一种镭射膜瑕疵检测方法、装置、系统及介质制造方法及图纸

技术编号:37428543 阅读:18 留言:0更新日期:2023-04-30 09:49
本发明专利技术公开了一种镭射膜瑕疵检测方法、装置、系统及介质,包括:获取待检测的镭射膜图像;对镭射膜图像进行条纹分割处理,确定镭射膜图像中的明条纹区域、暗条纹区域以及条纹过渡区域;按预设检测策略分别对明条纹区域、暗条纹区域以及条纹过渡区域进行瑕疵检测,得到各个区域的瑕疵检测结果,预设检测策略用于确定各个区域对应的瑕疵检测方式;根据各个区域的瑕疵检测结果,标记并展示镭射膜图像的瑕疵区域。通过对具有明暗相间条纹的镭射膜图像进行条纹分割,针对不同的条纹区域分别进行针对性的瑕疵检测,可消除不均匀光照对图像的影响且保留了原始图像的特征信息,降低了瑕疵检测的误判或漏判,有效提高了镭射膜瑕疵检测的准确性。确性。确性。

【技术实现步骤摘要】
一种镭射膜瑕疵检测方法、装置、系统及介质


[0001]本专利技术涉及机器视觉
,尤其涉及一种镭射膜瑕疵检测方法、装置、系统及介质。

技术介绍

[0002]镭射膜整体分为素面镭射膜、光柱镭射膜及全息定位特效或防伪镭射膜,在生产过程中可能会产生诸如粘版、蚊子印、全息图案残缺、色差、黑斑、白斑、水纹、褶皱、云彩花、麻点和光柱变形等外观质量缺陷,这些缺陷会导致印刷残次品甚至批量浪费,给镭射膜厂家带来直接经济损失和美誉度影响。因此对模压镭射膜的外观检测尤其重要。
[0003]由于镭射膜的镭射效果及全息防伪是应用光的干涉与衍射原理,将物体发出的光波干涉条纹的形式记录下来成为“镭射效果和全息图”,使得镭射膜在视觉成像中呈现对比度明显的明暗相间的干涉条纹、产品表面反光不一致导致图像亮暗分布不均匀、容易受到环境光干扰使得图像的质量参差不齐等特点。这些特点使得镭射膜在图像处理的瑕疵检测中带来困难,容易导致误判或者漏判,降低了镭射膜瑕疵检测的准确性。

