一种共挤模头装置及其生产的复合光学板制造方法及图纸

技术编号:37622697 阅读:12 留言:0更新日期:2023-05-18 12:14
本发明专利技术公开了一种共挤模头装置,包括上模和下模,上模和下模相对设置,上模和下模的前端形成成型通道,上模与下模之间设有上内模和下内模,上内模靠近下内模一侧若干个凹槽,下内模靠近上内模一侧若干个凸条,上内模和下内模之间形成第一流道,下内模与下模之间形成第二流道,第二流道位于第一流道下方,上内模与下内模之间形成第三流道,第三流道位于第一流道上方,第一流道、第二流道及第三流道汇合共挤进入成型通道。本发明专利技术提供了一种共挤模头装置,通过对共挤模头结构的改进,从而在多层板材共挤过程中,形成内层的表面具有结构的多层板,使制作工艺更加简单便捷,并且避免了粘合层对光线所造成的干扰。本发明专利技术还提供了一种复合光学板。合光学板。合光学板。

【技术实现步骤摘要】
一种共挤模头装置及其生产的复合光学板


[0001]本专利技术涉及复合光学板生产
,尤其涉及一种共挤模头装置及其生产的复合光学板。

技术介绍

[0002]现有的背光模组中,需要将背光源与对应的光学组件进行配合,才能更好地对画面进行显示,其中光学板作为现有的光学组件中,能够对光线具有较好调整的主要部件之一。
[0003]现有的光学板随着人们对画面的要求越来越高,也对应地进行改进和发展,例如光学扩散板,而现有的光学扩散板为了满足更多不同需求的扩散效果,将不同折射率的材质通过共挤的方式,从而形成多层结构的复合光学扩散板,从而是光线在进入不同折射层时,能够产生不一样的折射效果,并且跟进一步的,在挤出之后,再通过压印的方式,在复合扩散板的上下表面压印出光学结构,从而起到更好地产生不同的光学效果。
[0004]但是受限于共挤的制作方式,在复合扩散板的制作过程中,无法对中扩散层的上表面和下表面设置对应的光学结构,造成了中扩散层的扩散效果仅依靠材料本身,虽然现有有复合扩散板能够在中间层设置微结构,例如现有的专利公开号为CN113031136A,申请日为2021年4月22日,说明书中公开了一种新型复合扩散板,包括:复合膜片、双面胶层和扩散板层,其特征在于:所述复合膜片由扩散膜层和增亮膜片层粘合组成,所述双面胶层由第一外表面胶层、PET层和第二外表面胶层粘合组成,所述扩散板层靠近双面胶层设有微结构层或者所述复合膜片靠近双面胶层设有微结构层,扩散板层靠近双面胶层设有微结构层,复合膜片层与第一外表面胶层粘合,第二外表面胶层与微结构层粘合。从而可知,在扩散板层靠近双面胶层设有微结构层,而双面胶层的第二外表面胶层与微结构层粘合,即而扩散板通过粘合的方式与双面胶层进行固定连接。
[0005]虽然可以通过粘合的方式形成中间具有微结构的复合扩散板,但是中间的胶层会对光线的折射造成干扰,并且加工的方式也更加复杂。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种共挤模头装置,通过对共挤模头结构的改进,从而在多层板材共挤过程中,形成内层的表面具有结构的多层板,使制作工艺更加简单便捷,并且避免了粘合层对光线所造成的干扰。
[0007]本专利技术公开的一种共挤模头装置及其生产的复合光学板所采用的技术方案是:
[0008]一种共挤模头装置,包括上模和下模,所述上模和下模相对设置,所述上模和下模的前端形成成型通道,所述上模与下模之间设有上内模和下内模,所述上内模和下内模相对设置,所述上内模靠近下内模一侧若干个凹槽,所述凹槽沿上内模的宽度排列设置,所述下内模靠近上内模一侧若干个凸条,所述凸条沿下内模的宽度排列设置,所述上内模和下内模之间形成第一流道,所述下内模与下模之间形成第二流道,所述第二流道位于第一流
道下方,所述上内模与下内模之间形成第三流道,所述第三流道位于第一流道上方,所述第一流道、第二流道及第三流道汇合共挤进入成型通道。
[0009]作为优选方案所述凸条的截面形状为半圆形或三角形,所述凹槽的截面形状为半圆形或三角形。
[0010]作为优选方案所述上内模和下内模相互靠近一侧设有T字型结构的第一流槽,且所述第一流槽分别与凹槽和凸条接壤,所述上内模和下内模通过第一流槽形成第一流道。
[0011]作为优选方案所述上内模和下内模靠近成型通道一端的表面为斜面结构,所述上模和下模分别沿上内模和下内模的表面进行设置,所述上模和下模相互靠近一侧均设有T字型结构的第二流槽,且所述第二流槽也对应沿上内模和下内模的表面设置,且所述上模和下模所对应的数量至少为一个。
[0012]一种复合扩散板,包括入光层、结构层及出光层,所述入光层、结构层及出光层依次从下至上叠加设置,且所述入光层、结构层及出光层由上述的共挤模头装置共挤制成,所述结构层的上表面设有第一光学结构,所述出光层靠近结构层一侧与第一光学结构相适配贴合,所述结构层的下表面设有第二光学结构,所述入光层靠近结构层一侧与第二光学结构相适配贴合。
[0013]作为优选方案所述入光层、结构层及出光层所采用的材料对应的折射率依次从高到低。
[0014]作为优选方案所述第一光学结构为若干个凸起面连续形成,所述第二光学结构为若干个凹陷面连续形成。
[0015]作为优选方案所述凸起面为半圆形或三角形,所述凹陷面为半圆形或三角形。
[0016]作为优选方案所述凸起面的宽度为0.2mm

