本实用新型专利技术公开了一种磁流变抛光装置，磁流变抛光装置包括底座、抛光盘、磁性组件和弹性组件，抛光盘具有容纳磁流变液的容纳腔，抛光盘包括外抛光盘和内抛光盘，外抛光盘环绕在内抛光盘的外周，其中，外抛光盘固定在底座上，内抛光盘可活动地安装在底座上，磁性组件位于内抛光盘的下方，弹性组件包括弹性件，弹性件位于内抛光盘和底座之间。根据本实用新型专利技术的磁流变抛光装置，使得工件表面所受抛光力度较为均匀，较好地降低工件表面出现深划痕出现的风险，较好地提升工件表面的质量，较好地提升抛光效率。光效率。光效率。
【技术实现步骤摘要】
磁流变抛光装置
[0001]本技术涉及超精密加工
，尤其是涉及一种磁流变抛光装置。
技术介绍
[0002]光学元件(透镜、反射镜)作为光学器件的核心元件之一，要达到良好的光学性能，其表面精度需要达到超光滑程度(粗糙度Ra达到1nm以下)，面形精度也有较高的要求(形状精度达到0.5微米以下)。而在LED领域，单晶硅(Si)、单晶锗(Ge)、砷化镓(GaAs)、单晶碳化硅(SiC)和蓝宝石(Al2O3)等作为半导体衬底材料，同样要求具有超平坦和超光滑的表面(粗糙度Ra达到0.3nm以下)才能满足外延膜生长的要求，并且要求无缺陷、无损伤。无论是光学平面元件还是半导体基片，均需要进行平坦化加工，其传统工艺主要是高效研磨、超精密抛光、化学机械抛光和磁流变抛光，其加工质量和精度直接决定了光学器件及半导体器件的性能。磁流变抛光方法虽属于柔性接触抛光，但在磁场强度较大区域工件表面依旧受到较大的抛光力，抛光力过大易在工件表面产生深划痕，严重影响抛光后的表面质量。现有抛光盘面位置不可变动，工件在抛光过程中受到的抛光力不均匀。
技术实现思路
[0003]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术的一个目的在于提出一种磁流变抛光装置，所述磁流变抛光装置使得工件表面所受抛光力度较为均匀，较好地降低了工件表面出现深划痕出现的风险，较好地提升了工件表面的质量，较好地提升了抛光效率。
[0004]根据本技术实施例的磁流变抛光装置，所述磁流变抛光装置包括底座、抛光盘、磁性组件和弹性组件，所述抛光盘具有容纳磁流变液的容纳腔，所述抛光盘包括外抛光盘和内抛光盘，外抛光盘环绕在所述内抛光盘的外周，其中，所述外抛光盘固定在所述底座上，所述内抛光盘可活动地安装在所述底座上，所述磁性组件位于所述内抛光盘的下方，所述弹性组件包括弹性件，所述弹性件位于所述内抛光盘和所述底座之间。
[0005]根据本技术实施例的磁流变抛光装置，通过将抛光盘构造为外抛光盘和内抛光盘，并使得内抛光盘下方设置磁性组件和弹性组件，使得工件运动到内抛光盘上方时，内抛光盘可以向下活动，以使得内抛光盘与工件之间的间隙变大，进而使得内抛光盘上方的磁流变抛光垫对工件表面的压力和剪切力减弱，工件所受抛光力度降低，从而使得工件不易被磁流变抛光装置刮花表面或在表面留下深划痕，并且，还由于内抛光盘可以上下活动，可以有利于使得内抛光盘上方的磁流变抛光垫也可以恢复到原有形态，磁流变抛光垫可以较好地对工件进行抛光作业，能较好地提升抛光效率。
[0006]另外，根据本技术磁流变抛光装置，还可以具有如下附加的技术特征：
[0007]在本技术的一些实施例中，所述底座上具有开口向上的滑槽，所述磁性组件包括磁芯套和磁芯，所述磁芯安装在所述磁芯套上，所述磁芯套可上下活动地安装在所述滑槽内，其中，所述磁芯套的上端固定在所述内抛光盘的下端面，所述弹性件连接在所述底
座和所述磁芯套之间。
[0008]在本技术的一些实施例中，所述磁流变抛光装置还包括柔性结构，所述柔性结构包括密封件，所述密封件位于所述外抛光盘和所述内抛光盘之间，以密封所述外抛光盘和所述内抛光盘之间的间隙。
[0009]在本技术的一些实施例中，所述柔性结构还包括第一柔性件，所述第一柔性件位于所述外抛光盘和所述底座之间，第二柔性件，所述第二柔性件位于所述内抛光盘和所述磁芯套之间。
[0010]在本技术的一些实施例中，所述柔性结构由橡胶材料一体成型。
