本发明专利技术公开了基板处理装置及基板处理装置的工艺管理方法，涉及掌握设置在基板处理设备的多个工艺腔室的每一个的工艺现况，将处理预定基板投入到各个工艺腔室，并保管在设于传输腔室的储存室中，根据相应工艺腔室的工艺进行情况，将保管在所述储存室中的基板移送到相应工艺腔室的基板处理设备的工艺管理技术。基板处理装置包括：多个工艺腔室，执行针对基板的工艺工序；传输腔室，具备储存室和移送机器人，所述储存室配置在所述多个工艺腔室之间并临时保管处理预定基板，所述移送机器人将基板移送到所述储存室；以及控制模组。基板处理装置的工艺管理方法包括工艺现况监视步骤、休息预定判断步骤、基板保管步骤、基板供应安排步骤、基板移送步骤。基板移送步骤。基板移送步骤。
【技术实现步骤摘要】
基板处理装置及基板处理装置的工艺管理方法
[0001]本专利技术涉及一种基板处理装置及基板处理装置的工艺管理方法，涉及掌握设置在基板处理设备的多个工艺腔室的每一个的工艺现况，将处理预定基板投入到各个工艺腔室，并保管在设于传输腔室的储存室中，根据相应工艺腔室的工艺进行情况，将保管在所述储存室中的基板移送到相应工艺腔室的基板处理设备的工艺管理技术。
技术介绍
[0002]近年来，随着半导体设备的精细化以及高集成化，需要工艺的高精度化、复杂化、晶圆的大口径化等，并且从伴随复合工艺的增加或单叶式化的生产性(throughput)提高的观点来看，为了统一处理半导体设备制造工艺，设置有多个腔室的多腔室方式的基板处理装置备受关注。
[0003]这种多腔室方式的基板处理装置具备设置在多数的工艺腔室和各个工艺腔室之间而将基板移送到工艺腔室的至少一个传输腔室。基板处理装置根据工艺腔室和传输腔室的配置形式，分为集群平台(cluster platform)和内线平台(inline platform)。
[0004]通过多腔室方式的基板处理装置，当工艺处理时，根据复合工艺的复杂度，在腔室之间搬运基板所需的时间在半导体元件的总制造时间中所占的比重逐渐增加。
[0005]在这种趋势下，为了提高基板的生产性，正在积极进行减少不必要的搬运过程且能够连续处理工艺的半导体制造设备的布局(lay
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out)相关的研究。
技术实现思路
[0006]本专利技术是为了解决上述现有技术的问题而提出的，目的在于提出一种可以通过减少在多腔室方式的基板处理装置中搬运基板所需的时间来提高生产性的基板处理方案。
[0007]特别是，所要解决的问题是，当多个腔室都在工艺处理中时，使要处理的基板在负载锁定腔室中待机，若某个腔室完成工艺处理，则将基板移送到传输腔室，根据移送机器人将基板移送到相应腔室，基板移送需要相当长的时间，因此效率低。
[0008]进一步，所要解决的问题是，由于传输腔室上的移送机器人一次可以移送的基板数量和可以移送到负载锁定腔室的基板数量是有限的，因此随着增加工艺腔室，基板移送出现延迟，从而不得不限制工艺腔室的增设。
[0009]本专利技术的目的不受前述的限制，可以通过以下说明来理解未提及的本专利技术的其它目的及优点。
[0010]可以是，根据本专利技术的基板处理装置的工艺管理方法的一实施例包括：工艺现况监视步骤，掌握针对多个工艺腔室的每一个的工艺现况；休息预定判断步骤，判断在所述多个工艺腔室中要转换成休息状态的休息转换工艺腔室；基板保管步骤，与所述休息转换工艺腔室对应地将处理预定基板移送到设于传输腔室的储存室中并保管所述处理预定基板；以及基板移送步骤，根据所述休息转换工艺腔室的休息状态的转换，将保管在所述储存室中的所述处理预定基板移送到所述休息转换工艺腔室。。
