一种半开型刻痕成型模具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种半开型刻痕成型模具，上模包括上模座及设置在上模座上的刻痕上模，下模包括下模底座及设置下模底座上的下模座，下模座上设有刻痕刀模，刻痕刀模的顶面凸设有用于刻线痕成型的环形刻痕刀；所述的刻痕刀模设有内腔，内腔中设有刻痕内芯，所述半开型刻痕成型模具的上模与下模合模对易开盖进行刻痕成型时，所述刻痕上模及刻痕内芯紧贴易开盖的上下两面。本实用新型专利技术有利于半开口型易开盖的刻痕成型控制，有利于刻痕成型质量的稳定，提高产品的开启质量，降低质量风险。降低质量风险。降低质量风险。

【技术实现步骤摘要】
一种半开型刻痕成型模具


[0001]本技术涉及易开盖冲压成型技术邻域，具体为一种半开型刻痕成型模具。

技术介绍

[0002]用于金属包装的易开盖产品的易开启性能是最为关键的核心指标之一，如何制造易于开启性能稳定的易开盖是易开盖产品制造的一个重要指标。易开盖的开启性能主要是由刻痕性能来反映，所以如何设计刻痕成型模具，控制刻痕成型的过程和成型的稳定性，是研究易开盖开启性能的重要方向之一。常见的刻痕成型是采用凸模开放式冲刻的成型工艺方法，这种工艺方法用于全开口易开盖刻痕成型可以满足要求，主要是因为刻痕开口区域大，工艺容忍性更广，所以简单的成型可以满足要求。但是在半开口型的刻痕成型过程中，采用凸模开放式冲刻的工艺方法容易造成刻痕区域的盖面由于材料挤压而产生弹性变形，造成盖面弹簧效应，从而引起刻痕质量不稳定等问题。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是为解决现有技术的刻痕成型过程中，采用凸模开放式冲刻的工艺方法容易造成半开口型刻痕区域的盖面由于材料挤压而产生弹性变形，造成盖面弹簧效应，从而引起刻痕质量不稳定的问题，提供一种半开型刻痕成型模具，可以有效解决盖面由于材料挤压而产生弹性变形而引起刻痕质量不稳定的问题。
[0004]本技术为解决上述技术问题所采用的技术方案是，一种半开型刻痕成型模具，包括上模及下模，所述上模包括上模座及设置在上模座上的刻痕上模，所述下模包括下模底座及设置下模底座上的下模座，所述的下模座上设有刻痕刀模，刻痕刀模的顶面凸设有用于刻线痕成型的环形刻痕刀；所述的刻痕刀模设有内腔，内腔中设有刻痕内芯，所述半开型刻痕成型模具的上模与下模合模对易开盖进行刻痕成型时，所述刻痕上模及刻痕内芯紧贴易开盖的上下两面。上模座是上模的安装基础，用于安装上模部件，并将上模部分整体安装连接到组合成型级进模的上模板上。下模底座是下模的安装基础，用于支撑下模，并将下模部分安装连接到整套组合成型级进模的下模板上。刻痕刀模是刻痕刀的基础部分，与顶面凸起的刻痕刀一起主要用于完成刻痕成型。刻痕内芯的作用是用于限位易开盖上的刻痕舌片（即开启区），在刻痕成型过程中，由于刻痕舌片会受到挤压力的作用而产生变形，所以本技术通过刻痕内芯及刻痕上模从上下两面压住刻痕舌片，这样就可以避免刻痕舌片发生变形，保证了刻痕成型质量的稳定，既有利于提高刻痕成型质量，同时也有利于控制整个易开盖盖面的变形，有效解决盖面由于材料挤压而产生弹性变形而引起半开型易开盖刻痕质量不稳定的问题。
[0005]作为优选，下模座与刻痕刀模之间设有刀模调整垫片，刻痕内芯与刻痕刀模之间设有内芯调整垫片。刀模调整垫片用于调整刻痕刀模的高度，内芯调整垫片主要用于调整刻痕内芯与刻痕刀尖的相对高度，以满足刻痕成型的要求。
[0006]作为优选，刻痕上模的底面为平面结构，刻痕上模与上模座之间设有上模中间板。
刻痕上模的底面为平面结构作为刻痕成型时易开盖是基准面。
[0007]作为优选，下模座及刻痕上模的横截面均为圆柱形，所述刻痕刀模的横截面为椭圆形，位于下模座的一侧，所述的环形刻痕刀为与刻痕刀模的横截面适配的椭圆形。本技术为半开口型刻痕，半开口型刻痕为椭圆形，环形刻痕刀所围合的面积为通常全开型刻痕的一半左右。
[0008]作为优选，刻痕内芯通过螺钉固定在刻痕刀模上，刻痕内芯的顶面设有避让孔，所述刻痕刀模通过定位销及螺钉固定在下模座上。避让孔用于避让易开盖上凸起的拉环铆钉。定位销及螺钉分别用于固定刻痕内芯及刻痕刀模。
[0009]作为优选，刻痕内芯的顶面高度低于所述环形刻痕刀的刀尖高度，刻痕内芯的顶面高度高于刻痕刀模的顶面高度，刻痕内芯的顶面与环形刻痕刀刀尖的高度差大于等于易开盖的刻痕深度。