[0011]在本技术的一些实施例中，所述磁性组件还包括限位结构，所述限位结构用于限制所述磁芯套在上下方向上的位置。
[0012]在本技术的一些实施例中，所述限位结构包括限位块，所述限位块安装在所述滑槽的内壁上，所述磁芯套上设置有与所述限位块配合的挡块。
[0013]在本技术的一些实施例中，所述磁芯为磁铁。
[0014]在本技术的一些实施例中，所述弹性件为弹簧、弹片、橡胶中的至少一种。
[0015]在本技术的一些实施例中，所述磁流变抛光装置还包括驱动组件，所述驱动组件用于驱动所述底座转动。
[0016]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0017]本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0018]图1是根据本技术实施例的工件位于外抛光盘上方时的剖视图。
[0019]图2是根据本技术实施例的工件位于内抛光盘上方时的剖视图。
[0020]附图标记：
[0021]磁流变抛光装置100，
[0022]底座1，内抛光盘2，外抛光盘3，磁流变液4，弹性件5，磁芯套6，磁芯7，密封件8，第一柔性件9，第二柔性件10，限位块11，挡块12，工件13，磁流变抛光垫14。
具体实施方式
[0023]下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0024]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限
定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0025]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0026]下面参考图1
‑
图2描述根据本技术实施例的磁流变抛光装置100。
[0027]参考附图1所示，根据本技术实施例的磁流变抛光装置100包括底座1、抛光盘、磁性组件和弹性组件，抛光盘具有容纳磁流变液4的容纳腔，抛光盘包括外抛光盘3和内抛光盘2，外抛光盘3环绕在内抛光盘2的外周，其中，外抛光盘3固定在底座1上，内抛光盘2可活动地安装在底座1上，磁性组件位于内抛光盘2的下方，弹性组件包括弹性件5，弹性件5位于本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种磁流变抛光装置，其特征在于，包括：底座(1)；抛光盘，所述抛光盘具有容纳磁流变液(4)的容纳腔，所述抛光盘包括外抛光盘(3)和内抛光盘(2)，外抛光盘(3)环绕在所述内抛光盘(2)的外周，其中，所述外抛光盘(3)固定在所述底座(1)上，所述内抛光盘(2)可活动地安装在所述底座(1)上；磁性组件，所述磁性组件位于所述内抛光盘(2)的下方；弹性组件，所述弹性组件包括弹性件(5)，所述弹性件(5)位于所述内抛光盘(2)和所述底座(1)之间。2.根据权利要求1所述的磁流变抛光装置(100)，其特征在于，所述底座(1)上具有开口向上的滑槽，所述磁性组件包括磁芯套(6)和磁芯(7)，所述磁芯(7)安装在所述磁芯套(6)上，所述磁芯套(6)可上下活动地安装在所述滑槽内，其中，所述磁芯套(6)的上端固定在所述内抛光盘(2)的下端面，所述弹性件(5)连接在所述底座(1)和所述磁芯套(6)之间。3.根据权利要求2所述的磁流变抛光装置(100)，其特征在于，还包括柔性结构，所述柔性结构包括：密封件(8)，所述密封件(8)位于所述外抛光盘(3)和所述内抛光盘(2)之间，以密封所述外抛光盘(3)和所述内抛光盘(2)之间的间隙。...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄蓓，刘娜，段岷星，周元清，兰天，杨宏，
申请(专利权)人：广州汽车集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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