用于沉积的金属掩模制造技术

提供了一种用于沉积的金属掩模，其包括包含有效部分和无效部分的沉积区域和非沉积区域，有效部分包括多个通孔，通孔包括：一个表面上的小表面孔；与一个表面相对的另一表面上的大表面孔；以及小表面孔的内表面与大表面孔的内表面在其中相交的连通部分，在多个大表面孔之间设置有岛状部分，从连通部分至一个表面的高度为3μm或更小，小表面孔在其一个表面上具有沿水平方向的孔径(W1)，通孔在连通部分上具有沿水平方向、垂直方向和对角线方向中的至少一个方向的宽度(W2)，孔径比通孔的宽度大，孔径与通孔的宽度之间的差为0.01μm至1.1μm，并且连接小表面孔的相对于所述一个表面的一端和连通部分的一端的倾斜角度(θ1)为70度至89度。89度。89度。

【技术实现步骤摘要】
用于沉积的金属掩模
[0001]本申请是申请日为2018年8月24日、国际申请号为PCT/KR2018/009813、专利技术名称为“用于沉积OLED像素的金属材料的沉积掩模及其制造方法”、进入中国国家阶段的申请号为201880070153.X的中国专利申请的分案申请。


[0002]实施方式涉及用于沉积有机发光二极管(OLED)像素的金属材料的沉积掩模及其制造方法。具体地，根据实施方式的沉积掩模用于制造具有500PPI或更高的高分辨率的OLED面板。

技术介绍

[0003]由于需要具有高分辨率和低功耗的显示装置，因此已经开发了各种显示装置，例如，液晶显示装置和电致发光显示装置。
[0004]与液晶显示装置相比，电致发光显示装置由于诸如低发光、低功耗和高分辨率等优异的特性而成为下一代显示装置的焦点。
[0005]电场显示装置中存在有机发光显示装置和无机发光显示装置。也就是说，根据发光层的材料，电场显示装置可以被分类为有机发光显示装置和无机发光显示装置。
[0006]其中，因为有机发光显示装置具有宽的视角、具有快速的响应速度并且需要具有低功耗，所以已经受到了关注。
[0007]构成这样的发光层的有机材料可以通过精细金属掩模方法被形成为具有用于在基板上形成像素的图案。
[0008]在这种情况下，精细金属掩模即用于沉积的掩模可以具有与要在基板上形成的图案对应的通孔，并且形成像素的红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)的图案可以通过在基板上将精细金属掩模对准之后沉积有机材料来形成。<br/>[0009]最近，诸如虚拟现实(VR)装置的各种电子装置需要具有超高清(UHD)的显示装置。因此，需要具有能够形成超高分辨率(UHD级)图案的精细尺寸通孔的精细金属掩模。
[0010]在可以用作沉积掩模的金属板上，可以通过蚀刻处理来形成多个通孔。
[0011]在这种情况下，当通孔中的小表面孔的曲率和小表面孔的倾斜角度小于预定范围时，沉积材料扩散，并且因此可能发生由于像素之间的交叠而导致的沉积失败。
[0012]因此，需要具有能够均匀地形成500PPI或更高的高分辨率或超高分辨率(UHD级)的图案而不会发生沉积失败的新结构的沉积掩模及其制造方法。