[0010]作为优选，环形刻痕刀所围合的面积为18平方厘米至28平方厘米。
[0011]本技术的有益效果是，它有效地解决了现有技术的刻痕成型过程中，采用凸模开放式冲刻的工艺方法容易造成半开口型刻痕区域的盖面由于材料挤压而产生弹性变形，造成盖面弹簧效应，从而引起刻痕质量不稳定的问题，本技术有利于半开口型易开盖的刻痕成型控制，有利于刻痕成型质量的稳定，提高产品的开启质量，降低质量风险。
附图说明
[0012]图1是本技术半开型刻痕成型模具的一种立体结构示意图；
[0013]图2是本技术半开型刻痕成型模具的一种结构剖视图；
[0014]图3是本技术半开型刻痕成型模具合模状态的一种剖视图；
[0015]图4是图2中A处的局部放大图。
[0016]图中： 1. 下模底座，2.下模座，3.上模座，4.刻痕上模，5.刻痕刀模，6.环形刻痕刀，7.刻痕内芯，8.刀模调整垫片，9.内芯调整垫片，10.上模中间板，11.螺钉，12.避让孔，13.定位销，14.易开盖。
具体实施方式
[0017]下面通过实施例，并结合附图对本技术技术方案的具体实施方式作进一步的说明。
[0018]实施例1
[0019]在图1图2所示的实施例1中，一种半开型刻痕成型模具，包括上模及下模，下模包括下模底座1及设置下模底座上的下模座2，下模底座是下模的安装基础，用于支撑下模，并将下模部分安装连接到整套组合成型级进模的下模板上。所述上模包括上模座3及设置在上模座上的刻痕上模4，刻痕上模的底面为平面结构，刻痕上模与上模座之间设有上模中间板10。上模座是上模的安装基础，用于安装上模部件，并将上模部分整体安装连接到组合成型级进模的上模板上；刻痕上模的底面为平面结构作为刻痕成型时易开盖是基准面。所述的下模座上设有刻痕刀模5，刻痕刀模的顶面凸设有用于刻线痕成型的环形刻痕刀6，刻痕刀模是刻痕刀的基础部分，与顶面凸起的刻痕刀一起主要用于完成刻痕成型。所述的刻痕刀模设有内腔，内腔中设有刻痕内芯7，刻痕内芯的作用是用于限位易开盖上的刻痕舌片
（即开启区），在刻痕成型过程中，由于刻痕舌片会受到挤压力的作用而产生变形，所以本技术通过刻痕内芯及刻痕上模从上下两面压住刻痕舌片，这样就可以避免刻痕舌片发生变形；所述半开型刻痕成型模具的上模与下模合模对易开盖进行刻痕成型时，所述刻痕上模及刻痕内芯紧贴易开盖的上下两面，这样就保证了刻痕成型质量的稳定，既有利于提高刻痕成型质量，同时也有利于控制整个易开盖盖面的变形，有效解决盖面由于材料挤压而产生弹性变形而引起刻痕质量不稳定的问题。
[0020]下模座与刻痕刀模之间设有刀模调整垫片8，刻痕内芯与刻痕刀模之间设有内芯调整垫片9。刀模调整垫片用于调整刻痕刀模的高度，内芯调整垫片主要用于调整刻痕内芯与刻痕刀尖的相对高度，以满足刻痕成型的要求。本实施例下模座及刻痕上模的横截面均为圆柱形，刻痕刀模的横截面为椭圆形，位于下模座的一侧，环形刻痕刀为与刻痕刀模的横截面适配的椭圆形，环形刻痕刀与刻痕刀模的横截面外形相似，面积略小。
[0021]刻痕内芯通过螺钉11固定在刻痕刀模上，刻痕内芯的顶面设有避让孔12，避让孔用于避让易开盖14上凸起的拉环铆钉（见本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半开型刻痕成型模具，包括上模及下模，其特征在于，所述下模包括下模底座（1）及设置下模底座上的下模座（2），所述上模包括上模座（3）及设置在上模座上的刻痕上模（4），所述的下模座上设有刻痕刀模（5），刻痕刀模的顶面凸设有用于刻线痕成型的环形刻痕刀（6），所述的刻痕刀模设有内腔，内腔中设有刻痕内芯（7），所述半开型刻痕成型模具的上模与下模合模对易开盖进行刻痕成型时，所述刻痕上模及刻痕内芯紧贴易开盖的上下两面。2.根据权利要求1所述的半开型刻痕成型模具，其特征在于，所述的下模座与刻痕刀模之间设有刀模调整垫片（8），刻痕内芯与刻痕刀模之间设有内芯调整垫片（9）。3.根据权利要求1所述的半开型刻痕成型模具，其特征在于，所述的刻痕上模的底面为平面结构，刻痕上模与上模座之间设有上模中间板（10）。4.根据权利要求1所述的半开...

【专利技术属性】
技术研发人员：骆轶，翟银星，邱逊，郑照杰，张传雄，龚昌勤，龚伟高，宣基龙，
申请(专利权)人：义乌市易开盖实业公司，
类型：新型
国别省市：