粘合剂组合物、化合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法及图像显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于提供一种能够抑制风斑且在形成为层之后上层涂布性优异的粘合剂组合物、化合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法及图像显示装置。本发明专利技术的粘合剂组合物为含有粘合剂和具有下述式(B1)或(B2)所表示的基团的化合物的粘合剂组合物。上述式(B1)及(B2)中，Z表示具有氟原子的脂肪族烃基或有机硅氧烷基。或有机硅氧烷基。或有机硅氧烷基。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】粘合剂组合物、化合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法及图像显示装置


[0001]本专利技术涉及一种粘合剂组合物、化合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法及图像显示装置。

技术介绍

[0002]近年来，聚合物材料被用于多个领域中。与此同时，根据各个领域，作为矩阵的聚合物的性状和添加该聚合物而形成的涂膜表面或层叠涂膜时的层叠膜的界面的特性也很重要。例如，半导体器件、光学部件、液晶相关部件等通常通过涂膜的层叠来制作。为了改善涂布组合物的润湿性及涂膜表面的平滑性或在该涂膜表面上进一步涂布上层的组合物时的润湿性，有时在组合物中添加硅酮系或氟系表面活性剂。
[0003]例如，在专利文献1中，记载有含有将规定的含氟氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯作为聚合性烯属不饱和单体类的必须成分进行聚合而获得的含氟聚合物表面活性剂的组合物([权利要求1][权利要求6][0070])。
[0004]并且，在专利文献2中，记载有含有光取向性聚合物和粘合剂的粘合剂组合物，所述光取向性聚合物具有在规定位置上具有氟原子或硅原子的重复单元([权利要求1][权利要求7])。
[0005]以往技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2008
‑
115258号公报
[0008]专利文献2：国际公开第2018/216812号

