【技术实现步骤摘要】
一种缓冲组件的制造方法、装置、存储介质及电子设备
[0001]本说明书涉及结构设计领域,尤其涉及一种缓冲组件的制造方法、装置、存储介质及电子设备。
技术介绍
[0002]随着智能机器人的发展,智能机器人应用在各个领域,如扫地机器人、智能分拣机器人等,其中的仿人机器人也从只能进行简单的行走到如今能够完成各种高难度动作。但当仿人机器人受到外部冲击时,如仿人机器人受到一个较强的外力作用,可能会造成电控元器件、通讯线路,以及驱动电机的减速系统等对脆弱零件的损坏,对结构件之间的连接螺纹的冲击或造成连接失效等问题,这就需要为仿人机器人安装缓冲部件。
[0003]基于此,本说明书提供一种缓冲组件的制造方法,降低仿人机器人受到的外部冲击,及脆弱零件损坏的可能性。
技术实现思路
[0004]本说明书提供一种缓冲组件的制造方法、装置、存储介质及电子设备,以部分的解决现有技术存在的上述问题。
[0005]本说明书采用下述技术方案:本说明书提供了一种缓冲组件的制造方法,缓冲组件包括由若干胞元构成的点阵,包括:初始化用于制造所述点阵的材料和胞元尺寸;将预设载荷、所述材料、所述胞元尺寸输入预先训练的胞元取向确定模型,以确定所述缓冲组件在所述预设载荷的条件下,由所述材料制造成所述胞元尺寸时,所需采用的胞元取向;判断由所述材料制造成所述胞元取向及所述胞元尺寸的胞元构成的缓冲组件,在所述预设载荷的条件下的等效应力场是否均匀;若是,则利用所述材料制造所述胞元尺寸及所述胞元取向的所述缓冲组件;若否,则调整所述胞元取向,直至 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种缓冲组件的制造方法,其特征在于,缓冲组件包括由若干胞元构成的点阵,所述方法包括:初始化用于制造所述点阵的材料和胞元尺寸;将预设载荷、所述材料、所述胞元尺寸输入预先训练的胞元取向确定模型,以确定所述缓冲组件在所述预设载荷的条件下,由所述材料制造成所述胞元尺寸时,所需采用的胞元取向;判断由所述材料制造成所述胞元取向及所述胞元尺寸的胞元构成的缓冲组件,在所述预设载荷的条件下的等效应力场是否均匀;若是,则利用所述材料制造所述胞元尺寸及所述胞元取向的所述缓冲组件;若否,则调整所述胞元取向,直至所述等效应力场均匀。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,判断由所述材料制造成所述胞元取向及所述胞元尺寸的胞元构成的缓冲组件,在所述预设载荷的条件下的等效应力场是否均匀,具体包括:确定由所述材料制造成所述胞元取向及所述胞元尺寸的胞元构成的缓冲组件在所述预设载荷的条件下的等效应力场;确定所述等效应力场的最大应力和最小应力;确定最大应力与最小应力的差值;判断所述差值是否小于预设的第一阈值;若是,则所述等效应力场均匀;若否,则所述等效应力场不均匀。3.权利要求2所述的方法,其特征在于,确定所述等效应力场的最大应力和最小应力,具体包括:确定所述等效应力场中各应力点以及各应力点的应力;根据各应力点的应力,从各应力点中剔除异常应力点;从剔除异常应力点后的各应力点的应力中,确定所述等效应力场的最大应力和最小应力。4.如权利要求2所述的方法,其特征在于,确定所述等效应力场的最大应力和最小应力,具体包括:从所述等效应力场中确定预设数量的最大应力和预设数量的最小应力;确定最大应力与最小应力的差值,具体包括:确定所述预设数量的最大应力的第一平均值及所述预设数量的最小应力的第二平均值,以确定所述第一平均值与所述第二平均值的平均值差值;判断所述差值是否小于预设的第一阈值,具体包括:判断所述平均值差值是否小于预设的第一阈值。5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,调整所述胞元取向之前,所述方法还包括:确定当前调整所述胞元取向的次数未达到预设的第二阈值。6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:当迭代次数达到阈值时,调整所述点阵的结构信息,所述结构信息包括制造所述点阵的材料和胞元尺寸;
根据所述预设载荷和调整后的结构信息重新确定胞元取向;重新判断根据调整后的结构信息及重新确定的胞元取向制造的缓冲组件,在所述预设载荷的条件下的等效应力场是否均匀。7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,训练所述胞元取向确定模型,具体包括:初始化用于制造样本点阵的材料和胞元尺寸;获取所述材料和所述胞元尺寸的标签胞元取向;将预设载荷、所述材料、所述胞元尺寸输入胞元取向确定模型,以确定所述胞元取向确定模型输出的胞元取向,作为输出胞元取向;根据所述标签胞元取向及所述输出胞元取向,对所述胞元取向确定模型进行训练。8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述缓冲组件应用于仿人机器人脚部;所述预设载荷为所述仿人机器人不同步态时的载荷。9.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述胞元包括由若干所述材料的杆围成的多边形,所述胞元的杆径与边长的比为1/5~1/3。10.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述缓冲组件还包括连续层,所述连续层设置于所述点阵的上表面及下表面,且所述连续层的厚度大于预...
【专利技术属性】
技术研发人员:张宇,谢安桓,朱世强,顾建军,聂大明,孔令雨,
申请(专利权)人:之江实验室,
类型:发明
国别省市:
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