一种高精度蒸镀对位系统及蒸镀设备技术方案

本申请公开了一种高精度蒸镀对位系统及蒸镀设备，包括：玻璃基板支撑架，其支撑玻璃基板的边缘部，以在所述玻璃基板的中部形成上蒸镀区；以及掩膜板支撑架，其支撑金属掩膜板的边缘部，以在所述金属掩膜板的中部形成下蒸镀区；所述玻璃基板支撑架的上方配置有：静电吸附装置，其用于吸附所述玻璃基板以使所述上蒸镀区平整；以及磁性吸附装置，所述用于吸附所述金属掩膜板以使所述下蒸镀区平整；其中，所述静电吸附装置和磁性吸附装置被配置为，其共同地使得所述玻璃基板和金属掩膜板在蒸镀过程中保持平整地贴合。本申请的高精度蒸镀对位系统及蒸镀设备，可以提高蒸镀工艺中的对位的精度。精度。精度。

【技术实现步骤摘要】
一种高精度蒸镀对位系统及蒸镀设备


[0001]本申请涉及蒸镀加工
，特别涉及一种高精度蒸镀对位系统及蒸镀设备。

技术介绍

[0002]随着社会的快速发展，OLED面板被广泛应用于通讯产品、消费类电子产品和仪器仪表等领域。蒸镀工艺作为OLED面板显示行业的核心工艺，其对整个面板的生产良率起着决定性的作用，作为进行蒸镀工艺的核心装备蒸镀机设备，更是面板行业的核心装备，蒸镀机设备可分为三大系统，蒸发源系统、超高真空系统和对位系统，其中最具技术含量的是对位系统。
[0003]在OLED的蒸镀环节中需要用到专用的蒸镀设备，所谓蒸镀，就是在真空密闭的腔室中，将装有材料的坩埚，放入加热源以后，材料被加热蒸发，通过掩膜板后沉积在玻璃基板上的特定位置。在材料沉积到玻璃基板之前，掩膜板和玻璃基板需要先进行标记对位，对位的目的是将玻璃基板上的特定位置和掩膜板的开孔位置对齐，对位的精度在20um的量级，其对位精度的对产品的至关重要，影响对位精度的主要因素是玻璃基板和掩膜板由于重力的下垂。传统的解决方案是在玻璃基板的正上方设计磁力板，由于掩膜板的材质主要使用合金，磁力板的磁场可以通过玻璃对掩膜板产生磁吸的效果，从而可以将掩膜板吸平，然后将掩膜板向上移动，通过吸平的掩膜板然后将玻璃抬平。但是这个过程中，掩膜板和玻璃基板表面附着的工艺材料不可避免的会发生剐蹭，会导致玻璃基板产生粉尘颗粒，造成产品面出现结构不良。