技术实现思路

[0013]技术问题
[0014]实施方式涉及提供一种能够均匀地形成具有约500PPI或更高的高分辨率或者约800PPI或更高的超高分辨率(UHD级)的图案而不会发生沉积失败的沉积掩模及其制造方法。
[0015]技术方案
[0016]在一种根据实施方式的用于沉积OLED像素的金属材料的沉积掩模中，沉积掩模包括：用于形成沉积图案的沉积区域和除了沉积区域之外的非沉积区域，其中，沉积区域包括在纵向方向上间隔开的多个有效部分和除了有效部分之外的无效部分，其中，有效部分包括：在一个表面上形成的多个小表面孔；在与该一个表面相对的另一表面上形成的多个大表面孔；连通小表面孔与大表面孔的通孔；以及在多个通孔之间的岛状部分，其中，沉积掩模具有500PPI或更高的分辨率，其中通孔的直径为33μm或更小，并且通孔之间的距离为48μm或更小，小表面孔相对于该一个表面的倾斜角度为70度至89度，并且小表面孔相对于该一个表面的倾斜曲率半径为3μm至86μm。
[0017]制造一种根据实施方式的用于沉积OLED像素的金属材料的沉积掩模包括：第一步骤，制备20μm至30μm的厚度的基底金属板；第二步骤，在基底金属板的一个侧上设置图案化的光光刻胶层，通过对光刻胶层的开口部分进行半蚀刻来在基底金属板的一个表面上形成凹槽，在与该一个表面相对的基底金属板的另一表面上设置图案化的光刻胶层，并且通过对光刻胶层的开口部分进行蚀刻来在基底金属板的一个表面上形成连接至凹槽的通孔；以及第三步骤，去除光刻胶层以形成沉积掩模，该沉积掩模包括在一个表面上形成的大表面孔、在与该一个表面相对的另一表面上形成的小表面孔以及通过连接至大表面孔与小表面孔之间的边界的连通部分形成的通孔。
[0018]根据实施方式，提供了一种用于沉积的金属掩模，其包括包含有效部分和无效部分的沉积区域和非沉积区域，有效部分包括多个通孔，通孔包括：一个表面上的小表面孔；与一个表面相对的另一表面上的大表面孔；以及小表面孔的内表面与大表面孔的内表面在其中相交的连通部分，在多个大表面孔之间设置有岛状部分，从连通部分至所述一个表面的高度为3μm或更小，小表面孔在其一个表面上具有沿水平方向的孔径(W1)，通孔在连通部分上具有沿水平方向、垂直方向和对角线方向中的至少一个方向的宽度(W2)，孔径比通孔的宽度大，孔径与通孔的宽度之间的差为0.01μm至1.1μm，并且连接小表面孔的相对于所述一个表面的一端和连通部分的一端的倾斜角度(θ1)为70度至89度。
[0019]根据实施方式，还提供了一种用于沉积的金属掩模，金属掩模包括：沉积区域和非沉积区域，其中，沉积区域包括有效部分和无效部分，其中，有效部分包括多个通孔，其中，通孔包括：一个表面上的小表面孔；与一个表面相对的另一表面上的大表面孔；以及小表面孔的内表面与大表面孔的内表面在其中相交的连通部分，其中，在多个大表面孔之间设置有岛状部分，其中，从连通部分至一个表面的高度为3μm或更小，其中，小表面孔在其一个表面上具有沿水平方向的孔径(W1)，其中，通孔在连通部分上具有沿水平方向、垂直方向和对角线方向中的至少一个方向的宽度(W2)，其中，孔径(W1)比通孔的宽度(W2)大，并且其中，孔径(W1)与通孔的宽度(W2)之间的差为0.01μm至1.1μm，并且其中，小表面孔的内表面相对于一个表面的倾斜曲率半径为3μm至86μm。
[0020]根据实施方式，还提供了一种用于沉积的金属掩模，金属掩模包括：沉积区域和非沉积区域，其中，沉积区域包括有效部分和无效部分，其中，有效部分包括多个通孔，其中，通孔包括：一个表面上的小表面孔；与一个表面相对的另一表面上的大表面孔；以及小表面孔的内表面与大表面孔的内表面在其中相交的连通部分，其中，在多个大表面孔之间设置有岛状部分，其中，连接小表面孔的相对于所述一个表面的一端和连通部分的一端的倾斜
角度(θ1)为70度至89度，并且其中，小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为3μm至86μm。
[0021]有益效果
[0022]实施方式涉及一种用于沉积具有500PPI或更高的分辨率的OLED像素的金属材料的沉积掩模，并且提供了一种能够使沉积失败最小化的沉积掩模。
[0023]在根据实施方式的沉积掩模中，小表面孔的曲率可以为3μm至86μm，并且小表面孔的一端与小表面与大表面孔之间的连通部分的一端之间的倾斜角度可以为70度至89度。因此，可以使通过根据实施方式的沉积掩模而沉积的沉积图案的扩散最小化。因此，根据实施方式的沉积掩模可以在保持超高分辨率的同时防止由于R、G和B图案中的两个相邻沉积图案的阴影效应而导致的沉积失败。
[0024]另外，通过防止有机材料在沉积过程期间脱膜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于沉积的金属掩模，所述金属掩模包括：沉积区域和非沉积区域，其中，所述沉积区域包括有效部分和无效部分，其中，所述有效部分包括多个通孔，其中，所述通孔包括：一个表面上的小表面孔；与所述一个表面相对的另一表面上的大表面孔；以及所述小表面孔的内表面与所述大表面孔的内表面在其中相交的连通部分，其中，在多个大表面孔之间设置有岛状部分，其中，从所述连通部分至所述一个表面的高度为3μm或更小，其中，所述小表面孔在其一个表面上具有沿水平方向的孔径(W1)，其中，所述通孔在所述连通部分上具有沿水平方向、垂直方向和对角线方向中的至少一个方向的宽度(W2)，其中，所述孔径(W1)比所述通孔的宽度(W2)大，并且其中，所述孔径(W1)与所述通孔的宽度(W2)之间的差为0.01μm至1.1μm，并且其中，连接所述小表面孔的相对于所述一个表面的一端和所述连通部分的一端的倾斜角度(θ1)为70度至89度。2.根据权利要求1所述的金属掩模，其中，所述孔径(W1)与所述通孔的宽度(W2)之间的差为0.03μm至1.1μm。3.根据权利要求1所述的金属掩模，其中，所述孔径(W1)与所述通孔的宽度(W2)之间的差为0.05μm至1.1μm。4.