一种大环内酰胺类化合物、其制备方法及应用技术

本发明专利技术提供了一种大环内酰胺类化合物、其制备方法及应用。本发明专利技术提供了一种如式1所示的大环内酰胺类化合物或其药学上可接受的盐。该类化合物结构新颖，具有良好的炎症抑制活性，为开发抗炎症药物提供了新的候选化合物。为开发抗炎症药物提供了新的候选化合物。为开发抗炎症药物提供了新的候选化合物。为开发抗炎症药物提供了新的候选化合物。

【技术实现步骤摘要】
一种大环内酰胺类化合物、其制备方法及应用


[0001]本专利技术涉及一种大环内酰胺类化合物、其制备方法及应用。

技术介绍

[0002]炎症是机体对感染的一种防御机制，主要表现为红肿、疼痛等。临床上对炎症的治疗主要有两大类药物：一类是具甾体结构的糖皮质激素类抗炎药，另一类是非甾体抗炎药。
[0003]以可的松类药物为代表的糖皮质激素类抗炎药问世于20世纪40年代，在治疗关节炎等疾病方面取得了令人瞩目的疗效，但长期应用可产生依赖性和一些包括肾上腺皮质功能的严重副作用，限制其在临床广泛使用。
[0004]非甾体抗炎药的概念可追随到20世纪50年代，即在其结构中不含有甾体结构。随后抗炎药物研究和开发成了热点，一系列非甾体结构的抗炎药物陆续研发上市，主要可分为吡唑酮类、邻氨基苯甲酸类、吲哚乙酸类、芳基烷酸类等。

技术实现思路

[0005]本专利技术所要解决的技术问题是现有的抗炎药物的结构单一，为此，本专利技术提供了一种大环内酰胺类化合物、其制备方法及应用，该类化合物结构新颖，具有良好的炎症抑制活性，为开发抗炎症药物提供了新的候选化合物。
[0006]本专利技术提供了一种如式1所示的大环内酰胺类化合物或其药学上可接受的盐：
[0007][0008]其中，R1为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0009]R2为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0010]R3为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0011]R4为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0012]L1为其中a端与R5连接于同一个碳原子；
[0013]X1为O、S或NH；
[0014]X2为O、S或NH；
[0015]R7‑1为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0016]R7‑2为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0017]R7‑3为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0018]R7‑4为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0019]R7‑5为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0020]R7‑6为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0021]R7‑7为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0022]R7‑8为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0023]X3为O、S或NH；
[0024]X4为O、S或NH；
[0025]R8‑1为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0026]R8‑2为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0027]R8‑3为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0028]R8‑4为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0029]R8‑5为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0030]R8‑6为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0031]R8‑7为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0032]R8‑8为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0033]R8‑9为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；
[0034]X5为O、S或NH；
[0035]R9‑1为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种如式1所示的大环内酰胺类化合物或其药学上可接受的盐：其中，R1为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R2为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R3为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R4为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；L1为其中a端与R5连接于同一个碳原子；X1为O、S或NH；X2为O、S或NH；R7‑1为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R7‑2为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R7‑3为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R7‑4为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R7‑5为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R7‑6为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R7‑7为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R7‑8为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3
～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；X3为O、S或NH；X4为O、S或NH；R8‑1为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R8‑2为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R8‑3为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R8‑4为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R8‑5为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R8‑6为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R8‑7为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R8‑8为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R8‑9为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；X5为O、S或NH；R9‑1为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R9‑2为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R9‑3为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R9‑4为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R5为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R6为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R9为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
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芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R
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为羟基、C1～C6烷氧基或被羟基取代的C1～C6烷基；
L2为其中c端与R6连接于同一个碳原子；X6为O、S或NH；R
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‑1为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R
10
‑2为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R
10
‑3为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、C2～C6烯基、C2～C6炔基、C1～C6烷氧基、3～6元环烷基、C6～C
10
芳基、3～6元杂环烷基或5～10元杂芳基；R
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‑4为氢、羟基、氨基、氰基、卤素、C1～C6烷基、...

【专利技术属性】
技术研发人员：林厚文，杨帆，卢静容，
申请(专利权)人：上海交通大学医学院附属仁济医院，
类型：发明
国别省市：