技术实现思路

[0004]鉴于上述现有技术的不足,本专利技术的目的在于提供一种镭射膜瑕疵检测方法、装置、系统及介质,旨在提高镭射膜瑕疵检测的准确性。
[0005]本专利技术的技术方案如下:
[0006]一种镭射膜瑕疵检测方法,包括:
[0007]获取待检测的镭射膜图像;
[0008]对所述镭射膜图像进行条纹分割处理,确定所述镭射膜图像中的明条纹区域、暗条纹区域以及条纹过渡区域;
[0009]按预设检测策略分别对所述明条纹区域、暗条纹区域以及条纹过渡区域进行瑕疵检测,得到各个区域的瑕疵检测结果,所述预设检测策略用于确定各个区域对应的瑕疵检测方式;
[0010]根据各个区域的瑕疵检测结果,标记并展示所述镭射膜图像的瑕疵区域。
[0011]在一个实施例中,所述对所述镭射膜图像进行条纹分割处理,确定所述镭射膜图像中的明条纹区域、暗条纹区域以及条纹过渡区域,包括:
[0012]对所述镭射膜图像进行灰度值的直方图统计,得到对应的灰度直方图;
[0013]根据所述灰度直方图获取全局分割阈值;
[0014]将各个像素的灰度值与所述全局分割阈值进行比较,确定明条纹区域和暗条纹区域;
[0015]对所述明条纹区域和暗条纹区域进行形态学处理,确定条纹过渡区域。
[0016]在一个实施例中,所述对所述明条纹区域和暗条纹区域进行形态学处理,确定条纹过渡区域,包括:
[0017]通过形态学膨胀处理分别对所述明条纹区域和暗条纹区域进行扩展;
[0018]对扩展后的明条纹区域和暗条纹区域进行交运算,得到条纹过渡区域。
[0019]在一个实施例中,所述按预设检测策略分别对所述明条纹区域、暗条纹区域以及条纹过渡区域进行瑕疵检测,得到各个区域的瑕疵检测结果,包括:
[0020]对所述明条纹区域进行形态学底帽变换处理,根据变换得到的第一差值图像获取所述明条纹区域的瑕疵检测结果;
[0021]对所述暗条纹区域进行形态学顶帽变换处理,根据变换得到的第二差值图像获取所述暗条纹区域的瑕疵检测结果;
[0022]对所述条纹过渡区域进行局部阈值分割处理,提取得到所述条纹过渡区域的瑕疵检测结果。
[0023]在一个实施例中,所述对所述明条纹区域进行形态学底帽变换处理,根据变换得到的第一差值图像获取所述明条纹区域的瑕疵检测结果,包括:
[0024]根据预先创建的结构元对所述明条纹区域进行形态学底帽变换,得到第一差值图像;
[0025]对所述第一差值图像进行对比度放大与噪声过滤处理后,提取得到所述明条纹区域内的暗瑕疵。
[0026]在一个实施例中,所述对所述暗条纹区域进行形态学顶帽变换处理,根据变换得到的第二差值图像获取所述暗条纹区域的瑕疵检测结果,包括:
[0027]根据预先创建的结构元对所述暗条纹区域进行形态学顶帽变换,得到第二差值图像;
[0028]对所述第二差值图像进行对比度放大与噪声过滤处理后,提取得到所述暗条纹区域内的亮瑕疵。
[0029]在一个实施例中,所述对所述条纹过渡区域进行局部阈值分割处理,提取得到所述条纹过渡区域的瑕疵检测结果,包括:
[0030]通过预先创建的结构元对所述条纹过渡区域进行遍历检测;
[0031]每次遍历检测时均计算当前结构元内像素的平均灰度值和标准差;
[0032]根据所述平均灰度值和标准值计算得到局部分割阈值;
[0033]根据所述局部分割阈值对当前结构元内的像素进行瑕疵提取,得到当前结构元内的暗瑕疵和/或亮瑕疵。
[0034]一种镭射膜瑕疵检测装置,包括:
[0035]获取模块,用于获取待检测的镭射膜图像;
[0036]条纹分割模块,用于对所述镭射膜图像进行条纹分割处理,确定所述镭射膜图像中的明条纹区域、暗条纹区域以及条纹过渡区域;
[0037]瑕疵检测模块,用于按预设检测策略分别对所述明条纹区域、暗条纹区域以及条纹过渡区域进行瑕疵检测,得到各个区域的瑕疵检测结果,所述预设检测策略用于确定各个区域对应的瑕疵检测方式;
[0038]标记展示模块,用于根据各个区域的瑕疵检测结果,标记并展示所述镭射膜图像的瑕疵区域。
[0039]一种镭射膜瑕疵检测系统,所述系统包括至少一个处理器;以及,
[0040]与所述至少一个处理器通信连接的存储器;其中,
