RIP1K抑制剂制造技术

技术编号:37773313 阅读:21 留言:0更新日期:2023-06-06 13:39
本文中公开了激酶抑制性化合物,诸如受体相互作用蛋白

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】RIP1K抑制剂
[0001]本公开内容涉及化合物以及制备和使用所述化合物的方法,诸如用于抑制受体相互作用蛋白

1激酶(“RIP1”)以及用于治疗与RIP1相关的疾病和/或病症。
[0002]受体相互作用蛋白

1激酶(在本文中被称作“RIP1”)属于酪氨酸激酶样家族并且是参与先天性免疫信号传递的丝氨酸/苏氨酸蛋白激酶。RIP1在调节细胞信号传递方面起到核心作用并且其在程序性细胞死亡中的作用已经与多种炎性疾病相关联,诸如炎性肠病、银屑病以及与炎症和/或坏死性细胞死亡相关的其它疾病和/或病症。
[0003]本文中公开了根据下式的化合物
[0004][0005]其中
[0006]X选自CH2、O、S、S(O)、S(O)2和NR
a

[0007]R
a
在每次出现时选自氢、C1‑6烷基和C1‑6酰基;
[0008]Y1、Y2和Y3独立地选自N、N(R
a
)、O、C(R
b
)1‑2和C=O;
[0009]R
b
选自氢、C1‑6烷基和卤素;
[0010]Z是C(R
c
)或NR
c

[0011]R
c
是任选地被一个或多个R1基团取代的C1‑4不饱和碳链,其任选地插入1或2个选自O、N和S的杂原子;
[0012]R
z
是N、CH或C(R1)并且与ZR
c
以及它们所结合的碳一起形成任选地被m个R1基团取代的5或6元杂芳基或6元芳基环;
[0013]R1是卤素、连接基

R6基团,其中所述连接基是键,任选地被一个或多个R
b
取代的(C1‑
C4)烷基、(C1‑
C4)烯基或(C1‑
C4)炔基,且R6是R
e


C(R
f
)3或

C(R
f
)=C(R
f
)2;
[0014]R2是R
a

[0015]环B是5

10元杂芳基;
[0016]R3在每次出现时独立地选自R
b
和OR
a

[0017]L是O、NR
a
或亚烷基;
[0018]W是任选地被p个R4取代的5

10元芳基或杂芳基;
[0019]R4在每次出现时选自R
b
和OR
a

[0020]R
d
在每次出现时独立地选自氢、C1‑6烷基、芳烷基、C5‑
10
芳基或杂芳基,或两个R
d
与它们二者所连接的氮一起形成任选地被一个或多个R
e
取代的C3‑
10
杂环基;
[0021]R
e
在每次出现时独立地是卤素、

OR
d


SR
d


S(O)2R
d


NR
d
R
d


Si(R
a
)3、

C(O)OH、

C(O)OR
a


C(O)NR
d
R
d

[0022]R
f
在每次出现时独立地是R
a
、R
b
或R
e
,或两个R
f
基团与它们所结合的碳原子一起形成C3‑6环烷基或C3‑
10
杂环基,各自任选地被一个或多个R
e
取代;
[0023]m是1、2、3或4;
[0024]n是0、1或2;且
[0025]p是0、1、2、3、4或5。
[0026]另外,公开了用于制备化合物的方法和中间体以及药物制剂和使用所述化合物和制剂的方法。本专利技术的前述和其它目的、特征和优点将从以下详细描述变得更显而易见。
[0027]I.术语概述
[0028]提供术语和方法的以下解释以更好地描述本公开内容并指导本领域普通技术人员实践本公开内容。单数形式“一种”、“一个”和“所述”是指一个/种或超过一个/种,除非上下文另外清楚地指明。术语“或”是指所述备选要素中的单个要素,或两个或更多个要素的组合,除非上下文另外清楚地指出。本文中使用的“包含”是指“包括”。因此,“包含A或B”是指“包括A、B、或A和B”,且不排除另外的要素。所有参考文献(包括本文引用的专利和专利申请)通过引用并入。
[0029]除非另有说明,否则如在本说明书或权利要求中使用的表示组分量、分子量、百分比、温度、时间等的所有数字应理解为被术语“约”修饰。因此,除非另外含蓄地或明确地说明,否则阐述的数字参数是近似值,其可能取决于寻求的期望性能和/或在标准试验条件/方法下的检测限度。当将实施方案与所讨论的现有技术直接地和明确地区分时,实施方案数字不是近似值,除非明确地列出词语“约”。
[0030]除非另外解释,否则在本文中使用的所有技术和科学术语具有与本公开内容所属领域的普通技术人员通常所理解的相同的含义。尽管与本文描述的那些类似或等同的方法和材料可以用于本公开内容的实践或试验中,但是在下面描述了合适的方法和材料。所述材料、方法和实施例仅仅是示例性的,且无意成为限制性的。
[0031]本文中使用的术语“被取代的”是指术语中所有随后的修饰部分,例如在术语“被取代的芳基C1‑8烷基”中,取代可以发生在芳基C1‑8烷基的“C1‑8烷基”部分、“芳基”部分或两个部分上。
[0032]当用于修饰指定的基团或部分时,“被取代的”是指,指定的基团或部分的至少一个、以及可能两个或更多个氢原子独立地被以下定义的相同或不同的取代基团替代。在一个特定实施方案中,基团、部分或取代基可以是被取代的或未被取代的,除非明确地定义为“未被取代的”或“被取代的”。因此,本文指定的基团中的任一个可以是未被取代的或被取代的,除非上下文另外指示或特定结构式排除了取代。在特定实施方案中,取代基可以或可以不明确地定义为被取代的,但仍然考虑为任选地被取代的。例如,“脂族”或“环状”部分可以是未被取代的或被取代的,但是“未被取代的脂族”或“未被取代的环状”部分未被取代。
[0033]用于替代指定的基团或部分中的饱和碳原子上的一个或多个氢原子的“取代基”或“取代基团”。本文中使用的术语“被取代的”是指术语中所有随后的修饰部分,例如在术语“被取代的芳基C1‑8烷基”中,取代可以发生在芳基C1‑8烷基的“C1‑8烷基”部分、“芳基”部分或两个部分上。<本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.根据下式的化合物其中X选自CH2、O、S、S(O)、S(O)2和NR
a
;R
a
在每次出现时选自氢、C1‑6烷基和C1‑6酰基;Y1、Y2和Y3独立地选自N、N(R
a
)、O、C(R
b
)1‑2和C=O;R
b
选自氢、C1‑6烷基和卤素;Z是C(R
c
)或NR
c
;R
c
是任选地被一个或多个R1基团取代的C1‑4不饱和碳链,其任选地插入1或2个选自O、N和S的杂原子;R
z
是N、CH或C(R1)并且与ZR
c
以及它们所结合的碳一起形成被m个R1基团取代的5或6元杂芳基或6元芳基环;R1是连接基

