提供图案转印(PTP)系统和方法及双通道生产线，以提高图案转印的质量，准确性和产能。PTP系统包括：带处理单元，配置为处理带并且将带以步进且重复模式从放料辊移动到收料辊，带包括作为其分段的多个图案转印片，其具有各自的沟槽图案，带处理单元配置为可控制地传送图案转印片以便进行浆料填充并相继地进行图案转印；浆料填充单元，配置为将导电印刷浆料填充到传送的图案转印片上的沟槽；晶片处理单元，配置成将至少一个晶片可控制地传送至靠近图案转印片的位置处以便图案转印；以及浆料转印单元，配置为通过在激光束的照射下从填充有导电印刷浆料的图案转印片的沟槽中释放该导电印刷浆料而将该导电印刷浆料从图案转印片转印至传送到位的晶片上。转印至传送到位的晶片上。转印至传送到位的晶片上。
【技术实现步骤摘要】
图案转印系统、双通道生产线及图案转印方法
[0001]本专利技术涉及图案转移印刷(图案转印)
，更具体地，涉及光伏电池制造领域。
技术介绍
[0002]美国专利申请公开No.2017/013724通过引用整体并入本文，其公开了一种用于产生在转移印刷过程中使用的转印图案的装置。基板上设置图案，该基板可以是网状基板并且具有一个或多个沟槽。使待转移的填充物，例如高粘度金属浆料，填充网状基板的沟槽。在将填充物填充基板的沟槽完成之后，可以包括刮刀和刮板的填充头，在同步运动中在工作区平移，并使得在平移运动中，填充头保持与基板完全接触。
[0003]Lossen et al.(2015)，用于c
‑
Si太阳能电池金属化的图案转移印刷(PTP
TM
)，第五届晶体硅太阳能电池的金属化研讨会，(Lossen et al.(2015),Pattern Transfer Printing(PTP
TM
)for c
‑
Si solar cell metallization,5
th Workshop on Metallization for Crystalline Silicon Solar Cells,Energy Procedia 67:156
‑
162)，其全部内容通过引用并入本文，其公开了图案转移印刷(PTP
TM
)作为c
‑
Si PV太阳能电池的先进前侧金属化的非接触式印刷技术，此基于聚合物基板的激光诱导沉积。
[0004]需要提高现有PTP系统的精度、效率和产能。
技术实现思路
[0005]以下是提供对本专利技术的初步了解的简要概述。概要说明并不一定认为是关键要素，也不限制本专利技术的范围，而只是作为下述说明书内容的初步介绍。
[0006]本专利技术的一个方面提供了一种图案转印(PTP)系统，包括：带处理单元，其配置为处理包括作为分段的多个图案转印片的带，图案转印片具有各自的沟槽图案，并带处理单元配置为可控制地传送所述图案转印片以便进行浆料填充并相继地进行图案转印；浆料填充单元，配置为将导电印刷浆料填充到所述传输到位的所述图案转印片上的沟槽；晶片处理单元，被配置为将至少一个晶片可控制地传送至靠近所述图案转印片的位置处以便图案转印；种浆料转印单元，其配置为通过在激光束照射下从填充有所述导电印刷浆料的图案转印片的沟槽中释放该导电印刷浆料而将该导电印刷浆料从所述图案转印片转印至传送到位的晶片上；其中，带处理单元配置为将所述带以步进且重复的模式从放料辊移动到收料辊。可选的，在转印后的传送过程中，对带进行清洁和干燥处理。
[0007]本专利技术的另一方面提供了一种图案转印(PTP)系统，该系统包括晶片处理系统，其中并行工作的两个x、z平台中的每一个都包括用于保持晶片的两个卡盘，每个卡盘确保晶片在y、θ轴可移动，从而在图案转印过程中实现更快的晶片处理和连续的晶片传送。多个相机对传送的晶片进行拍照，可以在转印系统内实现更准确的晶片对位，从而更准确地将印刷的栅线对齐到晶片图案上。
[0008]所公开的PTP系统经过优化，在图案转印过程中，通过连续提供晶片和/或使用双
卡盘晶片平台提高设备的效率和产能。此外，通过多个相机对准晶片提高对准精度，通过在转印位置的多个相机更准确地对准转印片，并将浆料填充单元定位在接近竖向的位置，从而减少浆料填充和图案转印之间的时间。
[0009]本专利技术的上述方面，包括附加的和/或其他方面和/或优点在下文的说明中进行阐述；从下文的说明中可以推断的，和/或可通过本专利技术的示例性实施例习得的，均在本专利技术的保护范围内。
附图说明
[0010]为了更好地理解本专利技术的实施方式，并且为了说明如何可以将其实施，现在纯粹通过示例将参照附图，在各附图中，相应的元素或部分均以相同的附图标记来表示。
[0011]在附图中：
[0012]图1A是根据本专利技术的一些实施例的图案转印(PTP)系统的高级示意图。
[0013]图1B和图1C是根据本专利技术的一些实施例的双通道生产线中PTP系统的维护选项和布局的高级示意图。
[0014]图2A和图2B分别是根据本专利技术的一些实施例的PTP系统的单元和元件的高级侧视示意图和正视示意图。
[0015]图3A是根据本专利技术的一些实施例的带处理单元的高级侧视示意图。
[0016]图3B至图3E是根据本专利技术的一些实施例的含有图案转印片的带和图案转印阶段的高级示意图。
[0017]图4是根据本专利技术的一些实施例的带重复利用单元的高级示意图。
[0018]图5A和图5B是根据本专利技术的一些实施例的浆料填充单元的高级示意图。
[0019]图5C至图5E是根据本专利技术的一些实施例的打印头的高级示意图。
[0020]图6A至图6C是根据本专利技术的一些实施例的晶片处理单元及其操作的高级示意图。