根据权利要求1所述的金属掩模，其中，连接所述小表面孔的相对于所述一个表面的一端和所述连通部分的一端的倾斜角度(θ1)为70度至75度。5.根据权利要求1所述的金属掩模，其中，连接所述小表面孔的相对于所述一个表面的一端和所述连通部分的一端的倾斜角度(θ1)为70度至85度。6.根据权利要求1所述的金属掩模，其中，连接所述小表面孔的相对于所述一个表面的一端和所述连通部分的一端的倾斜角度(θ1)为75度至85度。7.根据权利要求1所述的金属掩模，其中，连接所述小表面孔的相对于所述一个表面的一端和所述连通部分的一端的倾斜角度(θ1)为75度至89度。8.根据权利要求1所述的金属掩模，其中，连接所述小表面孔的相对于所述一个表面的一端和所述连通部分的一端的倾斜角度(θ1)为85度至89度。9.根据权利要求1所述的金属掩模，其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为3μm至86μm。10.根据权利要求9所述的金属掩模，其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为4.5μm至6.0μm。11.根据权利要求9所述的金属掩模，其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为4.5μm至17.0μm。12.根据权利要求9所述的金属掩模，其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为4.5μm至86μm。13.根据权利要求9所述的金属掩模，其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为6.0μm至17μm。
14.根据权利要求9所述的金属掩模，其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为6.0μm至86μm。15.根据权利要求9所述的金属掩模，其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为17μm至86μm。16.根据权利要求1至3中任一项所述的金属掩模，其中，所述通孔在所述连通部分上的沿水平方向、垂直方向和对角线方向中的至少一个方向的宽度(W2)是33μm或更小。17.根据权利要求16所述的金属掩模，其中，所述金属掩模具有500PPI或更高的分辨率，其中，沿水平方向相邻的多个通孔的中心之间的距离(P1)为48μm或更小。18.根据权利要求1至3中任一项所述的金属掩模，其中，所述通孔在所述连通部分上的宽度(W2)被限定为沿水平方向，并且所述通孔的宽度(W2)为20μm或更小，并且其中，所述金属掩模具有800PPI或更高的分辨率，其中，沿水平方向相邻的多个通孔的中心之间的距离(P1)为32μm或更小。19.根据权利要求1至3中任一项所述的金属掩模，其中，所述多个通孔中的每个通孔在所述连通部分上的沿水平方向、垂直方向和对角线方向中的至少一个方向的宽度(W2)的平均偏差为2％至10％。20.根据权利要求19所述的金属掩模，其中，所述多个通孔中的每个通孔的宽度(W2)的平均偏差为
±
3μm。21.一种用于沉积的金属掩模，所述金属掩模包括：沉积区域和非沉积区域，其中，所述沉积区域包括有效部分和无效部分，其中，所述有效部分包括多个通孔，其中，所述通孔包括：一个表面上的小表面孔；与所述一个表面相对的另一表面上的大表面孔；以及所述小表面孔的内表面与所述大表面孔的内表面在其中相交的连通部分，其中，在多个大表面孔之间设置有岛状部分，其中，从所述连通部分至所述一个表面的高度为3μm或更小，其中，所述小表面孔在其一个表面上具有沿水平方向的孔径(W1)，其中，所述通孔在所述连通部分上具有沿水平方向、垂直方向和对角线方向中的至少一个方向的宽度(W2)，其中，所述孔径(W1)比所述通孔的宽度(W2)大，并且其中，所述孔径(W1)与所述通孔的宽度(W2)之间的差为0.01μm至1.1μm，并且其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为3μm至86μm。22.根据权利要求21所述的金属掩模，其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为4.5μm至6.0μm。23.根据权利要求21所述的金属掩模，其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为4.5μm至17.0μm。24.根据权利要求21所述的金属掩模，其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为4.5μm至86μm。25.根据权利要求21所述的金属掩模，其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为6.0μm至17μm。
26.根据权利要求21所述的金属掩模，其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为6.0μm至86μm。27.根据权利要求21所述的金属掩模，其中，所述小表面孔的内表面相对于所述一个表面的倾斜曲率半径为17μm至86μm。28.根据权利要求21所述的金属掩模，其中，所述孔径(W1)与所述通孔的宽度(W2)之间的差为0.03μm至1.1μm。29.根据权利要求21所述的金属掩模，其中，所述孔径(W1)与所述通孔的宽度(W2)之间的差为0.05μm至1.1μm。30.根据权利要求21所述的金属掩模，其中，连接所述小表面孔的相对于所述一个表面的一端和所述连通部分的一端的倾斜角度(θ1)为70度至89度。31.根据权利要求30所述的金属掩模，其中，连接所述小表面孔的相对于所述一个表面的一端和所述连通部分的一端的倾...

【专利技术属性】
技术研发人员：金海植，白智钦，
申请(专利权)人：LG伊诺特有限公司，
类型：发明
国别省市：