R6基团,其中所述连接基是键,任选地被一个或多个R
b
取代的(C1‑
C4)烷基、(C1‑
C4)烯基或(C1‑
C4)炔基且R6是R
e


C(R
f
)3或

C(R
f
)=C(R
f
)2;R2是R
a
;环B是5

10元杂芳基;R3在每次出现时独立地选自R
b
和OR
a
;L是O、NR
a
或亚烷基;W是任选地被p个R4取代的5

10元芳基或杂芳基;R4在每次出现时选自R
b
和OR
a
;R
d
在每次出现时独立地选自氢、C1‑6烷基、芳烷基、C5‑
10
芳基或杂芳基,或两个R
d
与它们二者所连接的氮一起形成任选地被一个或多个R
e
取代的C3‑
10
杂环基;R
e
在每次出现时独立地是卤素、

OR
d


SR
d


S(O)2R
d


NR
d
R
d


Si(R
a
)3、

C(O)OH、

C(O)OR
a


C(O)NR
d
R
d
;R
f
在每次出现时独立地是R
a
、R
b
或R
e
,或两个R
f
基团与它们所结合的碳原子一起形成C3‑6环烷基或C3‑
10
杂环基,各自任选地被一个或多个R
e
取代;m是1、2、3或4;n是0、1或2;且p是0、1、2、3、4或5。2.根据权利要求1所述的化合物,所述化合物具有下式3.根据权利要求1所述的化合物,所述化合物具有下式
4.根据权利要求1所述的化合物,所述化合物具有下式5.根据权利要求1所述的化合物,所述化合物具有下式其中Z1选自C和N;且Z2、Z3和Z4独立地选自O、S、S(O)2、CH、N、N(R
a
)和CR1。6.根据权利要求1所述的化合物,所述化合物具有下式其中Z1是C或N且Z3是O、S、N或N(R
a
)。7.根据下式的化合物其中X选自CH2、O、S、S(O)、S(O)2和NR
a
;R
a
在每次出现时选自氢、C1‑6烷基和C1‑6酰基;Y1、Y2和Y3独立地选自N、N(R
a
)、O、C(R
b
)1‑2和C=O;R
b
选自氢、C1‑6烷基和卤素;Z是C(R
c
)或NR
c
;R
c
是任选地被一个或多个R1基团取代的C1‑4不饱和碳链,其任选地插入1或2个选自O、N和S的杂原子;R
z
是N、CH或C(R1)并且与ZR
c
以及它们所结合的碳一起形成任选地被m个R1基团取代的5或6元杂芳基或6元芳基环;R1是卤素或连接基

R6基团,其中所述连接基是键,任选地被一个或多个R
b
取代的(C1‑
C4)烷基、(C1‑
C4)烯基或(C1‑
C4)炔基且R6是R
e


C(R
f
)3或

C(R
f
)=C(R
f
)2;R2是R
a
;环B是5

10元杂芳基;R3在每次出现时独立地选自R
b
和OR
a
;L是O、NR
a
或亚烷基;W是任选地被p个R4取代的5

10元芳基或杂芳基;R4在每次出现时选自R
b
和OR
a
;R
d
在每次出现时独立地选自氢、C1‑6烷基、芳烷基、C5‑
10
芳基或杂芳基,或两个R
d
与它们二者所连接的氮一起形成任选地被一个或多个R
e
取代的C3‑
10
杂环基;R
e
在每次出现时独立地是卤素、

OR
d


SR
d


S(...

【专利技术属性】
技术研发人员:S
申请(专利权)人:里格尔药品股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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