[0041]所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令,所述指令被所述至少一个处理器执行,以使所述至少一个处理器能够执行上述镭射膜瑕疵检测方法。
[0042]一种非易失性计算机可读存储介质,所述非易失性计算机可读存储介质存储有计算机可执行指令,该计算机可执行指令被一个或多个处理器执行时,可使得所述一个或多个处理器执行上述的镭射膜瑕疵检测方法。
[0043]有益效果:本专利技术公开了一种镭射膜瑕疵检测方法、装置、系统及介质,相比于现有技术,本专利技术实施例通过对具有明暗相间条纹的镭射膜图像进行条纹分割,针对不同的条纹区域分别进行针对性的瑕疵检测,可消除不均匀光照对图像的影响且保留了原始图像的特征信息,降低了瑕疵检测的误判或漏判,有效提高了镭射膜瑕疵检测的准确性。
附图说明
[0044]下面将结合附图及实施例对本专利技术作进一步说明,附图中:
[0045]图1为本专利技术实施例提供的镭射膜瑕疵检测方法的一个流程图;
[0046]图2为本专利技术实施例提供的镭射膜瑕疵检测方法中一个镭射膜全息条纹示意图;
[0047]图3为本专利技术实施例提供的镭射膜瑕疵检测方法中一个条纹区域定位示意图;
[0048]图4为本专利技术实施例提供的镭射膜瑕疵检测方法中一个镭射膜全息条纹瑕疵检测示意图;
[0049]图5为本专利技术实施例提供的镭射膜瑕疵检测装置的功能模块示意图;
[0050]图6为本专利技术实施例提供的镭射膜瑕疵检测系统的硬件结构示意图。
具体实本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镭射膜瑕疵检测方法,其特征在于,包括:获取待检测的镭射膜图像;对所述镭射膜图像进行条纹分割处理,确定所述镭射膜图像中的明条纹区域、暗条纹区域以及条纹过渡区域;按预设检测策略分别对所述明条纹区域、暗条纹区域以及条纹过渡区域进行瑕疵检测,得到各个区域的瑕疵检测结果,所述预设检测策略用于确定各个区域对应的瑕疵检测方式;根据各个区域的瑕疵检测结果,标记并展示所述镭射膜图像的瑕疵区域。2.根据权利要求1所述的镭射膜瑕疵检测方法,其特征在于,所述对所述镭射膜图像进行条纹分割处理,确定所述镭射膜图像中的明条纹区域、暗条纹区域以及条纹过渡区域,包括:对所述镭射膜图像进行灰度值的直方图统计,得到对应的灰度直方图;根据所述灰度直方图获取全局分割阈值;将各个像素的灰度值与所述全局分割阈值进行比较,确定明条纹区域和暗条纹区域;对所述明条纹区域和暗条纹区域进行形态学处理,确定条纹过渡区域。3.根据权利要求2所述的镭射膜瑕疵检测方法,其特征在于,所述对所述明条纹区域和暗条纹区域进行形态学处理,确定条纹过渡区域,包括:通过形态学膨胀处理分别对所述明条纹区域和暗条纹区域进行扩展;对扩展后的明条纹区域和暗条纹区域进行交运算,得到条纹过渡区域。4.根据权利要求1所述的镭射膜瑕疵检测方法,其特征在于,所述按预设检测策略分别对所述明条纹区域、暗条纹区域以及条纹过渡区域进行瑕疵检测,得到各个区域的瑕疵检测结果,包括:对所述明条纹区域进行形态学底帽变换处理,根据变换得到的第一差值图像获取所述明条纹区域的瑕疵检测结果;对所述暗条纹区域进行形态学顶帽变换处理,根据变换得到的第二差值图像获取所述暗条纹区域的瑕疵检测结果;对所述条纹过渡区域进行局部阈值分割处理,提取得到所述条纹过渡区域的瑕疵检测结果。5.根据权利要求4所述的镭射膜瑕疵检测方法,其特征在于,所述对所述明条纹区域进行形态学底帽变换处理,根据变换得到的第一差值图像获取所述明条纹区域的瑕疵检测结果,包括:根据预先创建的结构元对所述明条纹区域进行形态学底帽变换,得到第一差值图像;对所述第一差值图像进行对比度放大与噪声过滤处理后,提取得到所...

【专利技术属性】
技术研发人员:彭定明梁为民刘国义
申请(专利权)人:重庆市科之拓视觉科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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