本发明专利技术提供一种制膜用雾化装置，其利用超声波对原料液体进行雾化而生成原料雾，其特征在于，具备：原料容器，其收纳所述原料液体；传播槽，其收纳作为用于向所述原料液体传播所述超声波的介质的中间液；支撑机构，其支撑所述原料容器以使得该原料容器的至少一部分位于所述中间液中；循环机构，其使所述中间液循环；超声波产生器，其产生所述超声波，并施加于所述传播槽；以及脱气机构，其向所述制膜用雾化装置的系统外排出所述中间液中的气体。由此，能够提供一种制膜用雾化装置，其能够持续高效地进行原料液体的雾化。地进行原料液体的雾化。地进行原料液体的雾化。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】制膜用雾化装置、制膜装置以及制膜方法
[0001]本专利技术涉及一种制膜用雾化装置、制膜装置以及制膜方法。
技术介绍
[0002]作为能够在低温及大气压下形成外延膜等的方法，已知雾化CVD法等使用液体微粒的制膜方法。在专利文献1中，公开有一种方法，通过对放入了原料溶液的容器施加超声波振子来使原料溶液雾化，而将所获得的雾化状原料用载气供给到反应器内的基板上进行制膜。
[0003]通常，为了能够利用也包括腐蚀性的原料液体等在内的广泛的材料，经由水等中间液来进行超声波向原料液体的施加。但是，如果持续施加超声波，则存在以下问题：从中间液产生气泡，妨碍向原料液体传播超声波，雾的产生量降低。对此，在专利文献2中公开有一种方法，通过使原料容器的底面相对于中间液的液面设置角度，从而避免气泡向原料容器底面附着。现有技术文献专利文献
[0004]专利文献1：日本特开2013
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28480号公报专利文献2：日本特开2005
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305233号公报
技术实现思路
(一)要解决的技术问题
[0005]但是，在专利文献2的结构中，由于原料容器内的原料液体的深度不均匀，因此尤其在具备多个超声波产生器的情况下等，无法充分地雾化原料液体。而且，存在雾化装置的结构变得复杂、装置变得昂贵的问题。
[0006]本专利技术为了解决上述问题而完成，其目的在于提供一种能够持续高效地进行原料液体的雾化的制膜用雾化装置、具备这样的雾化装置的制膜装置、以及能够以高生产率进行稳定的制膜的制膜方法。(二)技术方案
[0007]为了实现上述目的，在本专利技术中提供一种制膜用雾化装置，其利用超声波对原料液体进行雾化而生成原料雾，其特征在于，具备：原料容器，其收纳所述原料液体；传播槽，其收纳作为用于向所述原料液体传播所述超声波的介质的中间液；支撑机构，其支撑所述原料容器以使得该原料容器的至少一部分位于所述中间液中；循环机构，其使所述中间液循环；超声波产生器，其产生所述超声波，并施加于所述传播槽；以及脱气机构，其向所述制膜用雾化装置的系统外排出所述中间液中的气体。
[0008]根据这样的雾化装置，能够防止中间液中的气体作为气泡滞留在原料容器的底部等，并能够抑制超声波向原料液体的传播被气泡妨碍，因此能够持续高效地向原料液体传播超声波。其结果为，本专利技术的雾化装置能够持续高效地进行原料液体的雾化。另外，本发
明的雾化装置由于能够持续进行原料液体的雾化，因此能够进行高密度的原料液体雾化。而且，具备这样的雾化装置的制膜装置能够以高生产率进行稳定的制膜。
[0009]优选地，从所述循环机构向所述传播槽注入所述中间液的注入口配置于比所述原料容器的底面低的位置。
[0010]根据这样的雾化装置，能够更有效地去除中间液中的气体，其结果为，能够持续以更高的效率进行原料液体的雾化。
[0011]优选地，从所述传播槽向所述循环机构排出所述中间液的排出口配置于比所述原料容器的底面高的位置。
[0012]根据这样的雾化装置，能够更有效地去除中间液中的气体，其结果为，能够持续以更高的效率进行原料液体的雾化。
[0013]所述原料容器优选具备水平的底面。
[0014]根据这样的雾化装置，能够使原料容器内的原料液体的深度均匀，由此能够使原料液体更充分地雾化。其结果为，能够持续以更高的效率进行原料液体的雾化。另外，根据这样的形状，能够简化装置结构，也有助于抑制成本。
[0015]所述脱气机构可以设置在所述传播槽中。在这种情况下，例如，能够使所述脱气机构成为在空间上连接被所述传播槽和保持所述原料容器的所述支撑机构包围的空间的内部与外部的结构。
[0016]或者，所述脱气机构可以设置在所述循环机构中。