[0011]优选地，可以是，所述工艺现况监视步骤判断针对所述多个工艺腔室的每一个的休息状态转换时间点，所述休息预定判断步骤判断最先要转换成休息状态的休息转换工艺腔室。
[0012]进一步，可以是，所述工艺现况监视步骤与所述多个工艺腔室的每一个对应地掌握在所述储存室中是否保管处理预定基板，并考虑是否保管处理预定基板而掌握针对所述多个工艺腔室的每一个的休息状态转换时间点。
[0013]更进一步，可以是，所述基板保管步骤包括：掌握并选择设于所述传输腔室的多个储存室中的与所述休息转换工艺腔室对应的储存室的步骤；以及将处理预定基板移送到与所述休息转换工艺腔室对应的储存室并保管所述处理预定基板的步骤。
[0014]作为一例，可以是，所述基板保管步骤与所述休息转换工艺腔室对应地按照基板处理预定顺序在所述储存室中按照依次顺序保管多个处理预定基板。
[0015]进一步，也可以是，所述基板处理装置的工艺管理方法在执行所述基板保管步骤后还包括：基板供应安排步骤，制定针对所述休息转换工艺腔室的基板供应计划。
[0016]作为一例，可以是，所述基板移送步骤包括：掌握针对所述多个工艺腔室的每一个的工艺现况而掌握转换成休息状态的休息转换工艺腔室的步骤；与所述休息转换工艺腔室对应地提取保管在所述储存室中的所述处理预定基板的处理预定基板提取步骤；以及将所述处理预定基板移送到所述休息转换工艺腔室的步骤。
[0017]进一步，可以是，所述处理预定基板提取步骤掌握设于所述传输腔室的多个储存室中的与所述休息转换工艺腔室对应的储存室而提取保管的处理预定基板。
[0018]此外，可以是，根据本专利技术的基板处理装置的一实施例包括：多个工艺腔室，执行针对基板的工艺工序；传输腔室，具备储存室和移送机器人，所述储存室配置在所述多个工艺腔室之间并临时保管处理预定基板，所述移送机器人将基板移送到所述工艺腔室以及所述储存室；以及控制模组，掌握针对所述多个工艺腔室的每一个的工艺现况，并与各个所述工艺腔室对应地管理所述处理预定基板在所述储存室中的保管和提取。
[0019]优选地，可以是，所述传输腔室与所述多个工艺腔室对应地具备多个储存室。
[0020]更优选地，可以是，所述储存室配置在所述工艺腔室的门附近。
[0021]作为一例，可以是，所述储存室在所述工艺腔室的门附近侧壁上配置在比所述门高的位置或低的位置。
[0022]作为一例，可以是，所述储存室包括：上支承台和下支承台，末端安装在所述工艺腔室的门附近侧壁上，并从所述侧壁向外侧凸出；以及基板保管空间，通过所述上支承台和所述下支承台而设在所述上支承台和所述下支承台之间，从而处理预定基板的至少一部分插入并保管在所述基板保管空间中。
[0023]作为又另一例，可以是，所述储存室还包括：一个以上的中间支承台，设置在所述上支承台和所述下支承台之间；以及多个基板保管空间，通过所述中间支承台划分。
[0024]进一步，可以是，所述控制模组包括：工艺现况监测部，掌握针对所述多个工艺腔室的工艺现况；基板供应安排部，基于针对所述多个工艺腔室的工艺现况，与各个所述工艺腔室对应地管理所述处理预定基板在所述储存室中的保管和提取；以及移送机器人控制部，控制将基板移送到所述工艺腔室以及所述储存室的移送机器人。
[0025]更进一步，可以是，所述控制模组还包括：储存室现况监测部，掌握并管理针对多
个所述储存室的处理预定基板的保管现况。
[0026]作为一例，可以是，所述控制模组的所述基板供应安排部基于针对所述多个工艺腔室的工艺现况以及保管在所述储存室中的处理预定基板的保管现况，制定针对各个所述工艺腔室的基板供应计划。
[0027]作为另一例，可以是，所述控制模组的所述基板供应安排部基于针对多个所述工艺腔室的工艺现况以及保管在多个所述储存室中的处理预定基板的保管现况，选择储存室而保管处理预定基板。
