预测校准安排装置和方法制造方法及图纸

执行一种用于安排与光源中的光学设备相关的校准的方法。该方法可以由包括校准装置和预测控制器的校准系统执行。该方法包括：在光学设备正在被校准时接收与光学设备相关联的属性；至少基于光学设备属性来计算当前退化度量，退化度量对光学设备的行为进行建模；基于当前退化度量来估计光学设备的退化何时将超过阈值；并且至少部分地基于光学设备退化的估计来安排光学设备的校准。计来安排光学设备的校准。计来安排光学设备的校准。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】预测校准安排装置和方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年8月18日提交的标题为“PREDICTIVE CALIBRATION SCHEDULING APPARATUS AND METHOD”的美国申请号63/066,888；和于2021年2月19日提交的标题为“PREDICTIVE CALIBRATION SCHEDULING APPARATUS AND METHOD”的美国申请号63/151,411的优先权，两者的全部内容通过引用并入本文。


[0003]所公开的主题涉及一种用于预测何时执行光源中的光学设备的校准的装置。

技术介绍

[0004]一种在光刻中使用的气体放电光源被称为准分子光源或激光器。通常，准分子激光器使用一种或多种稀有气体和反应性气体的组合，稀有气体可以包括氩气、氪气或氙气，反应性气体可以包括氟气或氯气。准分子激光器可以在电模拟(提供能量)和(气体混合物的)高压的适当条件下产生准分子(伪分子)，该准分子仅在激励状态下存在。激励状态下的准分子产生在紫外范围内的经放大的光。准分子光源可以使用单个气体放电腔室或多个气体放电腔室。当准分子光源执行时，准分子光源产生深紫外(DUV)光束。DUV光可以具有例如约100纳米(nm)至约400nm的波长。
[0005]可以将DUV光束引导到光刻曝光装置或扫描仪，该光刻曝光装置或扫描仪是将所需图案施加到衬底(例如硅晶片)的目标部分上的机器。DUV光束与投影光学系统相互作用，该投影光学系统通过掩模将DUV光束投影到晶片的光致抗蚀剂上。以这种方式，一层或多层芯片图案被图案化到光致抗蚀剂上，随后晶片被蚀刻和清洁。

