一种矿用摄像头污渍自动检测清洗装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种矿用摄像头污渍自动检测清洗装置及方法，属于煤炭开采及煤矿安全技术领域，包括控制单元、朝向摄像头镜面设置的污渍检测单元、设置在摄像头下方的污渍清洗单元；污渍清洗单元包括设置于摄像头运动范围内的水槽、安装在水槽上的超声波发生器、位于水槽顶部的水槽盖，水槽盖连接有水槽盖开启机构；污渍检测单元、超声波发生器、水槽盖开启机构与控制单元相连；污渍检测单元检测到摄像头镜面有污渍时，控制单元控制水槽盖开启机构打开水槽盖，并开启超声波发生器，控制摄像头向下运动直至其镜面浸没在水槽内的清洗介质中。本发明专利技术实现了摄像头在井下工作状况下出现镜面污渍时的自动检测和自动清洗，保证了摄像头的可靠性和矿井安全生产。的可靠性和矿井安全生产。的可靠性和矿井安全生产。

【技术实现步骤摘要】
一种矿用摄像头污渍自动检测清洗装置及方法


[0001]本专利技术属于煤炭开采及煤矿安全
，涉及一种矿用摄像头污渍自动检测清洗装置及方法。

技术介绍

[0002]矿用摄像头在煤矿安全生产中起到至关重要的作用，矿用摄像头采集到的图像数据直接影响矿井安全，特别是矿井生产面向无人化、智能化和自动化的发展趋势。
[0003]目前，还没有煤矿井下高效摄像头清洗方法或装备。名称为《一种自带清理功能的矿用摄像头》、文献号为CN110650283A的专利文献公开了一种自带清理功能的摄像头装置，但该装置也未能解决该问题。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本申请的目的在于提供一种矿用摄像头污渍自动检测清洗装置及方法，以实现摄像头在井下工作状况下出现镜面污渍时的自动检测和自动清洗。
[0005]为达到上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
[0006]一种矿用摄像头污渍自动检测清洗装置，包括控制单元、朝向摄像头镜面设置的污渍检测单元、设置在摄像头下方的污渍清洗单元；污渍清洗单元包括设置于摄像头运动范围内的水槽、安装在水槽上的超声波发生器、位于水槽顶部的水槽盖，水槽盖连接有水槽盖开启机构以打开和关闭水槽盖；污渍检测单元、超声波发生器、水槽盖开启机构与控制单元相连；污渍检测单元检测到摄像头镜面有污渍时，控制单元控制水槽盖开启机构打开水槽盖，并开启超声波发生器，控制摄像头向下运动直至其镜面浸没在水槽内的清洗介质中，以实现自动清洗。
[0007]可选地，所述水槽盖与水槽滑动连接，水槽盖开启机构包括丝杆螺母副，丝杆螺母副的丝杆设在水槽的一侧，丝杆螺母副的螺母与水槽盖相连，丝杠螺母副的丝杆连接有旋转驱动装置以驱动其旋转。
[0008]可选地，所述丝杆螺母副的丝杆转动设置在固定板上，固定板固定在水箱侧面或通过置于地面的支架支撑。
[0009]可选地，所述污渍检测单元包括朝向摄像头镜面设置的表面检测仪和设置在水槽盖上侧的安装架，表面检测仪安装在安装架上。
[0010]可选地，所述表面检测仪斜向上朝向摄像头镜面设置。
[0011]可选地，摄像头安装在呈L型的安装板的顶端，水槽位于安装板的底端上侧面。
[0012]一种矿用摄像头污渍自动检测清洗方法，应用如上述所述的矿用摄像头污渍自动检测清洗装置，包括以下步骤：
[0013]S1摄像头正常工作时，污渍检测单元检测摄像头镜面的污渍；
[0014]S2检测到摄像头镜面污渍时，启动水槽盖开启机构以打开水槽盖，摄像头向下运动直至其镜面浸没在水槽内的清洗介质中；
[0015]S3控制单元控制污渍清洗单元清洗摄像头镜面；
[0016]S4完成清洗后，控制单元控制水槽盖开启机构关闭水槽盖。
[0017]本专利技术的有益效果在于：
[0018]本专利技术实现了摄像头在井下工作状况下出现镜面污渍时的自动检测和自动清洗，保证了摄像头的可靠性和矿井安全生产。
[0019]本专利技术的其他优点、目标和特征在某种程度上将在随后的说明书中进行阐述，并且在某种程度上，基于对下文的考察研究对本领域技术人员而言将是显而易见的，或者可以从本专利技术的实践中得到教导。本专利技术的目标和其他优点可以通过下面的说明书来实现和获得。
附图说明
[0020]为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术作优选的详细描述，其中：
[0021]图1为本专利技术一种矿用摄像头污渍自动检测清洗装置的结构示意图一；
[0022]图2为本专利技术一种矿用摄像头污渍自动检测清洗装置的结构示意图二；
[0023]图3为摄像头镜面污渍检测时的示意图；
[0024]图4为摄像头镜面污渍清洗时的示意图；
