【技术实现步骤摘要】
一种真空感应快淬炉的控制方法及真空感应快淬炉
[0001]本专利技术涉及真空感应熔炼炉
,具体而言涉及一种真空感应快淬炉的控制方法及真空感应快淬炉。
技术介绍
[0002]现有的真空感应快淬炉的控制方法,在大功率熔化与喷射生产过程中,熔炼室与收料室内部充入氩气,这样腔室内部的气体分子与合金料挥发物易对快淬喷带制品物料造成污染,降低制品的质量,并且影响微观组织的一致性。
技术实现思路
[0003]在
技术实现思路
部分中引入了一系列简化形式的概念,这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本专利技术的
技术实现思路
部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征,更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。
[0004]第一方面,本专利技术实施例提供了一种真空感应快淬炉的控制方法,包括:
[0005]对熔炼室及收料室进行排气,以使所述熔炼室及所述收料室的气压小于或等于预设气压,并且熔炼室内的熔炼坩埚及保温坩埚小于或等于第一预设压升率;
[0006]继续对所述熔炼室及所述收料室进行排气,并且调节所述熔炼坩埚及所述保温坩埚的功率,对所述熔炼坩埚内的物料及所述保温坩埚的物料进行加热;
[0007]停止对所述熔炼室及所述收料室排气,并且所述熔炼坩埚及所述保温坩埚的功率维持不变;
[0008]对所述熔炼室进行洗炉操作,以使所述熔炼室的压升率小于第二预设压升率;
[0009]对所述熔炼室及所述收料室进行抽真空;
[0010]调节所述熔 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空感应快淬炉的控制方法,其特征在于,包括:对熔炼室及收料室进行排气,以使所述熔炼室及所述收料室的气压小于或等于预设气压,并且熔炼室内的熔炼坩埚及保温坩埚小于或等于第一预设压升率;继续对所述熔炼室及所述收料室进行排气,并且调节所述熔炼坩埚及所述保温坩埚的功率,对所述熔炼坩埚内的物料及所述保温坩埚的物料进行加热;停止对所述熔炼室及所述收料室排气,并且所述熔炼坩埚及所述保温坩埚的功率维持不变;对所述熔炼室进行洗炉操作,以使所述熔炼室的压升率小于第二预设压升率;对所述熔炼室及所述收料室进行抽真空;调节所述熔炼坩埚及所述保温坩埚的功率,以对所述熔炼坩埚内的物料及保温坩埚内的物料进行加热;在所述熔炼坩埚内的物料及保温坩埚内的物料达到预设条件时,调节喷咀线圈的功率,以准备喷带;对所述熔炼室及所述收料室边充入氩气边排气;调节所述熔炼坩埚及所述保温坩埚的功率,以使所述熔炼坩埚内的物料融化,所述保温坩埚内的物料不融化;将所述熔炼坩埚内的部分物料倒入到所述保温坩埚内;将所述加料室排气至真空后,充入氩气,并打开所述加料室与所述熔炼室之间的第二闸阀,使加料室与熔炼室连通;将母合金定子加入所述熔炼坩埚内;对所述保温坩埚内的物料进行加热,使所述保温坩埚内的物料融化并维持在预设温度范围内;开启震动冷却板及破碎机,并调整冷却辊的转数,利用喷咀线圈进行喷射;喷射所产生的喷带经震动冷却板传送到破碎机破碎后,将所得的粉末输送至回收桶内。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对熔炼室及收料室进行排气,以使所述熔炼室及所述收料室的气压小于或等于预设气压,并且熔炼室内的熔炼坩埚及保温坩埚小于或等于第一预设压升率包括:将所述震动冷却室与所述收料室之间的第一闸阀打开,使所述熔炼室、震动冷却室与所述收料室形成一个腔体;对所述腔体进行抽空排气操作;在所述腔体的气压小于0.1Pa时,关闭排气阀并且对所述熔炼坩埚及所述保温坩埚的压升率进行测试,直至所述熔炼坩埚及所述保温坩埚的压升率小于或等于2Pa/5min。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述继续对所述熔炼室及所述收料室进行排气,并且调节所述熔炼坩埚及所述保温坩埚的功率,对所述熔炼坩埚内的物料及所述保温坩埚的物料进行加热包括:继续对所述熔炼室及所述收料室进行排气;在排气的过程中将所述熔炼坩埚的功率设置为第一预设功率,所述保温坩埚的功率设置为第二预设功率,并维持第一预设时长;
在第一预设时长后,将所述熔炼坩埚的功率上升至第三预设功率,以及将所述保温坩埚的功率上升至第四预设功率,并维持第二预设时长;在第二预设时长后,将所述熔炼坩埚的上升至第五预设功率,所述保温坩埚的功率不变;控制所述熔炼坩埚内的物料以及所述保温坩埚内的物料的实时温度,以使所述实时温度小于或等于第一预设温度。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第一预设功率为15kW,所述第二预设功率为10kW,所述第三预设功率为17kW,所述第四预设功率为12kW,所述第五预设功率为25kW,所述第一预设温度为1000℃,所述第一预设时长为4.2小时,所述第二预设时长为5.3小时。5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对所述熔炼室及所述收料室进行洗炉操作,以使所述熔炼室及所述收料室的压升率小于第二预设压...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐福兴,刘顺钢,王吉刚,富海军,王玉鹏,王鹏,
申请(专利权)人:沈阳广泰真空科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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