[0017]这样，脱气机构只要是能够存在中间液的部位，则可以设置于任何位置。
[0018]另外，在本专利技术中提供一种制膜装置，其构成为，向制膜机供给原料雾，以使得在配置于该制膜机的基体基板上形成薄膜，其特征在于，具备：本专利技术的制膜用雾化装置；所述制膜机；以及供给机构，其构成为，利用载气向所述制膜机供给由所述制膜用雾化装置进行雾化而生成的所述原料雾。
[0019]根据这样的制膜装置，由于具备本专利技术的制膜用雾化装置，因此能够稳定地持续制膜，能够成为生产率较高的装置。
[0020]另外，在本专利技术中，提供一种制膜方法，向制膜机供给原料雾，在配置于该制膜机的基体基板上形成薄膜，其特征在于，包括以下步骤：利用本专利技术的制膜用雾化装置对原料液体进行雾化；混合所述雾化的原料液体和载气而形成混合气体；以及向基体基板供给所述混合气体进行制膜。
[0021]根据这样的制膜方法，由于具备本专利技术的制膜用雾化装置，因此能够稳定持续地进行需要更长时间的向大口径基板的制膜，能够以高生产率进行稳定的制膜。(三)有益效果
[0022]如上所述，根据本专利技术的制膜用雾化装置，可以成为能够持续高效地向原料液体传播超声波，能够稳定地进行原料液体的雾化的雾化装置。即，根据本专利技术的制膜用雾化装置，能够持续高效地进行原料液体的雾化。
[0023]另外，根据本专利技术的制膜装置，能够以高生产率进行稳定的制膜。
[0024]另外，根据本专利技术的制膜方法，能够以高生产率进行稳定的制膜。
附图说明
[0025]图1是表示本专利技术的制膜用雾化装置的一个方式的示意图。图2是表示本专利技术的制膜用雾化装置的另一方式的示意图。图3是表示本专利技术的制膜用雾化装置的又一方式的示意图。图4是表示本专利技术的制膜装置的一个方式的示意图。图5是表示本专利技术的制膜装置的另一方式的示意图。
具体实施方式
[0026]本专利技术涉及一种制膜用雾化装置、以及使用了该制膜用雾化装置的制膜装置以及制膜方法，该制膜用雾化装置用于制膜，利用来自超声波振子等超声波产生器的超声波对原料液体进行雾化。
[0027]如上所述，正在寻求开发一种能够持续高效地进行原料液体的雾化的制膜用雾化装置。
[0028]本专利技术人对上述技术问题进行了多次精心研究，结果发现，在利用超声波对原料液体进行雾化而生成原料雾的制膜用雾化装置中，通过设置使传播槽内的中间液循环的循环机构、向制膜用雾化装置的系统外排出中间液中的气体的脱气机构，从而能够使该中间液移动，以使得中间液中的气体朝向脱气机构，由此能够有效地向制膜用雾化装置的系统外排出中间液中的气体，从而完成了本专利技术。
[0029]即，本专利技术是一种制膜用雾化装置，其利用超声波对原料液体进行雾化而生成原料雾，其特征在于，具备：原料容器，其收纳所述原料液体；传播槽，其收纳作为用于向所述原料液体传播所述超声波的介质的中间液；支撑机构，其支撑所述原料容器以使得该原料容器的至少一部分位于所述中间液中；循环机构，其使所述中间液循环；超声波产生器，其产生所述超声波，并施加于所述传播槽；以及脱气机构，其向所述制膜用雾化装置的系统外排出所述中间液中的气体。
[0030]另外，本专利技术是一种制膜本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种制膜用雾化装置，其利用超声波对原料液体进行雾化而生成原料雾，其特征在于，具备：原料容器，其收纳所述原料液体；传播槽，其收纳作为用于向所述原料液体传播所述超声波的介质的中间液；支撑机构，其支撑所述原料容器以使得该原料容器的至少一部分位于所述中间液中；循环机构，其使所述中间液循环；超声波产生器，其产生所述超声波，并施加于所述传播槽；以及脱气机构，其向所述制膜用雾化装置的系统外排出所述中间液中的气体。2.根据权利要求1所述的制膜用雾化装置，其特征在于，从所述循环机构向所述传播槽注入所述中间液的注入口配置于比所述原料容器的底面低的位置。3.根据权利要求1或2所述的制膜用雾化装置，其特征在于，从所述传播槽向所述循环机构排出所述中间液的排出口配置于比所述原料容器的底面高的位置。4.根据权利要求1～3中任一项所述的制膜用雾化装置，其特征在于，所述原料容器具备水平的底面。5.根据权利要求1～4中任一项所述的制膜用...
【专利技术属性】
技术研发人员：桥上洋，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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