技术实现思路

[0006]在一些总体方面，执行一种用于安排与光源中的光学设备相关的校准的方法。该方法包括：在光学设备正在被校准时接收与光学设备相关联的属性；至少基于光学设备属性来计算当前退化度量，退化度量对光学设备的行为进行建模；基于所述当前退化度量来估计光学设备的退化何时将超过阈值；并且至少部分地基于光学设备退化的估计来安排光学设备的校准。
[0007]实现方式可以包括以下特征中的一个或多个。例如，可以通过确定何时执行光学设备的校准来安排光学设备的校准。
[0008]可以基于校准属性来计算当前退化度量。
[0009]光学设备可以被配置为测量由光源产生的光束的光谱特征。光束的被测量光谱特征可以是光束的波长。
[0010]可以通过在光学设备正在被校准时接收与由光源产生的光束的光谱特征相关联的误差测量结果来接收光学设备属性。误差测量结果可以是光束的被测量光谱特征与参考光谱特征之间的差异。
[0011]可以通过估计光学设备属性相对于光学设备的使用中的变化而有多少变化来计算当前退化度量。估计光学设备属性相对于光学设备的使用中的变化而有多少变化可以包括：估计基于与光学设备属性的先前值和先前退化度量相关的数据的误差。
[0012]可以通过假设光学设备属性相对于光学设备的使用中的变化而以线性方式变化来计算当前退化度量。可以通过基于线性函数来估计光学设备属性中的误差从而计算当前退化度量，其中先前退化度量是线性函数的斜率，该线性函数包括光学设备的使用的先前值和光学设备属性误差的累积总和。可以通过估计光学设备属性中的误差来计算当前退化度量。可以通过分析光学设备属性的趋势如何来计算当前退化度量。
[0013]退化度量可以对光学设备的趋势行为进行建模。
[0014]可以通过探测光学设备属性是否相对于光学设备的使用以非线性方式变化来安排光学设备的校准。探测光学设备属性是否相对于光学设备的使用以非线性方式变化可以包括：分析当前退化度量的置信度。
[0015]估计光学设备的退化何时超过阈值可以包括：估计与光学设备相关联的光学设备属性中的误差何时将超过阈值。基于估计来安排光学设备的校准可以包括：在需要校准之前估计可接受的光学设备的附加使用量。
[0016]该方法可以包括：在安排光学设备的校准之后，在执行被安排的下一次校准时更新与光学设备相关联的光学设备属性，并且将当前退化度量指派给先前退化度量。
[0017]退化度量可以对应于光学设备属性的斜率的局部线性近似。
[0018]光学设备可以被配置为估计由光源产生的光束的能量。可以通过如下操作在光学设备正在被校准时接收光学设备属性：接收与光学设备执行从直接测量结果到间接值的转换相关联的测量标度，该直接测量与在光学设备正在被校准时由光源产生的光束相关。当光学设备属性中的漂移超过漂移阈值时，可以估计光学设备的退化超过阈值。通过基于与间接值相关联的误差阈值来计算漂移阈值，可以估计光学设备属性中的漂移超过漂移阈值。
[0019]在其他总体方面，一种校准系统包括：被配置为校准光学设备的校准装置，该光学设备被配置为测量与由光源产生的光束相关的方面；以及与校准装置通信的预测控制器。预测控制器包括：输入模块、自适应模块和输出模块。输入模块被配置为在光学设备正在被校准时从光学设备接收与光束的被测量方面相关联的被测量属性。自适应模块被配置为：从输入模块接收被测量属性；至少基于被测量属性来计算当前退化度量，该退化度量对光学设备的行为进行建模；并且基于当前退化度量来估计光学设备的退化何时将超过阈值。输出模块被配置为基于来自自适应模块的估计来安排光学设备的校准；并且指使校准装置基于安排来校准光学设备。
[0020]实现方式可以包括以下特征中的一个或多个。例如，与光学设备相关联的被测量属性可以包括对由光源产生的光束的光谱特征的测量。
[0021]校准装置可以包括具有带已知能量跃迁的光学跃迁轮廓的校准材料。光学设备可以包括光谱分析模块，其被配置为感测由光源产生的光束的光谱轮廓，并且校准装置可以被配置为使用校准材料来校准光谱分析模块。对光学设备的退化的估计可以是对光谱分析模块校准中的漂移的指示。校准装置被配置为校准光学设备可以包括：调整光谱分析模块的一个或多个操作参数。
[0022]退化度量可以对应于被测量属性的趋势的斜率的局部线性近似。
[0023]在其他总体方面，预测装置与校准装置通信，该校准装置被配置为校准光学设备，该光学设备被配置为测量与由光源产生的光束相关的方面。该预测装置包括：输入模块，其被配置为在光学设备正在被校准时从光学设备接收与光束的被测量方面相关联的被测量属性；自适应模块，其被配置为：从输入模块接收被测量属性；至少基于被测量属性来计算当前退化度量，该退化度量对光学设备的行为进行建模；并且基于当前退化度量来估计光学设备的退化何时将超过阈值；以及输出模块，其被配置为基于来自自适应模块的估计来安排光学设备的校准；并且指使校准装置基于安排来校准光学设备。
