电镀含氰废水脱氰处理系统技术方案

本实用新型专利技术公开了电镀含氰废水脱氰处理系统，解决了现有技术中杂盐引入量大和产生有毒气体的技术问题。电镀含氰废水脱氰处理系统，包括：第一去氰单元，用于使电镀含氰废水中的氰化物被氧化去除，输出一级反应物；所述第一去氰单元包括一级反应池以及向一级反应池中加入氧化剂的第一加药设备；第二去氰单元，用于使一级反应物中的氰化物被电解去除，输出二级反应物；所述第二去氰单元包括二级反应池、向二级反应池中加入第一pH调节剂的第二加药设备以及对二级反应池的反应物进行电解的电解设备；固液分离单元，用于使二级反应物固液分离，输出产水。输出产水。输出产水。

【技术实现步骤摘要】
电镀含氰废水脱氰处理系统


[0001]本技术涉及电镀含氰废水脱氰的
，具体而言，涉及电镀含氰废水脱氰处理系统。

技术介绍

[0002]氰根离子作为一种强络合剂，可与众多金属离子形成络合物，进而被广泛应用于冶金和电镀行业。在电镀行业镀铜工艺中，由于氰化镀铜操作简便，且所获得的镀层表面光亮、结晶细微、孔隙率低、容易抛光、具有良好的导电性和可焊性。因此，尽管氰化物具有毒性，且会造成环境危害，氰化镀铜仍被广泛应用，因而产生了大量的电镀含氰废水。
[0003]氰化物的毒性强，作用快，可通过皮肤、呼吸吸入、腔道黏膜、口服等途径进入人体内部，解析出的氰根离子可与细胞色素酶内的三价铁离子结合，使其失去传递氧的作用，阻碍细胞呼吸作用，引起组织缺氧窒息。因此，我国电镀废水排放标准中严格限制了废水中氰化物的含量。
[0004]目前，电镀含氰废水的处理方法主要为碱式氯化法，但碱式氯化法的杂盐引入量大，不符合电镀废水零排放运行理念，且处理过程中存在产生有毒气体氯化氰的潜在危险。因此，急需一种安全、高效的电镀含氰废水的处理方法。