[0025]图5为水槽盖开启机构的结构示意图；
[0026]图6为摄像头污渍清洗单元的结构示意图。
[0027]附图标记：摄像头组件1、污渍检测单元2、水槽盖开启机构3、污渍清洗单元4、控制单元5、电机31、联轴器32、支撑座33、丝杆34、移动平台35、固定板36、安装板41、水槽42、水槽盖43、超声波发生器组44、滑块一45、滑轨座一46、滑块二47、滑轨座二48。
具体实施方式
[0028]以下通过特定的具体实例说明本专利技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其他优点与功效。本专利技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本专利技术的精神下进行各种修饰或改变。需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本专利技术的基本构想，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0029]其中，附图仅用于示例性说明，表示的仅是示意图，而非实物图，不能理解为对本专利技术的限制；为了更好地说明本专利技术的实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。
[0030]本专利技术实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件；在本专利技术的描述中，需要理解的是，若有术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利技术的限制，对于本领域的普通技术
人员而言，可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。
[0031]参阅图1～6，一种矿用摄像头污渍自动检测清洗装置，包括控制单元5、朝向摄像头镜面设置的污渍检测单元2、设置在摄像头下方的污渍清洗单元4；污渍清洗单元4包括设置于摄像头运动范围内的水槽42、安装在水槽42上的超声波发生器、位于水槽42顶部的水槽盖43，水槽盖43连接有水槽盖开启机构3以打开和关闭水槽盖43；污渍检测单元2、超声波发生器、水槽盖开启机构3与控制单元5相连；污渍检测单元2检测到摄像头镜面有污质时，控制单元5控制水槽盖开启机构3打开水槽盖43，并开启超声波发生器，控制摄像头向下运动直至其镜面浸没在水槽42内的清洗介质中，以实现自动清洗。
[0032]可选地，水槽盖43与水槽42滑动连接，水槽盖开启机构3包括丝杆螺母副，丝杆螺母副的丝杆34设在水槽42的一侧，丝杆螺母副的螺母与水槽盖43相连，丝杠螺母副的丝杆34连接有旋转驱动装置以驱动其旋转；丝杆螺母副的丝杆34转动设置在固定板36上，固定板36固定在水箱侧面或通过置于地面的支架支撑；污渍检测单元2包括朝向摄像头镜面设置的表面检测仪和设置在水槽盖43上侧的安装架，表面检测仪安装在安装架上；表面检测仪斜向上朝向摄像头镜面设置；摄像头安装在呈L型的安装板41的顶端，水槽42位于在安装板41的底端上侧面。
[0033]一种矿用摄像头污渍自动检测清洗方法，应用如上述所述的矿用摄像头污渍自动检测本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种矿用摄像头污渍自动检测清洗装置，其特征在于：包括控制单元、朝向摄像头镜面设置的污渍检测单元、设置在摄像头下方的污渍清洗单元；污渍清洗单元包括设置于摄像头运动范围内的水槽、安装在水槽上的超声波发生器、位于水槽顶部的水槽盖，水槽盖连接有水槽盖开启机构以打开和关闭水槽盖；污渍检测单元、超声波发生器、水槽盖开启机构与控制单元相连；污渍检测单元检测到摄像头镜面有污渍时，控制单元控制水槽盖开启机构打开水槽盖，并开启超声波发生器，控制摄像头向下运动直至其镜面浸没在水槽内的清洗介质中以实现自动清洗。2.根据权利要求1所述的一种矿用摄像头污渍自动检测清洗装置，其特征在于：所述水槽盖与水槽滑动连接，水槽盖开启机构包括丝杆螺母副，丝杆螺母副的丝杆设在水槽的一侧，丝杆螺母副的螺母与水槽盖相连，丝杠螺母副的丝杆连接有旋转驱动装置以驱动其旋转。3.根据权利要求2所述的一种矿用摄像头污渍自动检测清洗装置，其特征在于：所述丝杆螺母副的丝杆转动设置在固定板上，固定板固定在水...

【专利技术属性】
技术研发人员：隆清明，瞿宝华，陈德敏，邱飞，曾银松，张卫东，宋薪锞，常宇，饶家龙，刘娟，杨娟，兰祥云，张森林，
申请(专利权)人：中煤科工集团重庆研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：