[0024]在其他总体方面，一种校准系统包括：被配置为校准光学设备的校准装置，该光学设备被配置为测量与由光源产生的光束相关的方面；以及与校准装置通信的预测控制器。预测控制器包括：输入模块，其被配置为在光学设备正在被校准时从光学设备接收与光学本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于安排与光源中的光学设备相关的校准的方法，所述方法包括：在所述光学设备正在被校准时接收与所述光学设备相关联的属性；至少基于所述光学设备属性来计算当前退化度量，所述退化度量对所述光学设备的行为进行建模；基于所述当前退化度量来估计所述光学设备的退化何时将超过阈值；以及至少部分地基于所述光学设备退化的所述估计来安排所述光学设备的校准。2.根据权利要求1所述的方法，其中基于所述估计来安排所述光学设备的所述校准包括：确定何时执行所述光学设备的校准。3.根据权利要求1所述的方法，其中计算所述当前退化度量是基于校准属性的。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述光学设备被配置为测量由所述光源产生的光束的光谱特征。5.根据权利要求4所述的方法，其中所述光束的被测量光谱特征是所述光束的波长。6.根据权利要求1所述的方法，其中在所述光学设备正在被校准时接收所述光学设备属性包括：在所述光学设备正在被校准时接收与由所述光源产生的所述光束的光谱特征相关联的误差测量结果。7.根据权利要求6所述的方法，其中所述误差测量结果是所述光束的被测量光谱特征与参考光谱特征之间的差异。8.根据权利要求1所述的方法，其中至少基于所述光学设备属性来计算所述当前退化度量包括：估计所述光学设备属性相对于所述光学设备的使用中的变化而有多少变化。9.根据权利要求8所述的方法，其中估计所述光学设备属性相对于所述光学设备的使用中的变化而有多少变化包括：估计基于与所述光学设备属性的先前值和先前退化度量相关的数据的误差。10.根据权利要求1所述的方法，其中至少基于所述光学设备属性来计算所述当前退化度量包括：假设所述光学设备属性相对于所述光学设备的使用中的变化而以线性方式变化。11.根据权利要求1所述的方法，其中基于所述光学设备属性来计算所述当前退化度量包括：基于线性函数来估计所述光学设备属性中的误差，其中先前退化度量是所述线性函数的斜率，所述线性函数包括所述光学设备的所述使用的先前值和所述光学设备属性中的所述误差的累积总和。12.根据权利要求11所述的方法，其中基于所述光学设备属性来计算所述当前退化度量包括：估计所述光学设备属性中的误差。13.根据权利要求1所述的方法，其中至少基于所述光学设备属性来计算所述当前退化度量包括：分析所述光学设备属性的趋势如何。14.根据权利要求1所述的方法，其中所述退化度量对所述光学设备的趋势行为进行建模。15.根据权利要求1所述的方法，其中基于所述估计来安排所述光学设备的所述校准包括：探测所述光学设备属性是否相对于所述光学设备的使用以非线性方式变化。16.根据权利要求15所述的方法，其中探测所述光学设备属性是否相对于所述光学设备的所述使用以非线性方式变化包括：分析所述当前退化度量的置信度。
17.根据权利要求1所述的方法，其中估计所述光学设备的所述退化何时将超过阈值包括：估计所述光学设备属性中的误差何时超过阈值。18.根据权利要求1所述的方法，其中基于所述估计来安排所述光学设备的所述校准包括：在需要所述校准之前估计可接受的所述光学设备的附加使用量。19.根据权利要求1所述的方法，还包括：在安排所述光学设备的所述校准之后，在执行被安排的下一次校准时更新所述光学设备属性，并且将所述当前退化度量指派给先前退化度量。20.根据权利要求1所述的方法，其中所述退化度量对应于所述光学设备属性的所述斜率的局部线性近似。21.根据权利要求1所述的方法，其中光学设备被配置为估计由所述光源产生的光束的能量。22.根据权利要求1所述的方法，其中在所述光学设备正在被校准时接收所述光学设备属性包括：接收与所述光学设备执行从直接测量结果到间接值的转换相关联的测量标度，所述直接测量结果与在所述光学设备正在被校准时由所述光源产生的所述光束相关。23.根据权利要求22所述的方法，其中估计所述光学设备的所述退化何时将超过所述阈值包括：估计所述光学设备属性中的漂移何时将超过漂移阈值。24.根据权利要求23所述的方法，其中估计所述光学设备属性中的所述漂移何时将超过所述漂移阈值包括：基于与间接值相关联的误差阈值来计算所述漂移阈值。25.一种校准系统，包括：被配置为校准光学设备的校准装置，所述光学设备被配置为测量与由光源产生的光束相关的方面；以及与所述校准装置通信的预测控制器，所述预测控制器包括：输入模块，所述输入模块被配置为：在所述光学设备正在被校准时从所述光学设备接收与所述光束的被测量方面相关联的被测量属性；自适应模块，所述自适应模块被配置为：从所述输入模块接收所述被测量属性；至少基于所述被测量属性来计算当前退化度量，所述退化度量对所述光学设备的行为进行建模；并且基于所述当前退化度量来估计所述光学设备的退化何时将...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：西默有限公司，
类型：发明
国别省市：