技术实现思路

[0009]专利技术要解决的技术课题
[0010]若使用氟系表面活性剂或硅酮系表面活性剂，则组合物的涂布性变得良好，并且也能够抑制干燥时由干燥风引起的膜厚不均匀(以下，也称为“风斑”。)，但是由于涂膜的表面能低，因此表面活性剂有不均匀地存在于涂膜表面上的倾向。这种表面的拒水拒油性变高，因此当试图进一步将上层涂布成膜而制作层叠膜时，有时上层形成用组合物的涂布性(以下，也称为“上层涂布性”。)差。
[0011]本专利技术人等从风斑和上层涂布性的观点考虑，对上述专利文献1中所记载的组合物进行研究的结果，明确了风斑的防止效果优异，但是对于上层涂布性存在改善的余地。
[0012]同样地，对上述专利文献2中所记载的组合物进行研究的结果，明确了风斑的防止效果优异，但是对于上层涂布性虽然满足以往的要求水平，但为了满足当今更高的要求水平，需要进一步的改善。
[0013]因此，本专利技术的课题在于提供一种能够抑制风斑且在形成为层之后上层涂布性优异的粘合剂组合物、化合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法及图像显示装
置。
[0014]用于解决技术课题的手段
[0015]本专利技术人等为了解决上述课题而进行深入研究的结果，发现了若配制具有规定结构所表示的基团的化合物，则能够抑制风斑且在形成为层之后上层涂布性优异，并完成了本专利技术。
[0016]即，本专利技术人等发现了通过以下结构能够实现上述课题。
[0017][1]一种粘合剂组合物，其含有粘合剂和具有后述式(B1)或(B2)所表示的基团的化合物。
[0018][2]根据[1]所述的粘合剂组合物，其还含有光产酸剂。
[0019][3]根据[1]或[2]所述的粘合剂组合物，其中，化合物为还具有光取向性基团的化合物。
[0020][4]根据[1]至[3]中任一项所述的粘合剂组合物，其中，化合物为具有包含后述式(B1)或(B2)所表示的基团的重复单元B的聚合物。
[0021][5]根据[4]所述的粘合剂组合物，其中，重复单元B为后述式(1)或(2)所表示的重复单元。
[0022][6]根据[4]或[5]所述的粘合剂组合物，其中，化合物为具有包含光取向性基团的重复单元A和重复单元B的共聚物。
[0023][7]根据[6]所述的粘合剂组合物，其中，重复单元A为后述式(A)所表示的重复单元。
[0024][8]根据[6]或[7]所述的粘合剂组合物，其中，化合物为具有包含交联性基团的重复单元C、重复单元B及重复单元A的共聚物。
[0025][9]根据[1]至[8]中任一项所述的粘合剂组合物，其中，化合物的重均分子量为10000～500000。
[0026][10]一种化合物，其具有后述式(B1)或(B2)所表示的基团。
[0027][11]根据[10]所述的化合物，其还具有后述式(P0)所表示的基团。
[0028][12]根据[10]所述的化合物，其为具有包含后述式(B1)或(B2)所表示的基团的重复单元B的聚合物。
[0029][13]根据[12]所述的化合物，其中，重复单元B为后述式(1)或(2)所表示的重复单元。
[0030][14]根据[12]或[13]所述的化合物，其为具有包含光取向性基团的重复单元A和重复单元B的共聚物。
[0031][15]根据[14]所述的化合物，其中，重复单元A为后述式(A)所表示的重复单元。
[0032][16]根据[14]或[15]所述的化合物，其为具有包含交联性基团的重复单元C、重复单元B及重复单元A的共聚物。
[0033][17]根据[10]至[16]中任一项所述的化合物，其中，重均分子量为10000～500000。
[0034][18]一种粘合剂层，其使用[1]至[9]中任一项所述的粘合剂组合物而形成。
[0035][19]一种光学层叠体，其具有：
[0036]上述[18]所述的粘合剂层；及
[0037]配置于粘合剂层上的光学各向异性层。
[0038][20]一种光学层叠体的制造方法，其具有：
[0039]向使用[6]至[8]中任一项所述的粘合剂组合物而获得的涂膜供给选自由光、热、酸及碱组成的组中的至少1种，然后实施光取向处理而形成粘合剂层的工序；及
[0040]在粘合剂层上涂布包含聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物而形成光学各向异性层的工序。
[0041][21]一种图像显示装置，其具有[18]所述的粘合剂层或[19]所述的光学层叠体。
[0042]专利技术效果
[0043]根据本专利技术，能够提供一种能够抑制风斑且在形成为层之后上层涂布性优异的粘合剂组合物、化合物、粘合剂层、光学层叠体、光学层叠体的制造方法及图像显示装置。
具体实施方式
[0044]以下，对本专利技术进行详细说明。
[0045]以下所记载的构成要件的说明是根据本专利技术的代表性实施方式而完成的，但是本专利技术并不限定于这种实施方式。
[0046]另外，在本说明书中，使用“～”表示的数值范围表示将记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值而包含的范围。
[0047]并且，在本说明书中，针对各成分，对应于各成分的物质可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。其中，在同时使用2种以上的物质作为各成分的情况下，除非另有特别说明，则其成分的含量是指同时使用的物质的合计含量。
[0048]并且，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”为表示“丙烯酸”本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种粘合剂组合物，其含有粘合剂和具有下述式(B1)或(B2)所表示的基团的化合物，所述式(B1)及(B2)中，*表示键合位置，n表示1以上的整数，其中，多个n可以分别相同，也可以不同，m表示2以上的整数，R
b1
表示氢原子或取代基，R
b2
、R
b3
及R
b4
分别独立地表示氢原子或取代基，其中，2个R
b3
可以彼此键合而形成环，多个R
b2
可以分别相同，也可以不同，多个R
b3
可以分别相同，也可以不同，多个R
b4
可以分别相同，也可以不同，L
b1
表示n+1价的连接基团，其中，多个L
b1
可以分别相同，也可以不同，L
b2
表示m+1价的连接基团，Z表示具有氟原子的脂肪族烃基或有机硅氧烷基，其中，所述脂肪族烃基可以具有氧原子，多个Z可以分别相同，也可以不同。2.根据权利要求1所述的粘合剂组合物，其还含有光产酸剂。3.根据权利要求1或2所述的粘合剂组合物，其中，所述化合物为还具有光取向性基团的化合物。4.根据权利要求1至3中任一项所述的粘合剂组合物，其中，所述化合物为具有包含所述式(B1)或(B2)所表示的基团的重复单元B的聚合物。5.根据权利要求4所述的粘合剂组合物，其中，所述重复单元B为下述式(1)或(2)所表示的重复单元，
所述式(1)及(2)中，r及s分别独立地表示1以上的整数，R
B1
及R
B2
分别独立地表示氢原子或取代基，Y1及Y2分别独立地表示
‑
O
‑
或
‑
NR
Z
‑
，其中，R
Z
表示氢原子或取代基，L
B1
表示r+1价的连接基团，L
B2
表示s+1价的连接基团，B1表示所述式(B1)所表示的基团，其中，所述式(B1)中的*表示与L
B1
的键合位置，在r为2以上的整数的情况下，多个B1可以分别相同，也可以不同，B2表示所述式(B2)所表示的基团，其中，所述式(B2)中的*表示与L
B2
的键合位置，在s为2以上的整数的情况下，多个B2可以分别相同，也可以不同。6.根据权利要求4或5所述的粘合剂组合物，其中，所述化合物为具有包含光取向性基团的重复单元A和所述重复单元B的共聚物。7.根据权利要求6所述的粘合剂组合物，其中，所述重复单元A为下述式(A)所表示的重复单元，所述式(A)中，R
A1
表示氢原子或取代基，L
A1
表示单键或2价的连接基团，R
A2
、R
A3
、R
A4
、R
A5
及R
A6
分别独立地表示氢原子或取代基，R
A2
、R
A3
、R
A4
、R
A5
及R
A6
中的相邻的2个基团可以键合而形成环。8.根据权利要求6或7所述的粘合剂组合物，其中，所述化合物为具有包含交联性基团的重复单元C、所述重复单元B及所述重复单元A的共聚物。9.根据权利要求1至8中任一项所述的粘合剂组合物，其中，所述化合物的重均分子量为10000～500000。10.一种化合物，其具有下述式(B1)或(B2)所表示的基团，
所述式(B1)及(B2)中，*表示键合位置，n表示1以上的整数，其中，多个n可以分别相同，也可以不同，m表示2以上的整数，R
b1
表示氢原子或取代基，R
b2
...

【专利技术属性】
技术研发人员：饭泉隆史，渡边壮一郎，野副宽，中川一茂，渥美匡广，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：