感光性树脂组合物、永久抗蚀剂、永久抗蚀剂的形成方法、及永久抗蚀剂用固化膜的检查方法技术

本发明专利技术的一方面涉及一种永久抗蚀剂的形成方法，其包括：将含有基础聚合物及在360～500nm具有吸收峰且通过光照射发光的化合物的感光性树脂组合物在基板的一部分或整个面涂布并干燥来形成树脂膜的步骤；将树脂膜的至少一部分曝光的步骤；将曝光后的树脂膜显影来形成图案树脂膜的步骤；及加热图案树脂膜的步骤。骤。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性树脂组合物、永久抗蚀剂、永久抗蚀剂的形成方法、及永久抗蚀剂用固化膜的检查方法


[0001]本专利技术涉及一种感光性树脂组合物、永久抗蚀剂、永久抗蚀剂的形成方法、及永久抗蚀剂用固化膜的检查方法。

技术介绍

[0002]随着各种电子设备的高性能化半导体的高度集成化也在进步。随之，形成于印刷线路板、半导体封装基板等的永久抗蚀剂(阻焊剂)需要各种性能。
[0003]作为用于形成永久抗蚀剂的感光性树脂组合物，例如已知有含有酚醛清漆树脂、环氧树脂及光酸产生剂的感光性树脂组合物、具有羧基的碱溶性环氧化合物、以及含有光阳离子聚合引发剂的感光性树脂组合物等(例如，参考专利文献1及2)。
[0004]以往技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开平09
‑
087366号公报
[0007]专利文献2：国际公开第2008/010521号

