本实用新型专利技术属于加湿设备技术领域，具体公开了一种洗脸巾浸湿装置，包括壳体，壳体的顶部成型有水槽，水槽中心处设有半导体温度调节机构，半导体温度调节机构一侧设有供水机构和温控器，壳体底部卡接有盖板，盖板的底部卡接有水箱，水箱通过导水管与供水机构相连接，在水箱内部进行注水，后续通过控制机构启动供水机构，能将水箱内部水供到水槽内部，后续通过启动半导体温度调节机构能将水槽内部水进行升温或者冷却操作，当需要进行洗脸操作可以把洗脸巾放置到水槽内，能使洗脸巾通过水加热或者冷却，从而能将洗脸巾整体调节成不同温度，能满足使用者对洗脸时的温度需求，能让使用者洗脸时能采用热水清洗或者冷水清洗，满足了使用者的不同需求。用者的不同需求。用者的不同需求。
【技术实现步骤摘要】
一种洗脸巾浸湿装置
[0001]本技术涉及加湿设备
，特别涉及一种洗脸巾浸湿装置。
技术介绍
[0002]洗脸，是对脸部的清洁活动，指通过清洁使皮肤处于尽可能无污染和无侵害的状态中，为皮肤提供良好的生理条件，洗脸是保养之前的重要步骤，在洗脸时主要是通过洗脸巾或毛巾对脸部进行擦拭，如CN202022480998.3的中国专利中公开了一种用于棉柔巾的快速加湿装置，包括底座、插栓和螺栓，所述底座的内侧设置有机体，且机体的外侧设置有电机，所述电机的右侧设置有皮带，且皮带的右侧设置有限位板，所述插栓设置于支撑板的上方，所述机体的上方设置有引流槽,且引流槽的上方设置有旋转轴，所述引流槽的左侧设置有湿巾出口，且湿巾出口的左侧设置有加湿槽，所述机体的上方设置有纸巾架。
[0003]上述结构在只能简单对棉柔巾进行浸湿，在上述机构中无法对装置内部的水进行温度加热，当使用者需要使用温水清洁时脸部，在上述机构中无法对装置内部的水进行温度调节，使棉柔巾或洗脸巾只能采用常温清洁的方式，无法适应使用者的多种需求。
技术实现思路
[0004]为了克服现有技术存在的缺陷，本技术提供一种洗脸巾浸湿装置。
[0005]本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种洗脸巾浸湿装置，包括壳体，所述壳体的顶部成型有水槽，所述水槽中心处设置有半导体温度调节机构，所述半导体温度调节机构一侧设置有供水机构和温控器，所述壳体的底部卡接有盖板，所述盖板的底部卡接有水箱，所述水箱通过导水管与供水机构相连接。
[0006]具体的，所述水槽包括第一储水腔和第二储水腔，所述第一储水腔与壳体内表面相连接，所述第一储水腔中心处设置有第二储水腔，所述第一储水腔与第二储水腔连接处设置为阶梯面。
[0007]进一步，所述壳体底部设置有卡扣，所述盖板通过卡扣卡接在壳体的底部，所述盖板与水槽之间形成空腔，所述空腔中心安装有半导体温度调节机构，所述半导体温度调节机构的一侧设置控制机构，所述控制机构与温控器相连接，所述半导体温度调节机构的另一侧设置电源线，所述电源线与控制机构电连接。
[0008]具体的，所述半导体温度调节机构包括半导体和散热板，所述半导体安装在第二储水腔底部中心处，所述半导体底部设置有散热板，所述散热板底部设置有散热风扇，所述散热板与水槽连接处设置密封硅胶。
[0009]更具体的，所述半导体与第二储水腔的连接处设置有硅胶保护罩，所述硅胶保护罩外表面开设有导流孔。
[0010]具体的，所述控制机构包括电路板和控制屏，所述电路板安装在壳体的内壁，所述控制屏设置在壳体外表面，所述控制屏与电路板相连接，所述电路板与温控器、半导体温度调节机构、和抽水泵相连接。
[0011]进一步，所述供水机构包括出水口和抽水泵，所述出水口设置在阶梯面上，所述抽水泵设置在空腔内部，所述抽水泵的出水端通过软水管与出水口相连通，所述抽水泵的进水端与导水管相连通，所述导水管贯穿盖板延伸到水箱内部。
[0012]具体的，所述出水口一侧设有溢水回流孔，所述溢水回流孔通过软水管与水箱连通。
[0013]进一步，所述壳体一侧设置有面板，所述面板通过铰接件与壳体相连接，以使面板实现左右转动。
[0014]进一步，所述半导体的材质为铝合金，所述散热板的材质为PTC陶瓷。
[0015]本技术的有益效果是：
[0016]1、本技术先通过在水箱内部进行注水，后续通过控制机构启动供水机构，能将水箱内部水供到水槽内部，后续通过启动半导体温度调节机构能将水槽内部水进行升温或者冷却操作，后续通过温控器能实时检测水槽内部温度，能将实时水温数据反馈给控制屏上能对水槽内部的温度进行实时监控，当需要进行洗脸操作可以把洗脸巾放置到水槽内，能使洗脸巾通过水加热或者冷却，从而能将洗脸巾整体调节成不同温度，能满足使用者对洗脸时的温度需求，能让使用者洗脸时能采用热水清洗或者冷水清洗，从而提升了装置整体适应性，满足了使用者的需求。
