微型影像撷取透镜制造技术

技术编号:3767120 阅读:125 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种微型影像撷取透镜,包括孔径光圈,使微型影像撷取透镜穿过孔径撷取影像和晶片级透镜系统。晶片级透镜系统包括第一和第二透镜组,第一透镜组包括第一基板、第一透镜、第二透镜。第二透镜组包括第二基板、第三透镜、第四透镜,第一、第二、第三和第四透镜是非球状,且满足条件:L/fe<1.6;f1/fe=0.5~1.5;f2/fe=-1~-3;Tgroup2/TBFL=0.8~1.2;Tair/Tgroup2=0.4~0.8;L:从第一透镜至影像平面的总轨道长度;fe:全部晶片级透镜系统的有效焦距;f1:第一透镜有效焦距;f2:第二透镜有效焦距;Tgroup2:第二透镜组厚度;Tair:第二和第三透镜间的距离;TBFL:从第四透镜表面至影像平面的后焦距。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种透镜系统,特别涉及一种晶片级(wafer-level)微型影像撷取透镜(miniature image capture lens)。
技术介绍
由于固态影像撷取单元,例如电荷耦合组件(charge-coupled device,CCD) 、CM0S传感器或相似的组件的发展,手机或个人计算机搭载影像组件变得越来越普及。此外,设置于影像组件上的影像撷取透镜需要更进一步的微型化。 然而,尽管有上述需求,对于传统的影像撷取透镜而言,其微型化已经遇到瓶颈,理由是上述透镜是真正的三维(3-D)结构,微型化具有相当的困难度,且其中的传感器也需要微型化。此种技术很难控制每个透镜表面侧向移动和倾斜的精确度,另外,在制造过程中,也很难操作微小的透镜。换言之,上述传统透镜的容许度(tolerance)较小。 图1示出了使用已公开的透镜模块系统的影像组件,其中光线穿过晶片级透镜102、104到达感测单元106。在此技术中,晶片级透镜102、104模块和影像感测单元106可通过超大规模集成电路(VLSI)制造技术制作,因此,可将影像组件制作的较小,以应用于携带型电子组件,例如手机或个人数字助理(PDA)。晶片级透镜将透镜板(lens plate)堆栈成立方体的透镜(称为2. 5D结构),因此,其可以随着例如墨尔定律(Moore's law)的半导体工艺的发展,更进一步地微型化,且此种透镜的容许度较大。另外,传统透镜是以离散式的工艺(discrete process)制作,将透镜一个一个地组装,相较之下,晶片级透镜可以连续工艺制作,将数千个透镜堆栈于透镜板上,排列成一透镜阵列,再通过晶片切割工艺形成立方体的镜片。然而,尽管晶片级透镜的体积较小,传统三维透镜的效果相对于晶片级透镜仍然有较佳的表现。此外,晶片级透镜较难设计出如传统三维透镜般足够小的像差、足够好的调制转换函数(modulation transfer function,MTF),特别是当奈奎斯特频率(Nyquistfrequency)较高时。因此,业界需要一种表现可及上传统三维透镜的晶片级透镜。
技术实现思路
因此,为了解决上述问题,本专利技术提供一种微型影像撷取透镜,包括一孔径光圈,使微型影像撷取透镜穿过孔径撷取一影像;和一晶片级透镜系统,其中晶片级透镜系统包括一第一透镜组和一第二透镜组,第一透镜组包括一第一基板、设置于第一基板的第一侧上的第一透镜、设置于第一基板的第二侧上的第二透镜。一第二透镜组包括一第二基板、设置于第二基板的第一侧上的第三透镜、设置于第二基板的第二侧上的第四透镜,其中第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜是非球状,且满足以下条件 L/fe < 1. 6 ; fVfe = 0. 5 1. 5 ; f2/fe = — 1 —3 ; TKr。UD2/TBFL = 0. 8 1. 2 ; L :从第一透镜至一影像平面的总轨道长度(total track length, TTL); fe :全部晶片级透镜系统的有效焦距(effective focal length); ^ :第一透镜的有效焦距; f2 :第二透镜的有效焦距; Tgr。up2 :第二透镜组的厚度; :第二透镜和第三透镜间的距离; T皿从第四透镜的表面至一影像平面的后焦距。附图说明如下为了让本专利技术的上述目的、特征及优点能更明显易懂,以下配合附图,作详细说明图1示出了使用已公开的透镜模块系统的影像组件。图2示出了本专利技术一实施例的微型影像撷取透镜的剖面图。图3示出了本专利技术一实施例的微型影像撷取透镜的分解图。图4示出了本专利技术一实施例的微型影像撷取透镜的剖面图。图5A示出了本专利技术一范例在各种波长长度条件下像散曲线的图示。图5B示出了本专利技术一范例在各种波长长度条件下变形曲线的图示。图5C示出了本专利技术一范例球面像差的图示。