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的技术课题
[0009]通过检查永久抗蚀剂的外观，能够在印刷线路板、半导体封装基板等的制造中的更早阶段发现不良。要求在感光性树脂组合物中形成基于简单的方法实现外观检查的永久抗蚀剂。
[0010]本专利技术的目的为提供一种能够形成基于简单的方法实现外观检查的永久抗蚀剂的感光性树脂组合物、基于简单的方法实现外观检查的永久抗蚀剂、永久抗蚀剂的形成方法、及永久抗蚀剂用固化膜的检查方法。
[0011]用于解决技术课题的手段
[0012]本专利技术的一方面涉及一种永久抗蚀剂的形成方法，其包括：将含有基础聚合物及在360～500nm具有吸收峰且通过光照射发光的化合物的感光性树脂组合物在基板的一部分或整个面涂布并干燥来形成树脂膜的步骤；将树脂膜的至少一部分曝光的步骤；将曝光后的树脂膜显影来形成图案树脂膜的步骤；及加热图案树脂膜的步骤。
[0013]本专利技术的另一方面涉及一种永久抗蚀剂用的感光性树脂组合物，其含有基础聚合物及在360～500nm具有吸收峰且通过光照射发光的化合物。
[0014]本专利技术的另一方面涉及一种永久抗蚀剂，其为包含含有基础聚合物及在360～500nm具有吸收峰且通过光照射发光的化合物的感光性树脂组合物的固化物的永久抗蚀剂，永久抗蚀剂的激发波长405nm或480nm下的荧光强度相对于包含含有100质量份的对羟基苯乙烯/苯乙烯共聚物及25质量份的4,4
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亚乙基三[2,6
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(甲氧基甲基)苯酚]的树脂组合物的固化物的厚度10μm的标准膜的激发波长405nm或480nm下的荧光强度为10倍以上。
[0015]本专利技术的另一方面涉及一种永久抗蚀剂用固化膜的检查方法，其包括：将含有100质量份的对羟基苯乙烯/苯乙烯共聚物及25质量份的4,4
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亚乙基三[2,6
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(甲氧基甲基)苯酚]的树脂组合物在玻璃基板上涂布并干燥之后，以200℃加热处理来形成包含树脂组合物的固化物的厚度10μm的标准膜的步骤；将感光性树脂组合物在玻璃基板上涂布并干燥之后，加热处理来形成包含感光性树脂组合物的固化物的固化膜的步骤；及测量标准膜及固化膜的激发波长405nm及480nm下的荧光强度的步骤，并且选择固化膜的激发波长405nm或480nm下的荧光强度相对于标准膜的激发波长405nm或480nm下的荧光强度为10倍以上的固化膜。
[0016]专利技术效果
[0017]根据本专利技术，能够提供一种能够形成基于简单的方法实现外观检查的永久抗蚀剂的感光性树脂组合物、基于简单的方法实现外观检查的永久抗蚀剂、永久抗蚀剂的形成方法、及永久抗蚀剂用固化膜的检查方法。
具体实施方式
[0018]以下，对本专利技术进行详细说明。在本说明书中，“步骤”一词并不仅为独立的步骤，只要实现其步骤所期望的作用，即使无法与其他步骤明确区分也包含在内。关于“层”这一用语，除了在以俯视图观察时，在整个面形成的形状的结构之外，还包括在一部分形成的形状的结构。使用“～”示出的数值范围表示将记载于“～”的前后的数值分别作为最小值及最大值而包括的范围。在本说明中阶段性地记载的数值范围内，某一阶段的数值范围的上限值或下限值可以替换为其他阶段的数值范围的上限值或下限值。在本说明书中所记载的数值范围内，该数值范围的上限值或下限值可以替换为实施例中所示的值。
[0019]在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”是指“丙烯酸”及与其对应的“甲基丙烯酸”中的至少一个，关于(甲基)丙烯酸酯等其他类似表述也相同。在本说明书中，“固体成分”是指，去除了感光性树脂组合物中包含的水、溶剂等挥发物质的不挥发成分，干燥该树脂组合物时，表示不挥发而残留的成分，并且，还包含在25℃左右的室温下呈液状、糖稀状及蜡状的物质。
[0020][感光性树脂组合物][0021]一实施方式的永久抗蚀剂用的感光性树脂组合物含有基础聚合物及在360～500nm具有吸收峰且通过光照射发光的化合物。本实施方式的感光性树脂组合物可以为正型感光性树脂组合物，也可以为负型感光性树脂组合物。
[0022](在360～500nm具有吸收峰且通过光照射发光的化合物)
[0023]感光性树脂组合物通过含有在360～500nm具有吸收峰且通过光照射发光的化合物作为(X)成分，能够形成基于简单的方法实现外观检查的永久抗蚀剂。
[0024](X)成分的最大吸收波长(λmax)在360～500nm的范围内，从提高激发波长405nm下的荧光强度的观点考虑，λmax可以为370nm以上，385nm以上或400nm以上，从提高激发波长480nm下的荧光强度的观点考虑，可以为495nm以下，490nm以下或485nm以下。
[0025](X)成分的熔点例如为80～250℃，从提高永久抗蚀剂的耐热性的观点考虑，可以为90℃以上，100℃以上或150℃，从提高与基础聚合物的相溶性的观点考虑，可以为245℃以下，240℃以下或235℃以下。
[0026]作为(X)成分，例如可以举出香豆素化合物及苯并噁唑化合物。(X)成分可以单独使用1种或组合使用2种以上。
[0027]作为香豆素化合物，例如能够使用由下述式(1)表示的化合物。
[0028][0029]式(1)中，Z1及Z2分别独立地表示卤素原子、碳原子数1～20的烷基、碳原子数3～10的环烷基、碳原子数6～14的芳基、氨基、碳原子数1～10的烷氨基、碳原子数1～20的二烷氨基、巯基、碳原子数1～10的烷巯基、烯丙基、碳原子数1～20的羟烷基、羧基、烷基的碳原子数为1～10的羧烷基、烷基的碳原子数为1～10的酰基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的烷氧羰基或包含杂环的基团，n表示0～4的整数，m表示0～2的整数。再者，n个Z1及m个Z2中至少2个可以形成环。
[0030]作为式(1)中的卤素原子，例如可以举出氟、氯、溴、碘及砹等。作为碳原子数1～2本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种永久抗蚀剂的形成方法，其包括：将含有基础聚合物及在360～500nm具有吸收峰且通过光照射发光的化合物的感光性树脂组合物在基板的一部分或整个面涂布并干燥来形成树脂膜的步骤；将所述树脂膜的至少一部分曝光的步骤；将曝光后的树脂膜显影来形成图案树脂膜的步骤；及加热所述图案树脂膜的步骤。2.根据权利要求1所述的永久抗蚀剂的形成方法，其中，所述化合物的熔点为80～250℃。3.根据权利要求1或2所述的永久抗蚀剂的形成方法，其中，所述基础聚合物包含具有酚性羟基的树脂或具有光聚合性乙烯性不饱和基团的树脂。4.根据权利要求3所述的永久抗蚀剂的形成方法，其中，所述具有酚性羟基的树脂为选自由羟基苯乙烯系树脂、酚醛树脂及聚苯并噁唑前体组成的组中的至少一种。5.根据权利要求3所述的永久抗蚀剂的形成方法，其中，所述具有光聚合性乙烯性不饱和基团的树脂为聚酰亚胺前体。6.根据权利要求1至5中任一项所述的永久抗蚀剂的形成方法，其中，加热所述图案树脂膜的温度为160℃以上。7.一种永久抗蚀剂用的感光性树脂组合物，其含有：基础聚合物；及在360～500nm具有吸收峰且通过光照射发光的化合物。8.根据权利要求7所述的感光性树脂组合物，其中，所述化合物的熔点为80～250℃。9.根据权利要求7或8所述的感光性树脂组合物，其中，所述基础聚合物包含具有酚性羟基的树脂或具有光聚合性乙烯性不饱和基团的树脂。10.根据权利要求9所述的感光性树脂组合物，其中，所述具有酚性羟基的树脂为选自由羟基苯乙烯系树脂、酚醛树脂及聚苯并噁唑前体组成的组中的至少一种。11.根据权利要求9所述的感光性树脂组合物，其中，所述具有光聚合性乙烯性不饱和基团的树脂为聚酰亚胺前体。12.一种永久抗蚀剂，其为包含含有基础聚合物及在360～500nm具有吸收峰且通过光照射发光的化合物的感光性树脂组合物...

【专利技术属性】
技术研发人员：青木优，滨野芳美，铃木辉昭，
申请(专利权)人：株式会社力森诺科，
类型：发明
国别省市：