐蚀，使所述初始结构的表面具有抛光层，进而形成初始壳体。
[0036]根据本公开实施例的第二方面，提供了一种壳体，所述壳体由所述的壳体加工方法进行加工得到，所述壳体由铝合金材料制成，所述壳体包括预设图案和多个凹孔，多个所述凹孔设置于所述壳体的表面；
[0037]所述预设图案由纳米级颜料制成，所述纳米级颜料分别设置于多个所述凹孔内，使所述预设图案形成于所述壳体的表面。
[0038]可选地，所述壳体还包括本体和阳极氧化膜层，沿所述壳体的厚度方向，所述阳极氧化膜层与所述本体层叠设置。
[0039]可选地，所述阳极氧化膜层包括阻挡层和氧化层，所述阻挡层和所述氧化层层叠设置，所述阻挡层形成于所述本体之上；
[0040]沿所述壳体的厚度方向，多个所述凹孔形成于所述氧化层的上表面。
[0041]可选地，所述凹孔的孔径为15nm
‑
20nm。
[0042]可选地，所述氧化层的厚度大于所述阻挡层的厚度。
[0043]可选地，所述阳极氧化膜层由三氧化二铝材料制成。
[0044]可选地，所述预设图案包括渐变色图案、定制图案、纹理图案中的任一种或者任几种。
[0045]可选地，所述渐变色图案沿所述壳体的厚度方向进行渐变，和/或，所述渐变色图案沿所述壳体的第一方向进行渐变；
[0046]其中，所述第一方向和所述厚度方向垂直。
[0047]根据本公开实施例的第三方面，提供了一种摄像装饰件，所述摄像头装饰件包括如上所述的壳体。
[0048]根据本公开实施例的第四方面，提供了一种电子设备，所述电子设备包括如上所述的摄像头装饰件和/或如上所述的壳体。
[0049]本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：本公开中的预设图案设置于转印膜层上，提升图案的稳定性，当采用热升华工艺处理时，其由纳米级颜料制成的预设图案由固态直接汽化后，进入至凹孔内，以便于进行染色，最终形成具有预设图案的壳体。其中，纳米级颜料进入至凹孔内，外界的波动不会的染色构成影响，保证纳米级颜料不会脱落，实现了耐磨持久的设计效果。
[0050]应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。
附图说明
[0051]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本专利技术的实施例，并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。
[0052]图1是根据一示例性实施例示出的壳体加工方法的流程图。
[0053]图2是根据一示例性实施例示出的壳体加工方法的流程图。
[0054]图3是根据一示例性实施例示出的壳体加工方法的流程图。
[0055]图4是根据一示例性实施例示出的壳体加工方法的流程图。
[0056]图5是根据一示例性实施例示出的壳体加工方法的流程图。
[0057]图6是根据一示例性实施例示出的壳体加工方法的流程图。
[0058]图7是根据一示例性实施例示出的壳体加工的示意图。
[0059]图8是根据一示例性实施例示出的壳体的截面示意图。
具体实施方式
[0060]这里将详细地对示例性实施例进行说明本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种壳体加工方法，其特征在于，所述加工方法包括：提供初始壳体；对所述初始壳体进行阳极氧化处理，使所述初始壳体的表面形成多个凹孔；制备转印膜层；所述转印膜层包括预设图案，所述预设图案由纳米级颜料制成；将所述转印膜层覆盖于所述初始壳体，所述预设图案与多个所述凹孔对应设置；采用热升华工艺处理的方式，利用所述预设图案中的所述纳米级颜料对多个所述凹孔进行染色，以形成具有预设图案的壳体。2.根据权利要求1所述的壳体加工方法，其特征在于，所述对所述初始壳体进行阳极氧化处理之前，还包括：对所述初始壳体进行除油处理。3.根据权利要求1所述的壳体加工方法，其特征在于，所述制备转印膜层包括：提供转印膜片；采用打印的方式，在所述转印膜片上形成所述预设图案，形成所述转印膜层。4.根据权利要求1所述的壳体加工方法，其特征在于，所述将所述转印膜层设置于所述初始壳体的表面之前，还包括：对阳极氧化处理过的初始壳体，进行表面活性处理。5.根据权利要求4所述的壳体加工方法，其特征在于，所述对阳极氧化处理过的初始壳体，进行表面活性处理，包括：将表面活性剂覆盖于经过所述阳极氧化处理过的初始壳体的表面，进行超音波振动并持续第一预设时长，以对表面进行活性处理。6.根据权利要求1所述的壳体加工方法，其特征在于，所述将所述转印膜层覆盖于所述初始壳体，包括：对所述转印膜层进行抽真空操作，在负压作用下，所述转印膜层吸附于所述初始壳体的表面。7.根据权利要求1所述的壳体加工方法，其特征在于，所述采用热升华工艺处理的方式，利用所述预设图案中的所述纳米级颜料对多个所述凹孔进行染色，以形成具有预设图案的壳体，包括：通过热升华设备对所述转印膜层进行加热，真空压膜作用下，将所述预设图案由固态直接汽化，所述纳米级颜料进入至多个所述凹孔内，以填充多个所述凹孔，完成染色转印，形成具有预设图案的壳体。8.根据权利要求7所述的壳体加工方法，其特征在于，所述对所述转印膜层进行加热的温度为135℃
‑
140℃。9.根据权利要求8所述的壳体加工方法，其特征在于，所述形成具有预设图案的壳体，还包括：去除所述转印膜层；对多个所述凹孔进行封孔工艺处理；将所述初始壳体烘干，以形成具有预设图案的壳体。10.根据权利要求1
‑
9任一项所述的壳体加工方法，其特征在于，所述预设图案包括渐变色图案、定制...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨峥，
申请(专利权)人：北京小米移动软件有限公司，
类型：发明
国别省市：