[0021]图6D和图6E是根据本专利技术的一些实施例的晶片测量单元的高级示意图。
[0022]图7A至图7C是根据本专利技术的一些实施例的带拉伸单元和沟槽对准监测单元的高级示意图。
[0023]图8是根据本专利技术的一些实施例的打印质量控制单元的高级示意图。
[0024]图9A是说明根据本专利技术的一些实施例的PTP方法的高级流程图。
[0025]图9B是说明根据本专利技术的一些实施例的图案转移印刷(PTP)方法中的并行处理过程的高级流程图。
[0026]图10是示例计算装置的高级框图，示例计算装置可与本专利技术的实施例一起使用。
[0027]将理解的是，为了简单明确的描述，图中所示的元件不一定是按比例绘制的。例如，为了清晰起见，某些元件相对于其他元件的尺寸可能会被放大。此外，适当的情况下，附图中可以重复采用相同的附图标记，以表示相应或类似的元件。
具体实施方式
[0028]以下描述了本专利技术的各个方面。为了解释清楚，阐述了本专利技术的具体构造和细节，以便提供对本专利技术的透彻理解。然而，对于本领域的技术人员来说，本专利技术可以在没有本文所述的具体细节的情况下进行实践，这也是显而易见的。此外，为了不掩盖本专利技术，可能省
略或简化了众所周知的特征。在具体参考附图时，强调所示的细节仅作为示例，并仅用于对本专利技术的说明性描述，并基于提供被认为最便于和有效理解有关于本专利技术的原则和概念方面的描述时提出。在这方面，没有试图更详细地示出超出对本专利技术的基本理解所必需的结构细节，结合附图的描述使本领域技术人员能够清楚地知晓本专利技术的几种形式如何在实践中体现。
[0029]在详细解释本专利技术的至少一个实施例之前，需要理解的是，本专利技术的应用并不局限于下面描述中阐述的或附图中示出的构造细节和组件的布置。本专利技术适用于可以各种方式实践或实施的其他实施例以及公开的实施例的组合。此外，需要理解的是，本文使用的措辞和术语是为了说明的目的，不应被视为是限制性的。
[0030]除非另有特别本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种图案转印系统，包括：带处理单元，所述带处理单元配置为处理带，所述带包括作为其分段的多个图案转印片，所述多个图案转印片具有各自的沟槽图案，并且所述带处理单元配置为可控制地传送所述图案转印片以便进行浆料填充并相继地进行图案转印；浆料填充单元，所述浆料填充单元配置为将导电印刷浆料填充到传送的所述图案转印片上的沟槽；晶片处理单元，所述晶片处理单元配置成将至少一个晶片可控制地传送至靠近所述图案转印片的位置处以便图案转印；浆料转印单元，所述浆料转印单元配置为通过在激光束的照射下从填充有所述导电印刷浆料的图案转印片的沟槽中释放该导电印刷浆料而将该导电印刷浆料从所述图案转印片转印至传送到位的晶片上；其中，所述带处理单元配置为将所述带以步进且重复的模式从放料辊移动到收料辊。2.根据权利要求1所述的图案转印系统，其中，所述带处理单元被进一步配置为逐一的传送所述图案转印片以便进行浆料填充和/或图案转印。3.根据权利要求1或2所述的图案转印系统，其中，所述带处理单元还包括至少一个顶部调节器和至少一个底部调节器，所述顶部调节器和所述底部调节器被配置为持续地保持所述带的张力。4.根据权利要求1至3中任一项所述的图案转印系统，还包括带重复利用单元，所述带重复利用单元被配置为在所述图案转印之后清洁所述图案转印片以提供可重复利用的图案转印片。5.根据权利要求4所述的图案转印系统，其中，所述带重复利用单元包括用于去除浆料团的预清洁隔间、构造用于去除细浆料残留物的清洁隔间和用于在收料之前干燥所述带的干燥单元。6.根据权利要求5所述的图案转印系统，其中，所述带重复利用单元还包括至少一个调节器和/或辊，所述调节器和/或辊被配置为对移动通过所述带重复利用单元的带的张力进行保持。7.根据权利要求1至6中任一项所述的图案转印系统，其中，所述浆料填充单元包括可移动的浆料填充头和被配置为在浆料填充期间支撑所述图案转印片的背面的相对可移动辊。8.根据权利要求1至7中任一项所述的图案转印系统，其中，所述浆料填充单元设置为相对于竖向轴线成0
‑
30
°
范围内的角度。9.根据权利要求1至8中任一项所述的图案转印系统，其中，所述晶片处理单元包括能够沿着x轴和z轴移动的至少一个平台，所述至少一个平台中的每个平台包括至少一个保持器，其中所述至少一个保持器中的每个保持器支撑晶片并使该晶片能够沿着y轴、θ轴移动。10.根据权利要求1至9中任一项所述的图案转印系统，其中，所述浆料转印单元被配置为控制通过激光束对所述转印片上的填充有浆料的沟槽的照射。11.根据权利要求10所述的图案转印系统，其中，对填充有浆料的沟槽的所述照射在光学头的帮助下逐一地完成，所述光学头能够沿着机器方向进行激光扫描并且能够沿着横向机器方向移动。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的图案转印系统，还包括带拉伸单元，所述带拉伸单元被配置为在所述图案转印期间固定和拉平相应的图案转印片。13.根据权利要求1至12中任一项所述的图案转印系统，还包括沟槽对准监测单元，...
【专利技术属性】
技术研发人员：加德，
申请(专利权)人：武汉帝尔激光科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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