光触媒滤材的制造方法技术

本发明专利技术公开了一种光触媒滤材的制造方法，其首先制备一具有二氧化钛、氧化锌、二氧化锡其中之一或其混合物等光触媒材料的滤材，而后再以银（Ａｇ）、金（Ａｕ）、铂（Ｐｔ）等金属以光沉积法改质该光触媒滤材；借此使得该光触媒滤材具有良好的光触媒催化活性，能够有效地去除各种挥发性有机气体、无机性气体及各种污染性气体，其生命周期长、不容易失活，且可水洗再生使用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，尤其涉及一种利用光沉积法将金 属改质沉积在光触媒滤材上的制造方法。
技术介绍
一般空气净化应用方面，大部分是使用活性碳以及沸石等吸附性材料进行 吸附，但是传统的化学活性碳滤材及沸石的生命周期短，对于分子量较低以及 浓度较低的污染气体吸附能力较差，且吸附饱和后容易失活且容易脱落，因此 需要经常性的更换滤网，导致成本提高，而该类吸附有污染物的滤网同时也是 有害废弃物，必须特别处理，否则会造成环境污染。为解决传统采用活性碳及沸石材料净化所存在的缺失，因此有光触媒滤材的产生，例如美国专利技术专利早期公开20030050196号,该案在多孔性材料上先 担载光触媒材料，再将金属含浸改质，此光触媒滤材二氧化钛容易脱落，且不 容易再生。再如日本专利技术专利特开2000-107270号,该案利用不同结构的滤材进行担载光触媒粉体，再以含浸法使金属银离子附着在光触媒粉体表面以提高性能，但是也有光触媒滤材二氧化钛容易 脱落，且不容易再生的缺点。又如日本专利技术专利特开2000-070673号，该案是将光触媒粉体使 用银及铜金属以含浸法进行改质后，再制成滤材，经过金属改质后的光触媒粉 体能利用银离子大幅提高抗菌效能，但同样具有光触媒粉体容易脱落，且不容 易再生的缺点。另如日本专利技术专利特开平11-276910号，该案是将光触媒材料担载在压克力(Acrylic)或耐龙(Nylon)等不同材料滤网上，并且用过度金属进行改质以提高活性，惟，该案仅提出可以 金属改质的构想，并未提出如何进行金属改质的具体方法，此外，其同样具有 光触媒滤材二氧化钛容易脱落，且不容易再生的缺点。据此可知，以金属对光触媒滤材进行改质的概念虽属现有技术，然就上述 现有技术的专利而言，其金属改质大多采用含浸法，普遍存在光触媒粉体容易 脱落，且滤材不容易再生的缺点；必须强调的是，于现有技术专利中，尚未见 利用光沉积法将金属沉积改质在光触媒滤材上的制造方法。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提出一种，该光 触媒滤材具有良好的光触媒固定效果，具有高效能，能够有效地去除各种挥发 性有机气体(Volatile Organic Compounds, VOCs)、无机性气体及各种污染性 气体，其生命周期长、不容易失活，且可水洗再生使用。为实现上述目的，本专利技术提出一种，其首先备置 一具有二氧化钛、氧化锌、二氧化锡其中之一或其混合物等光触媒材料的滤材， 而后再以银(Ag)、金(Au)、铂(Pt)等金属以光沉积法将金属改质沉积在该光触 媒滤材上。本专利技术提供的一种，其包含 制备一光触媒滤材；利用光沉积法将金属改质沉积在该光触媒滤材上。详细的来说，制备该光触媒滤材的方法，首先提供一滤材，该滤材可采用 不织布或是陶瓷等材料；该滤材涂布或含浸光触媒材料制成；在本专利技术中，该滤材为可以任一比例的氧化铝与碳化硅掺混制成的多孔陶 瓷滤材，其孔隙度范围约介于5 50ppi之间；该滤材以含浸光触媒溶胶制成， 至于含浸的光触媒溶胶材料可采用二氧化钛、氧化锌、二氧化锡其中之一或其 混合物，其光触媒粒径约介于5nm lum之间，光触媒含量约介于0. 01wt% 50wt9d之间。利用光沉积法将金属改质沉积在该光触媒滤材上，首先需配置金属盐类水 溶液；可采用银(Ag)、金(An)、铂(Pt)、钯(Pd)、铜(Cu)、镍(Ni)、钴(Co)、 铁(Fe)、钌(Ru)、铌(Nb)、铱(Ir)、钒(V)等金属材料；再将光触媒滤材含浸5于金属盐类水溶液进行光沉积反应；浸于金属盐类水溶液的光触媒滤材所含的 光触媒经由紫外光照射后会产生活性电子；该活性电子会使该金属盐类水溶液 中所含的金属离子产生还原反应，并沉积于该光触媒滤材表面，其后再将光触 媒滤材重复水洗及离心，最后干燥以得到改质后的光触媒滤材。