抗菌剂及其制备方法和抗菌组合物技术

本发明专利技术公开了一种抗菌剂及其制备方法和抗菌组合物，该制备方法首先制备获得CuI2‑

【技术实现步骤摘要】
抗菌剂及其制备方法和抗菌组合物


[0001]本专利技术属于高分子材料改性
，具体涉及一种抗菌剂及其制备方法，还涉及一种含有所述抗菌剂的抗菌组合物。

技术介绍

[0002]高分子材料的迅速发展，使得其功能性需求也越来越广泛，其中抗菌性便是其中一个重要的功能。目前，高分子材料抗菌性的实现，主要是通过向高分子材料中加入一定量的抗菌剂，从而使得高分子材料自身具有抑制和杀灭有害微生物的功能，使得其在使用过程中，能够有效地切断人类与致病菌的接触，减少疾病的传播。
[0003]目前应用在高分子材料中的抗菌剂主要包括无机抗菌剂、有机抗菌剂、天然抗菌剂和高分子抗菌剂等四大类，其中，无机抗菌剂由于其耐热性好、抗菌谱广、毒性低、不产生耐药性且安全性高等优点被广泛应用，但现有的无机抗菌剂的开发已经到瓶颈期，获得更优异抗菌效果的无机抗菌剂成为目前行业内亟待解决的问题。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本专利技术有必要提供一种抗菌剂及其制备方法和抗菌组合物，该抗菌剂具有优异的抗菌效果，能够很好的提升聚合物复合材料的抗菌性能，以解决现有的无机抗菌剂抗菌能力有限，无法满足对某些有高抗菌要求领域的应用。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0006]本专利技术提供了一种抗菌剂的制备方法，包括以下步骤：
[0007]提供二氧化硅；
[0008]获取CuI2‑
SiO2：将所述二氧化硅、十六烷基三甲基氯化铵、碘化钾、硝酸铜、氨水和去离子水混合后，常温下搅拌10～12h，过滤、洗涤、干燥、研磨、过筛，得到CuI2‑
SiO2；
[0009]获取Cu
‑
CuI
‑
SiO2抗菌剂：将所述CuI2‑
SiO2和去离子水混合后，于卤钨灯下照射反应2～4h后，过滤、洗涤、干燥，得到Cu
‑
CuI
‑
SiO2抗菌剂。
[0010]进一步的，所述的提供二氧化硅的具体步骤为：将硅酸四乙酯、氨水、十二烷基硫酸钠和去离子水混合后，于50～70℃搅拌反应8～12h后，过滤、洗涤、干燥、研磨过筛，得到二氧化硅。
[0011]优选的，所述的提供二氧化硅的步骤中，所述硅酸四乙酯、氨水、十二烷基硫酸钠和去离子水的质量比为(60
‑
80)：(40
‑
50)：(0.1
‑
0.3)：(120
‑
160)。
[0012]进一步的，所述的提供二氧化硅的步骤中，所述干燥的温度为40～60℃，时间为6～8h；
[0013]所述研磨过筛的筛目数为1000目。
[0014]进一步的，所述的获取CuI2‑
SiO2的步骤中，所述二氧化硅、十六烷基三甲基氯化铵、碘化钾、硝酸铜、氨水和去离子水的质量比为(40
‑
50)：(1
‑
3)：(3
‑
5)：(20
‑
30)(18
‑
24)：(200
‑
240)。
[0015]进一步的，所述的获取CuI2‑
SiO2的步骤中，所述干燥的温度为50～70℃，时间为4～6h；
[0016]所述研磨过筛的筛目数为1000目。
[0017]进一步的，所述的获取Cu
‑
CuI
‑
SiO2抗菌剂的步骤中，所述CuI2‑
SiO2和去离子水的质量比为(30
‑
40)：(180
‑
220),采用的卤钨灯的功率为60
‑
100W。
[0018]进一步的，所述的获取Cu
‑
CuI
‑
SiO2抗菌剂的步骤中，所述干燥的温度为40～60℃，时间为6～8h。
[0019]本专利技术还提供了一种抗菌剂，采用如前述任一项所述的制备方法制得。
[0020]本专利技术还提供了一种抗菌组合物，其包括基体树脂，所述基体树脂选自聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺6中的一种，所述抗菌组合物中添加有如前所述的抗菌剂，其添加量在2wt％～4wt％。
[0021]与现有技术相比，本专利技术具有以下有益效果：
[0022]本专利技术创新性的制得一种组成为Cu
‑
CuI
‑