1.2mm,所述凹陷面的宽度为0.2mm

1.2mm。
[0017]作为优选方案所述入光层为具有光线扩散效果的扩散层,且所述扩散层为量子点扩散层或发泡扩散层。
[0018]本专利技术公开的一种共挤模头装置的有益效果是:将上述的模头装置与现有的多层共挤机组进行固定连接,在多层共挤机组内加入对应的远离,并且将对应的出料管道与第三流道、第一流道及第二流道进行连通。从而在挤出过程中,通过上内模和下内模之间的第一流道、下内模与下模之间的第二流道、上内模与上模之间的第三流道,对应形成不同的流层,并且由于上内模靠近下内模一侧若干个凹槽,凹槽沿上内模的宽度排列设置,下内模靠近上内模一侧若干个凸条,凸条沿下内模的宽度排列设置,从而第一流道所挤出的流层,在其上表面和下表面形成对应的结构,并且第一流道、第二流道及第三流道均汇集到成型通道中,从而形成三层叠加设置的复合流层。通过上述结构,可通过以共挤的方式,直接挤出多层结构的复合光学板,并且在所形成的复合光学板中其内层具有表面结构。
附图说明
[0019]图1是本专利技术一种共挤模头装置的结构示意图。
[0020]图2是本专利技术一种共挤模头装置的剖视图。
[0021]图3是图1中的A处放大图。
[0022]图4是本专利技术一种共挤模头装置的爆炸图。
[0023]图5是本专利技术一种复合扩散板的结构示意图。
[0024]图6是本专利技术一种复合扩散板的实施例1结构示意图。
[0025]图7是本专利技术一种复合扩散板的实施例1投影图。
[0026]图8是本专利技术一种复合扩散板的实施例2结构示意图。
[0027]图9是本专利技术一种复合扩散板的实施例2投影图。
[0028]图10是本专利技术一种复合扩散板的实施例3结构示意图。
[0029]图11是本专利技术一种复合扩散板的实施例3投影图。
具体实施方式
[0030]下面结合具体实施例和说明书附图对本专利技术做进一步阐述和说明:
[0031]请参考图1、图2、图3及图4,一种共挤模头装置,包括上模10和下模20,所述上模10和下模20相对设置,所述上模10和下模20的前端形成成型通道30,所述上模10与下模20之间设有上内模11和下内模21,所述上内模11和下内模21相对设置,所述上内模11靠近下内模21一侧若干个凹槽111,所述凹槽111沿上内模11的宽度排列设置,所述下内模21靠近上内模11一侧若干个凸条211,所述凸条211沿下内模21的宽度排列设置,所述上内模1本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种共挤模头装置,其特征在于,包括上模和下模,所述上模和下模相对设置,所述上模和下模的前端形成成型通道,所述上模与下模之间设有上内模和下内模,所述上内模和下内模相对设置,所述上内模靠近下内模一侧若干个凹槽,所述凹槽沿上内模的宽度排列设置,所述下内模靠近上内模一侧若干个凸条,所述凸条沿下内模的宽度排列设置,所述上内模和下内模之间形成第一流道,所述下内模与下模之间形成第二流道,所述第二流道位于第一流道下方,所述上内模与下内模之间形成第三流道,所述第三流道位于第一流道上方,所述第一流道、第二流道及第三流道汇合共挤进入成型通道。2.如权利要求1所述的一种模头装置,其特征在于,所述凸条的截面形状为半圆形或三角形,所述凹槽的截面形状为半圆形或三角形。3.如权利要求1所述的一种模头装置,其特征在于,所述上内模和下内模相互靠近一侧设有T字型结构的第一流槽,且所述第一流槽分别与凹槽和凸条接壤,所述上内模和下内模通过第一流槽形成第一流道。4.如权利要求3所述的一种模头装置,其特征在于,所述上内模和下内模靠近成型通道一端的表面为斜面结构,所述上模和下模分别沿上内模和下内模的表面进行设置,所述上模和下模相互靠近一侧均设有T字型结构的第二流槽,且所述第二流槽也对应沿上内模和下内模的表面设置,且所述上模和下...

【专利技术属性】
技术研发人员:凌高德郑日新王兴礼梁满意何小磊
申请(专利权)人:广东瑞捷新材料股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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