[0028]进一步，可以是，所述工艺现况监测部掌握针对各个所述工艺腔室的休息状态转换时间点。
[0029]可以是，根据本专利技术的基板处理装置的工艺管理方法的优本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置的工艺管理方法，其特征在于，包括：工艺现况监视步骤，掌握针对多个工艺腔室的每一个的工艺现况；休息预定判断步骤，判断在所述多个工艺腔室中要转换成休息状态的休息转换工艺腔室；基板保管步骤，与所述休息转换工艺腔室对应地将处理预定基板移送到设于传输腔室的储存室中并保管所述处理预定基板；以及基板移送步骤，根据所述休息转换工艺腔室的休息状态的转换，将保管在所述储存室中的所述处理预定基板移送到所述休息转换工艺腔室。2.根据权利要求1所述的基板处理装置的工艺管理方法，其特征在于，所述工艺现况监视步骤判断针对所述多个工艺腔室的每一个的休息状态转换时间点，所述休息预定判断步骤判断最先要转换成休息状态的休息转换工艺腔室。3.根据权利要求2所述的基板处理装置的工艺管理方法，其特征在于，所述工艺现况监视步骤与所述多个工艺腔室的每一个对应地掌握在所述储存室中是否保管处理预定基板，并考虑是否保管处理预定基板而掌握针对所述多个工艺腔室的每一个的休息状态转换时间点。4.根据权利要求1所述的基板处理装置的工艺管理方法，其特征在于，所述基板保管步骤包括：掌握并选择设于所述传输腔室的多个储存室中的与所述休息转换工艺腔室对应的储存室的步骤；以及将处理预定基板移送到与所述休息转换工艺腔室对应的储存室并保管所述处理预定基板的步骤。5.根据权利要求1所述的基板处理装置的工艺管理方法，其特征在于，所述基板保管步骤与所述休息转换工艺腔室对应地按照基板处理预定顺序在所述储存室中按照依次顺序保管多个处理预定基板。6.根据权利要求1所述的基板处理装置的工艺管理方法，其特征在于，所述基板处理装置的工艺管理方法在执行所述基板保管步骤后还包括：基板供应安排步骤，制定针对所述休息转换工艺腔室的基板供应计划。7.根据权利要求1所述的基板处理装置的工艺管理方法，其特征在于，所述基板移送步骤包括：掌握针对所述多个工艺腔室的每一个的工艺现况而掌握转换成休息状态的休息转换工艺腔室的步骤；与所述休息转换工艺腔室对应地提取保管在所述储存室中的所述处理预定基板的处理预定基板提取步骤；以及将所述处理预定基板移送到所述休息转换工艺腔室的步骤。8.根据权利要求7所述的基板处理装置的工艺管理方法，其特征在于，所述处理预定基板提取步骤掌握设于所述传输腔室的多个储存室中的与所述休息转换工艺腔室对应的储存室而提取保管的处理预定基板。9.一种基板处理装置，其特征在于，包括：多个工艺腔室，执行针对基板的工艺工序；
传输腔室，具备储存室和移送机器人，所述储存室配置在所述多个工艺腔室之间并临时保管处理预定基板，所述移送机器人将基板移送到所述工艺腔室以及所述储存室；以及控制模组，掌握针对所述多个工艺腔室的每一个的工艺现况，并与各个所述工艺腔室对应地管理所述处理预定基板在所述储存室中的保管和提取。10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，所述传输腔室与所述多个工艺腔室对应地具备...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁映轘，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：
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