技术实现思路

[0005]本技术的主要目的在于提供电镀含氰废水脱氰处理系统，以解决现有技术中杂盐引入量大和产生有毒气体的技术问题。
[0006]为了实现上述目的，本技术提供了电镀含氰废水脱氰处理系统，技术方案如下：
[0007]电镀含氰废水脱氰处理系统，包括：第一去氰单元，用于使电镀含氰废水中的氰化物氧化去除，输出一级反应物；所述第一去氰单元包括一级反应池以及向一级反应池中加入氧化剂的第一加药设备；第二去氰单元，用于使一级反应物中的氰化物电解去除，输出二级反应物；所述第二去氰单元包括二级反应池、向二级反应池中加入第一pH调节剂的第二加药设备以及对二级反应池的反应物进行电解的电解设备；固液分离单元，用于使二级反应物固液分离，输出产水。
[0008]作为本技术的进一步改进：所述第一去氰单元还包括向一级反应池中加入第二pH调节剂的第三加药设备。
[0009]作为本技术的进一步改进：所述第一去氰单元还包括对一级反应池内反应物的pH进行检测的第一pH计。
[0010]作为本技术的进一步改进：所述第一去氰单元还包括对一级反应池内反应物的氧化还原电位进行检测的氧化还原电位检测仪。
[0011]作为本技术的进一步改进：所述第二去氰单元还包括对二级反应池内反应物的pH进行检测的第二pH计。
[0012]作为本技术的进一步改进：所述第二去氰单元还包括对二级反应池内反应物进行过滤的第一过滤设备，所述电解设备对第一过滤设备过滤得到的清液进行电解。
[0013]作为本技术的进一步改进：所述固液分离单元包括沉淀池、向沉淀池中加入絮凝剂的第四加药设备以及向沉淀池中加入第三pH调节剂的第五加药设备。
[0014]作为本技术的进一步改进：所述固液分离单元还包括对沉淀池内反应物的pH进行检测的第三pH计。
[0015]作为本技术的进一步改进：所述固液分离单元还包括对沉淀池内的反应物进行过滤的第二过滤设备。
[0016]作为本技术的进一步改进：脱氰处理系统还包括调节池，所述调节池用于储存电镀含氰废水。
[0017]本技术首先通过第一去氰单元的氧化反应去除电镀含氰废水中的游离氰化物和弱络合氰化物，然后通过第二去氰单元的电解作用去除电镀含氰废水中的强络合氰化物，不仅使得脱氰率显著提升，而且杂盐引入量少，大大的减少了固废量，处理所得产水能够达标回用，不产生有害气体。可见，本技术的电镀含氰废水脱氰处理系统的结构非常简单，投入和运行成本低，具有明显高于传统碱式氯化法的实用性，非常适合于在电镀含氰废水尤其是电镀强络合含氰废水系统中推广使用。
[0018]下面结合附图和具体实施方式对本技术做进一步的说明。本技术附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0019]构成本技术的一部分的附图用来辅助对本技术的理解，附图中所提供的内容及其在本技术中有关的说明可用于解释本技术，但不构成对本技术的不当限定。
[0020]在附图中：
[0021]图1为本技术的电镀含氰废水脱氰处理系统的实施例的结构示意图。
[0022]在以上附图中：
[0023]100
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一级反应池，110
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第一加药设备，120
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第三加药设备，130
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第一pH计，140
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氧化还原电位检测仪，200
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二级反应池，210
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第二加药设备，220
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第一过滤设备，230
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电解设备，240
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第二pH计，300
‑
沉淀池，310
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第四加药设备，320
‑
第五加药设备，330
‑
第三pH计，340
‑ꢀ
第二过滤设备。
具体实施方式
[0024]下面结合附图对本技术进行清楚、完整的说明。本领域普通技术人员在基于这些说明的情况下将能够实现本技术。在结合附图对本技术进行说明前，需要特别指出的是：
[0025]本技术中在包括下述说明在内的各部分中所提供的技术方案和技术特征，在不冲突的情况下，这些技术方案和技术特征可以相互组合。
[0026]此外，下述说明中涉及到的本技术的实施例通常仅是本技术一部分的实
施例，而不是全部的实施例。因此，基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。
[0027]关于本技术中术语和单位。本技术的说明书和权利要求书及有关的部分中的术语“包括”、“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
[0028]图1为本技术的电镀含氰废水脱氰处理系统的实施例的结构示意图。
[0029]如图1所示，电镀含氰废水脱氰处理系统包括调节池、第一去氰单元、第二去氰单元和固液分离单元；所述调节池用于储存电镀含氰废水；所述第一去氰单元用于使电镀含氰废水中的氰化物氧化去除，输出一级反应物；所述第二去氰单元用于使一级反应物中的氰化物电解去除，输出二级反应物；所述固液分离单元用于使二级反应物固液分离，输出产水。
[0030]所述第一去氰单元包括一级反应池100、向一级反应池100中加入氧化剂的第一加药设备110、向一级反应池100中加入第二pH调节剂的第三加药设备120、对一级反应池100内反应物的pH进行检测的第一pH计130以及对一级反应池100内反应物的氧化还原电位进行检测的氧化还原电位检测仪140。若电镀含氰废水本身的pH在9以上，则第三本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.电镀含氰废水脱氰处理系统，其特征在于：包括：第一去氰单元，用于使电镀含氰废水中的氰化物氧化去除，输出一级反应物；所述第一去氰单元包括一级反应池(100)以及向一级反应池(100)中加入氧化剂的第一加药设备(110)；第二去氰单元，用于使一级反应物中的氰化物电解去除，输出二级反应物；所述第二去氰单元包括二级反应池(200)、向二级反应池(200)中加入第一pH调节剂的第二加药设备(210)以及对二级反应池(200)的反应物进行电解的电解设备(230)；固液分离单元，用于使二级反应物固液分离，输出产水。2.如权利要求1所述的电镀含氰废水脱氰处理系统，其特征在于：所述第一去氰单元还包括向一级反应池(100)中加入第二pH调节剂的第三加药设备(120)。3.如权利要求2所述的电镀含氰废水脱氰处理系统，其特征在于：所述第一去氰单元还包括对一级反应池(100)内反应物的pH进行检测的第一pH计(130)。4.如权利要求1所述的电镀含氰废水脱氰处理系统，其特征在于：所述第一去氰单元还包括对一级反应池(100)内反应物的氧化还原电位进行检测的氧化还原电位检测仪(140)。5.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋岱峰，王志刚，
申请(专利权)人：成都美富特环保产业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：