[0017]2、本技术把水槽设置为第一储水腔与第二储水腔，当使用者只需要进行常规的洗脸操作时，可以直接在将第二储水腔进行水储水操作，后续在对其进行加温，当加温完成后将洗脸巾直接放入到第二储水腔浸湿操作来进行洗脸操作，后续使用者如需要对热敷化妆品进行加温时，可以将第一储水腔与第二储水腔都注满水，对其进行加温后将热敷化妆品放到水槽的内部，使其热敷化妆品达到指定温度后在取出，从而提升装置整体实用性。
附图说明
[0018]图1为本技术整体结构的示意图；
[0019]图2为本技术整体结构的剖视图；
[0020]图3为本技术的整体结构的爆炸图；
[0021]图4为本技术的A处结构的放大图。
[0022]图中所述：壳体1、卡扣101、溢水回流孔102、水槽2、第一储水腔21、第二储水腔22、半导体温度调节机构3、半导体31、散热板32、散热风扇33、密封硅胶34、供水机构4、出水口41、抽水泵42、温控器5、盖板6、水箱7、导水管8、控制机构9、电路板91、控制屏92、电源线10、硅胶保护罩11、面板12。
具体实施方式
[0023]下面结合附图对本技术的具体实施方式作进一步说明。在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本技术，但并不构成对本技术的限定。此外，下面所描述的本技术各个实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
[0024]如附图1、2和3所示，本技术提供的一种洗脸巾浸湿装置，包括壳体1，壳体1的顶部成型有水槽2，水槽2中心处设置有半导体温度调节机构3，能通过半导体温度调节机构
3对水槽内部水进行加热和冷却，能为使用者在洗脸操作时提供热水或者冷水进行清洗，在半导体温度调节机构3一侧设置有供水机构4和温控器5，通过温控器5能实时检测水槽2内部温度，能将实时水温数据反馈给控制机构9，壳体1的底部卡接有盖板6，盖板6的底部卡接有水箱7，水箱7通过导水管8与供水机构4相连接。
[0025]如附图1和2所示，水槽2中包括第一储水腔21和第二储水腔22，第一储水腔21与壳体1内表面相连接，第一储水腔21中心处设置有第二储水腔22，第一储水腔21与第二储水腔22连接处设置为阶梯面，通过第一储水腔21与第二储水腔22，当使用者进行常规的洗脸操作时，可以直接在将第二储水腔21放水，通过半导体温度调节机构3能对第二储水腔21内部的水进行加温或者冷却操作，后续将洗脸巾直接放入到第二储水腔22浸湿操作来进行洗脸操作，当需要对热敷化妆品的加温时，直接第一储水腔21与第二储水腔22都注满水，对其进行加温后将需要加温的化妆品放到水槽的内部，使其化妆品达到指定温度后在取出，使其适应不同使用环境，能增加本装置的整体实用性。
[0026]如附图1、2和3所示，在壳体1底部设置有卡扣101，把盖板6通过卡扣101能卡接在壳体1的底部，采用卡扣101的方式，盖板6与水槽2之间形成本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种洗脸巾浸湿装置，包括壳体（1），其特征在于：所述壳体（1）的顶部成型有水槽（2），所述水槽（2）中心处设置有半导体温度调节机构（3），所述半导体温度调节机构（3）一侧设置有供水机构（4）和温控器（5），所述壳体（1）的底部卡接有盖板（6），所述盖板（6）的底部卡接有水箱（7），所述水箱（7）通过导水管（8）与供水机构（4）相连接。2.根据权利要求1所述的一种洗脸巾浸湿装置，其特征在于：所述壳体（1）底部设置有卡扣（101），所述盖板（6）通过卡扣（101）卡接在壳体（1）的底部，所述盖板（6）与水槽（2）之间形成空腔，所述空腔中心安装有半导体温度调节机构（3），所述半导体温度调节机构（3）的一侧设置控制机构（9），所述控制机构（9）与温控器（5）相连接，所述半导体温度调节机构（3）的另一侧设置电源线（10），所述电源线（10）与控制机构（9）电连接。3.根据权利要求1所述的一种洗脸巾浸湿装置，其特征在于：所述水槽（2）包括第一储水腔（21）和第二储水腔（22），所述第一储水腔（21）与壳体（1）内表面相连接，所述第一储水腔（21）中心处设置有第二储水腔（22），所述第一储水腔（21）与第二储水腔（22）连接处设置为阶梯面。4.根据权利要求2所述的一种洗脸巾浸湿装置，其特征在于：所述半导体温度调节机构（3）包括半导体（31）和散热板（32），所述半导体（31）安装在第二储水腔（22）底部中心处，所述半导体（31）底部设置有散热板（32），所述散热板（32）底部设置有散热风扇（33），所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：老柏强，
申请(专利权)人：佛山市顺德区古今工业设计有限公司，
类型：新型
国别省市：
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