要强调的是，本专利技术提供的一种，可为任一现有技 术或市售担载有光触媒的滤材，利用光沉积法将金属改质沉积在该光触媒滤材 上综上所述，本专利技术所提出的，该光触媒滤材具有良 好的光触媒固定效果，具有高效能，能够有效地去除各种挥发性有机气体 (Volatile Organic Compounds, V0Cs)、无机性气体及各种污染性气体，其生 命周期长、不容易失活，且可水洗再生使用，确实可改善传统光触媒滤材所存 在的光触媒吸附量少、容易脱落，且不易再生等缺失。以下结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述，但不作为对本专利技术的 限定。附图说明图1为本专利技术的制造流程图2为本专利技术置备光触媒滤材的制造流程图3为本专利技术利用光沉积法将金属改质沉积在该光触媒滤材上的制造流 程图4为未经金属沉积改质的光触媒滤材对硫化氢浓度去除效果的测试曲 线图。图5为利用本专利技术经金属沉积改质的光触媒滤材对硫化氢浓度去除效果 的测试曲线图6为未经金属沉积改质的光触媒滤材，与不同金属改质的光触媒滤材的 光催化活性；图7为显示本专利技术新品以及经由水洗再生后对于氮氧化物(NOx)去除效果的比较图。其中，附图标记100-1 io-制备光触媒滤材的制造步骤及流程111、 112、 113、 114-制备光触媒滤材的制造步骤 120-利用光沉积法将金属改质沉积在光触媒滤材上的制造步骤及流程 121、 122、 123、 124-利用光沉积法将金属改质沉积在光触媒滤材上的制 造步骤具体实施例方式以下将参照随附的附图来描述本专利技术为达成目的所使用的技术手段与功 效，而以下附图所列举的实施例仅为辅助说明，以利贵审查委员了解，但本案 的技术手段并不限于所列举附图。请参阅图l所示，本专利技术提供的一种100，其包含两主要步骤步骤110:制备一光触媒滤材；步骤120:利用光沉积法将金属改质沉积在该光触媒滤材上。 关于步骤110制备该光触媒滤材的方法，首先提供一滤材，该滤材可采用 不织布或是陶瓷等材料；该滤材系涂布或含浸光触媒材料制成光触媒滤材；在 此仅针对含浸光触媒溶胶的工艺说明该光触媒滤材的备置程序，请参阅图2 所示，其包含步骤lll:提供一滤材，该滤材可采用不织布或是陶瓷等材料；在本实施 例中，该滤材系为一多孔陶瓷材料，该多孔陶瓷滤材为任一比例的氧化铝与碳 化硅掺混制成，其孔隙度范围约介于5 50ppi之间；步骤112:将滤材含浸于光触媒溶胶中；该滤材可为氧化铝与碳化硅掺混 制成的多孔陶瓷滤材，其孔隙度范围约介于5 50ppi之间；至于含浸的光触 媒溶胶材料可采用二氧化钛、氧化锌、二氧化锡其中之一或其混合物，其光触 媒粒径约介于5nm lum之间，光触媒含量约介于0. 01wt。/c) 50wt。/()之间；该滤材尺寸、光触媒溶胶量及含浸时间依实际所需而设计，在本实施例中，所使用 的光触媒溶胶为本专利技术人提出的中国台湾专利证号1230690与1280893中所述的方法制备而得，例如，可采用尺寸约为30*30*2 cm3的陶瓷滤材含浸于约二十千克的该光触媒溶胶中约五分钟；使该光触媒溶胶均匀填充该陶瓷滤材孔步骤113:将含浸有该光触媒溶胶的该滤材向上拉伸，使其脱离液面后静 置；至于该滤材向上拉伸的速度及静置时间依实际所需而设计，在本实施例中， 上述尺寸约为30*30*2 ，3的陶瓷滤材含浸于约二十千克的光触媒溶胶中约五 分钟后，可该将含浸有光触媒溶胶的陶瓷滤材以每分钟约1 20厘本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光触媒滤材的制造方法，其特征在于，包含：　提供一光触媒滤材；　利用光沉积法将金属改质沉积在该光触媒滤材上；其步骤包含：　配置金属盐类水溶液；　将该光触媒滤材含浸于金属盐类水溶液进行光沉积反应；　将该已沉积完 成的光触媒滤材重复水洗及离心；　干燥。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：曾尧宣，黄嘉宏，郭建生，黄珧玲，刘淑铃，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]