图5D示出了本专利技术一范例彗星像差的图示。其中,附图标记说明如下102106202204206208210214218'晶片级透镜舊测单元;'第一透镜;'光圈;'第一透镜组'第一基板'第三透镜'第二基板104 晶片级透镜;201 前置玻璃盖;203 间隙垫片;205 第一间隔物;207 第二透镜;209 第二间隔物;212 第二透镜组;216 第四透镜;220 影像平面。具体实施例方式以下描述本专利技术的实施例,其揭示本专利技术的主要技术特征,但不用以限定本专利技术。 图2为示出了本专利技术一实施例微型影像撷取透镜的剖面图(y-z面)。此微型影像撷取透镜可撷取一物体(未示出)的影像,以下将由外部至影像平面(image plane) 220或传感器,详细描述本实施例微型影像撷取透镜。首先,提供一前置玻璃盖(front coverglass)201,其可以涂布紫外光(UV)/红外线(IR)的滤光层。 一光圈204和一第一透镜202(正曲率)设置于一第一基板208的第一侧上,一第二透镜207(负曲率)设置于第一基板208的第二侧上,其中第一透镜202、第一基板208和第二透镜207构成一第一透镜组206。 一第三透镜210(正曲率)设置于一第二基板214的第一侧上,一第四透镜216(负曲率)设置于第二基板214的第二侧上,其中第三透镜210、第二基板214和第四透镜216构成一第二透镜组212。在本实施例中,第一透镜组206具有类似新月形的透镜的功能,第二透镜组212的功能为一校正透镜(field corrector),校正主光线角(chief ray angle)使其配合影像传感器。 以下以图3和图4详加说明本专利技术图2实施例的微型影像撷取透镜,其中图3示出了微型影像撷取透镜的分解图,图4示出了微型影像撷取透镜的剖面图。请参照图3和图4,微型影像撷取透镜由顶部至底部依序包括一前置玻璃盖201、一间隙垫片(spacerdam)203、一包括第一透镜202、第一基板208和第二透镜207的第一透镜组206、一第一间隔物(spacer) 205、一包括第三透镜210、第二基板214和第四透镜216的第二透镜组212、一第二间隔物209及一后置玻璃盖218。 特别地,第一透镜202、第二透镜207、第三透镜210和第四透镜216是非球状的,且满足以下条件 L/fe<1.6; f/fe = 0. 5 1. 5 ; f2/fe = -1 -3 ; TKroUD2/TBFL = 0. 8 1. 2 ; L :从第一透镜至影像平面的总轨道长度; fe :全部透镜系统的有效焦距; ^ :第一透镜的有效焦距; f2 :第二透镜的有效焦距; Tg up2 :第二透镜组的厚度; :第二透镜和第三透镜间的距离; T皿从最后一个透镜表面至影像平面的后焦距(包括玻璃盖的等效厚度) 其中,7三(",—T) n :折射系数 R :光学表面的曲率半径; 特别是,在本专利技术的一范例中,第三透镜和第四透镜满足以下条件 f3/fe > 0 ; f4/fe < 0 ; f3 :第三透镜的有效焦距; f4:第四透镜的有效焦距; i:透镜的序号,为整数。 在本实施例中,第一基板208和第二基板214可以是具有和透镜材料相称的折射系数的玻璃基板,且其厚度可以为300 ii m 400 ii m。间隔物205、209可本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种微型影像撷取透镜,包括:一孔径光圈,具有一孔径,使该微型影像撷取透镜穿过该孔径撷取一影像;一晶片级透镜系统,包括:一第一透镜组,包括:一第一基板;设置于该第一基板的第一侧上的第一透镜;设置于该第一基板的第二侧上的第二透镜;一第二透镜组,包括:一第二基板;设置于该第二基板的第一侧上的第三透镜;设置于该第二基板的第二侧上的第四透镜;其中该第一透镜、该第二透镜、该第三透镜和该第四透镜是非球状的,且满足以下条件:L/f↓[e]<1.6;f↓[1]/f↓[e]=0.5~1.5;f↓[2]/f↓[e]=-1~-3;T↓[group2]/T↓[BFL]=0.8~1.2;T↓[air]/T↓[group2]=0.4~0.8;L:从第一透镜至一影像平面的总轨道长度;f↓[e]:全部该晶片级透镜系统的有效焦距;f↓[1]:第一透镜的有效焦距;f↓[2]:第二透镜的有效焦距;T↓[group2]:第二透镜组的厚度;T↓[air]:第二透镜和第三透镜间的距离;T↓[BFL]:从该第四透镜的表面至一影像平面的后焦距。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:邓兆展张维中廖敏智
申请(专利权)人:采钰科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

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