SiO2的抗菌剂，该抗菌剂能够附着在大肠杆菌的外膜上，在光照条件下可以产生
·
O2‑
和
·
OH自由基，这些自由基可以攻击大肠杆菌的细胞壁的不饱和键，或者抽取H原子产生新的自由基，从而激发链式反应，分解细胞壁。并且随着时间的增加，催化剂纳米粒子进入细胞内部，对细胞造成更大的伤害，受损的细胞发生变形，
·
O2‑
等自由基可以与细菌的细胞质反应引起酶的变化，导致细胞内部结构的紊乱，使得细胞质流出，最终导致细胞的形态变化，致使细菌死亡，实现高效抗菌。
[0023]该抗菌剂可添加到高分子树脂体系中，明显提高高分子树脂的抗菌能力。
具体实施方式
[0024]为了便于理解本专利技术，下面将结合具体的实施例对本专利技术进行更全面的描述。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本专利技术的公开内容理解的更加透彻全面。
[0025]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本专利技术。
[0026]以下实施例中所用的原料如下：
[0027]硅酸四乙酯，武汉华翔科洁生物技术有限公司；
[0028]氨水，济南鑫真源化工有限公司；
[0029]十二烷基硫酸钠，苏州万能化工有限公司；
[0030]去离子水，上海联试化工试剂有限公司；
[0031]十六烷基三甲基氯化铵，厦门先端科技有限公司；
[0032]碘化钾，郑州聚力化工产品有限公司；
[0033]硝酸铜，广州三昌化工有限公司；
[0034]PBT(型号2002U)，日本宝理；
[0035]PP(型号Z30S),茂名石化；
[0036]PE(型号5070)，盘锦乙烯；
[0037]PA6(型号CM1017)，日本东丽；
[0038]PS(型号350)。
[0039]此外，以下实施例中的制备过程中如无特别说明的，均为本领域现有技术中的常规手段，因此，不再详细赘述；以下实施方式中的份数如无特别的说明，均指重量份数。
[0040]以下抗细菌率测试采用(50mm
±
2mm)
×
(50mm
±
2mm)
×
(6mm
±
0.1mm)规格试本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抗菌剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：提供二氧化硅；获取CuI2‑
SiO2：将所述二氧化硅、十六烷基三甲基氯化铵、碘化钾、硝酸铜、氨水和去离子水混合后，常温下搅拌10～12h，过滤、洗涤、干燥、研磨、过筛，得到CuI2‑
SiO2；获取Cu
‑
CuI
‑
SiO2抗菌剂：将所述CuI2‑
SiO2和去离子水混合后，于卤钨灯下照射反应2～4h后，过滤、洗涤、干燥，得到Cu
‑
CuI
‑
SiO2抗菌剂。2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的提供二氧化硅的具体步骤为：将硅酸四乙酯、氨水、十二烷基硫酸钠和去离子水混合后，于50～70℃搅拌反应8～12h后，过滤、洗涤、干燥、研磨过筛，得到二氧化硅。3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述的提供二氧化硅的步骤中，所述硅酸四乙酯、氨水、十二烷基硫酸钠和去离子水的质量比为(60
‑
80)：(40
‑
50)：(0.1
‑
0.3)：(120
‑
160)。4.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述的提供二氧化硅的步骤中，所述干燥的温度为40～60℃，时间为6～8h；所述研磨过筛的筛目数为1000目。5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述的获取CuI2‑
SiO2的步骤中，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖雄兵，杨桂生，姚晨光，朱敏，计娉婷，赵鑫，
申请(专利权)人：合肥杰事杰新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：