技术实现思路

[0004]本申请提供了一种高精度蒸镀对位系统及蒸镀设备，可以保证蒸镀工艺中玻璃基板和掩膜板的对位精度同时提升产品质量。
[0005]第一方面，本申请提供了一种高精度蒸镀对位系统，其用于屏幕组件的生产加工，其包括：
[0006]玻璃基板支撑架，其支撑玻璃基板的边缘部，以在所述玻璃基板的中部形成上蒸镀区；以及
[0007]掩膜板支撑架，其支撑金属掩膜板的边缘部，以在所述金属掩膜板的中部形成下蒸镀区；
[0008]所述玻璃基板支撑架的上方配置有：
[0009]静电吸附装置，其用于吸附所述玻璃基板以使所述上蒸镀区平整；以及
[0010]磁性吸附装置，所述用于吸附所述金属掩膜板以使所述下蒸镀区平整；
[0011]其中，所述静电吸附装置和磁性吸附装置被配置为，其共同地使得所述玻璃基板和金属掩膜板在蒸镀过程中保持平整地贴合。
[0012]通过采用上述技术方案，可以通过静电吸附力克服玻璃自身的重力，将玻璃吸平，同时可以通过磁性吸附装置产生的磁场透过玻璃基板作用于金属掩膜板上，使得掩膜板水
平，这样在对位过程中可以避免掩膜板和玻璃基板由于自身重力下垂造成的对位精度的技术问题，同时由于玻璃基板和掩膜板都是水平状态，消除了对位过程中两者的摩擦，有效消除产品不良。
[0013]进一步的方案，在所述静电吸附装置和所述磁性吸附装置之间还设有冷却件。
[0014]通过采用上述技术方案，冷却件的目的是对玻璃基板进行冷却，防止玻璃基板由于高温工艺气体的影响，产生热膨胀，影响对位精度。
[0015]进一步的方案，所述冷却件设有冷却通道，所述冷却通道用于流通冷却介质。
[0016]通过采用上述技术方案，可以使冷却更均匀，冷却效果更好。
[0017]进一步的方案,所述磁性吸附装置设置于背离所述静电吸附装置吸附所述玻璃基板的面的一侧，所述磁性吸附装置产生的磁吸力用于穿过所述静电吸附装置和所述玻璃基板使所述掩膜板紧贴于所述玻璃基板。
[0018]通过采用上述技术方案，磁性吸附装置结构容易布置，且可以使磁性吸附装置和静电吸附装置各自发挥吸力，不互相干扰。
[0019]进一步的方案，所述静电吸附装置与所述磁性吸附装置交错排列设置。
[0020]通过采用上述技术方案，静电吸引力和磁吸力分布均匀，可以促使玻璃基板和掩膜板的吸力交错，减小两者力的重叠，提升玻璃基板和掩膜板贴合的均匀性和平整性。
[0021]进一步的方案，所述静电吸附装置设置为纵横交错的网格状结构，所述磁性吸附装置设置为在所述静电吸附装置吸附所述玻璃基板的面的投影方向上与所述静电吸附装置不重叠。
[0022]通过采用上述技术方案，静电吸附装置和磁性吸附装置结构规整，便于加工，也便于组装。
[0023]进一步的方案，所述磁性吸附装置设置于所述静电吸附装置吸附所述玻璃基板的面的一侧或者相对的另一侧。
[0024]通过采用上述技术方案，磁性吸附装置可以与静电吸附装置重叠设置，也可以磁性吸附装置与静电吸附装置嵌入设置，可以根据实际的需要，设置方式灵活多变。
[0025]进一步的方案，所述静电吸附装置包括至少两个静电吸附件，所述至少两个静电吸附件中至少一个连接正电极且至少一个连接负电极。
[0026]通过采用上述技术方案，两个电极产生的静电电荷更便于吸附，也便于加工后静电的消除。
[0027]进一步的方案，连接不同电极的相邻的所述静电吸附件之间设有绝缘件。
[0028]通过采用上述技术方案，可以实现两个电极带电安全性可靠性，保证各自电极的静电吸引力。
[0029]第二方面，本申请还提供了一种蒸镀设备，包括如上所述的高精度蒸镀对位系统。
[0030]通过采用上述技术方案，蒸镀设备对位精度高，对位对玻璃基板的质量影响小，保证蒸镀的产品质量。
[0031]综上所述，本申请具有以下至少一种有益技术效果：
[0032]1、本申请高精度蒸镀对位系统，可以在对位过程中避免掩膜板和玻璃基板由于自身重力下垂造成的对位精度的技术问题。
[0033]2、本申请高精度蒸镀对位系统，由于玻璃基板和掩膜板对位时都是水平状态，消
除了对位过程中两者的摩擦，有效消除产品不良。
[0034]3、本申请高精度蒸镀对位系统，冷却件的对玻璃基板进行冷却，防止玻璃基板由于高温工艺气体的影响，产生热膨胀，影响对位精度。
[0035]4、本申请蒸镀设备，对位精度高，对位对玻璃基板的质量影响小，保证蒸镀的产品质量。
附图说明
[0036]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本技术的一些实施例，而非对本技术的限制。
[0037]图1是本申请高精度蒸镀对位系统实施例一吸附前的结构示意图；
[0038]图2本申请高精度蒸镀对位系统实施例一吸附后的结构示意图；
[0039]图3是本申请高精度蒸镀对位系统实施例二的结构示意图；
[0040]图4是本申请高精度蒸镀对位系统实施例二静电吸附装置、磁性吸附装置和冷却件装配示意图；
[0041]图5是本申请高精度蒸镀对位系统实施例二静电吸附装置、磁性吸附装置和冷却件装配后的俯视图；
[0042]图6是图5的分解结构示意图。
[0043]附图标记：
[0044]1、掩膜板；2、掩膜板支撑架；3、玻璃基板；4、玻璃基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高精度蒸镀对位系统，其用于屏幕组件的生产加工，其包括：玻璃基板支撑架，其支撑玻璃基板的边缘部，以在所述玻璃基板的中部形成上蒸镀区；以及掩膜板支撑架，其支撑金属掩膜板的边缘部，以在所述金属掩膜板的中部形成下蒸镀区；其特征在于，所述玻璃基板支撑架的上方配置有：静电吸附装置，其用于吸附所述玻璃基板以使所述上蒸镀区平整；以及磁性吸附装置，所述用于吸附所述金属掩膜板以使所述下蒸镀区平整；其中，所述静电吸附装置和磁性吸附装置被配置为，其共同地使得所述玻璃基板和金属掩膜板在蒸镀过程中保持平整地贴合。2.根据权利要求1所述的高精度蒸镀对位系统，其特征在于，在所述静电吸附装置和所述磁性吸附装置之间还设有冷却件。3.根据权利要求2所述的高精度蒸镀对位系统，其特征在于，所述冷却件设有冷却通道，所述冷却通道用于流通冷却介质。4.根据权利要求1所述的高精度蒸镀对位系统，其特征在于，所述磁性吸附装置设置于背离所述静电吸附装置吸附所述玻璃基板的面的一侧，所述磁性吸附装置产生的磁吸力用于穿过所述静...

【专利技术属性】
技术研发人员：李有亮，奉洛阳，丁威，
申请(专利权)人：成都骏创科技有限公司，
类型：新型
国别省市：